CN107682597B

CN107682597B - 成像方法、成像装置及电子设备

Info

Publication number: CN107682597B
Application number: CN201710778418.9A
Authority: CN
Inventors: 杜琳
Original assignee: Beijing Xiaomi Mobile Software Co Ltd
Current assignee: Beijing Xiaomi Mobile Software Co Ltd
Priority date: 2017-09-01
Filing date: 2017-09-01
Publication date: 2020-08-07
Anticipated expiration: 2037-09-01
Also published as: CN107682597A

Abstract

本发明公开是关于一种成像方法、成像装置及电子设备。其中，上述成像方法包括：获取图像传感器中的成像子区对电磁波信号反射形成反射电磁波信号确定所述入射光线的光线信息，并根据所述光线信息形成的预览图像确定图像的至少一个区域，使得成像子区可在垂直于入射光线的方向上朝所述区域运动，以增加所述成像子区在所述区域的分布密度，使图像的主要区域的成像质量更高。其中，所述成像子区可在入射光线的照射下发生形变，上述反射电磁波信号随之发生变化，因此便于确定入射光线的光线信息。

Description

成像方法、成像装置及电子设备

技术领域

本发明公开涉及电子技术领域，尤其涉及成像方法、成像装置及电子设备。

背景技术

在相关技术的相机等摄像装置中，图像传感器多通过感光单元接收入射光线，并将光线信息转化成电子信号进行保存。

拍照时，我们往往会期待照片有想要表达的主题和衬托主题的次要内容。对于主题区域，需要为其分配更多的感光单元进行数据存储，而对于次要内容则可分配稍少的感光单元进行数据存储。通过上述方法可以获得主次分明的图片，因此成为图像传感器的研究热点。

发明内容

为克服相关技术中存在的问题，本公开提供一种成像方法、成像装置及电子设备。

根据本公开的第一方面，提出一种成像方法，该方法包括：

获取反射电磁波信号，所述反射电磁波信号由图像传感器中的成像子区对电磁波信号反射形成；其中，所述图像传感器包括若干成像子区，所述成像子区可在入射光线的照射下发生形变；

根据所述反射电磁波信号确定所述入射光线的光线信息；

根据所述光线信息形成预览图像；

根据所述光线信息形成预览图像，确定至少一个区域；

控制所述成像子区在垂直于入射光线的方向上朝所述区域运动，以增加所述成像子区在所述区域的分布密度。

可选的，根据所述反射电磁波信号确定所述入射光线的光线信息，包括：

对所述反射电磁波信号进行解调，以获得第一信号；

根据所述第一信号恢复出所述入射光线的光线信息。

可选的，所述成像子区包括：

感光层，接收所述入射光线，并发生与所述入射光线的光线信息对应的形变；

反射层，发生与所述感光层对应的形变，并反射与所述入射光线对应的反射电磁波信号。

向监测模型发送所述反射电磁波信号，所述监测模型的训练样本包括预先获得的反射电磁波信号与感光层的形变参数之间的数据对；

接收所述监测模型输出的感光层的形变参数；

根据所述形变参数确定所述入射光线的光线信息。

可选的，至少两个所述成像子区的形变属性不同；

和/或，至少两个所述成像子区的电磁波信号反射特性不同。

可选的，所述光线信息包括：入射光线的强度、颜色、极化方向中至少之一。

可选的，所述感光层和所述反射层的形变包括形状变化、面积变化、密度变化、光滑程度变化中至少之一。

可选的，根据所述光线信息形成预览图像，确定至少一个区域，包括以下方法中至少之一：

根据预览图像的细节丰富程度确定ROI区域；

根据预览图像的边缘检测数据确定ROI区域；

根据预览图像的亮度和/或颜色的频率和/或颜色的梯度确定ROI区域。

可选的，控制所述成像子区在垂直于入射光线的方向上朝所述区域运动，包括：

为至少一个所述成像子区施加外场；

利用所述外场向所述成像子区施加作用力，以使所述成像子区在垂直于入射光线的方向上朝所述区域运动。

可选的，所述外场包括：磁场、电场、光场中至少之一。

根据本公开的第二方面，提出一种成像装置，该成像装置包括：

获取单元，获取反射电磁波信号，所述反射电磁波信号由图像传感器中的成像子区对电磁波信号反射形成；其中，所述图像传感器包括若干成像子区，所述成像子区可在入射光线的照射下发生形变；

处理单元，根据所述反射电磁波信号确定所述入射光线的光线信息；

确定单元，根据所述光线信息形成预览图像，确定至少一个区域；

执行单元，控制所述成像子区在垂直于入射光线的方向上朝所述区域运动，以增加所述成像子区在所述区域的分布密度。

可选的，所述处理单元包括：

第一处理子单元，对所述反射电磁波信号进行解调，以获得第一信号；

第二处理子单元，根据所述第一信号恢复出所述入射光线的光线信息。

可选的，所述成像子区包括：

感光层，感应入射光线的照射，并发生形变；

反射层，返回相应的反射电磁波信号，且可发生与所述感光层对应的形变。

可选的，所述处理单元包括：

发送子单元，向监测模型发送所述反射电磁波信号，所述监测模型的训练样本包括预先获得的反射电磁波信号与感光层的形变参数之间的数据对；

接收子单元，接收所述监测模型输出的感光层的形变参数；

第三处理子单元，根据所述形变参数确定所述入射光线的光线信息。

可选的，至少两个所述成像子区的形变属性不同；

和/或，至少两个所述成像子区的电磁波信号反射特性不同。

可选的，所述确定单元包括以下至少之一：

第一确定子单元，根据预览图像的细节丰富程度确定ROI区域；

第二确定子单元，根据预览图像的边缘检测数据确定ROI区域；

第三确定子单元，根据预览图像的亮度和/或颜色的频率和/或颜色的梯度确定ROI区域。

可选的，所述执行单元包括：

第一执行子单元，为至少一个所述成像子区施加外场；

第二执行子单元，利用所述外场向所述成像子区施加作用力，以使所述成像子区在垂直于入射光线的方向上朝所述区域运动。

可选的，所述外场包括：磁场、电场、光场中至少之一。

根据本公开的第三方面，提出一种电子设备，该电子设备包括：

处理器，所述处理器被配置为实现上述成像方法。

根据本公开的第四方面，提出一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机指令，该指令被处理器执行时实现上述成像方法的步骤。

本公开的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果：

由上述实施例可知，本公开通过获取图像传感器中的成像子区对电磁波信号反射形成反射电磁波信号确定所述入射光线的光线信息，并根据所述光线信息形成的预览图像确定图像的至少一个区域，使得成像子区可在垂直于入射光线的方向上朝所述区域运动，以增加所述成像子区在所述区域的分布密度，使图像在该区域的成像质量更高。其中，所述成像子区可在入射光线的照射下发生形变，上述反射电磁波信号随之发生变化，因此便于确定入射光线的光线信息。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。

图1a是本公开一示例性实施例的一种成像方法的流程图；

图1b是本公开一示例性实施例的一种成像子区的工作原理图；

图2a是本公开另一示例性实施例的一种成像方法的流程图；

图2b是本公开一示例性实施例的一种预览图像示意图；

图2c是本公开一示例性实施例的一种成像子区密度分布示意图；

图3a是本公开又一示例性实施例的一种成像方法的流程图；

图3b是本公开一示例性实施例的一种反射电磁波信号的常见变形模式示意图；

图4是本公开一示例性实施例的一种成像装置的结构示意图；

图5a是本公开一示例性实施例的一种处理单元的结构示意图；

图5b是本公开一示例性实施例的一种确定单元的结构示意图；

图5c是本公开一示例性实施例的一种执行单元的结构示意图；

图6是本公开另一示例性实施例的一种处理单元的结构示意图。

具体实施方式

这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本申请相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本申请的一些方面相一致的装置和方法的例子。

在本申请使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本申请。在本申请和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。还应当理解，本文中使用的术语“和/或”是指并包含一个或多个相关联的列出项目的任何或所有可能组合。

应当理解，尽管在本申请可能采用术语第一、第二、第三等来描述各种信息，但这些信息不应限于这些术语。这些术语仅用来将同一类型的信息彼此区分开。例如，在不脱离本申请范围的情况下，第一信息也可以被称为第二信息，类似地，第二信息也可以被称为第一信息。取决于语境，如在此所使用的词语“如果”可以被解释成为“在……时”或“当……时”或“响应于确定”。

在实际拍摄过程中，为图像的主要区域分配更多感光单元，而为次要区域分配稍少的感光单元，可以使图像传感器中有限的感光单元得以高效利用，进而拍摄出主次分明的图像。图1a是本公开一示例性实施例的一种成像方法的流程图，如图1a所示，该成像方法可以包括以下步骤：

在步骤101中，获取反射电磁波信号。

其中，图像传感器可以包括若干成像子区，该成像子区可在入射光线的照射下发生形变，上述反射电磁波信号由图像传感器中的成像子区对电磁波信号反射形成。具体的，如图1b所示，成像子区D可以包括感光层D1和反射层D2。感光层D1可用于接收入射光线H1，并发生与入射光线H1的光线信息对应的形变。反射层D2可发生与感光层D1对应的形变，并反射与入射光线H1对应的反射电磁波信号H2。接收器I接收上述反射电磁波信号H2 以进行处理。

需要说明的是，至少两个成像子区D的形变属性不同，和/或，至少两个成像子区D的电磁波信号反射特性不同，以对不同成像子区D所反射的电磁波信号进行定位和区分。其中，上述“和/或”包括三种情况，一种情况是至少两个成像子区D的形变属性不同，而成像子区D的电磁波反射特性相同的。另一种情况是至少两个成像子区D的电磁波反射特性不同，而成像子区D的变形属性相同。又一种情况是至少两个所述成像子区D的形变属性不同，和/或，至少两个所述成像子区D的电磁波信号反射特性不同。上述三种情况都可以对成像子区D所反射的电磁波信号进行定位和区分。

在步骤102中，根据反射电磁波信号确定入射光线的光线信息。

其中，所述光线信息可以包括：入射光线的强度、颜色、极化方向中至少之一。在一实施例中，所述图像传感器包括根据所述反射电磁波信号及与之对应的感光层的形变参数训练出监测模型。为了得到入射光线的光线信息，可以向所述监测模型发送所述反射电磁波信号，监测模型根据所述反射电磁波信号输出与之对应的感光层的形变参数。根据接收到的所述形变参数确定所述入射光线的光线信息。

上述反射参数和形变参数是基于同一入射光线而产生的变化，是相互对应且具有同步性的数据。由于不同光致变形材料的感光层对于入射光线发生的形变参数是不同的，但每种光致变形材料都有与之对应的光致变形函数可以计算入射光线的光线信息。

在另一实施例中，可以先对所述反射电磁波信号进行解调，以获得第一信号，再根据所述第一信号恢复出所述入射光线的光线信息。

在步骤103中，根据所述光线信息形成预览图像，确定至少一个区域。

上述区域可以包括针对预览图像的ROI区域，也可以包括其他特征区域，本公开并不对此进行限定。下面实施例就确定ROI区域的方法为例说明：

在一实施例中，可根据预览图像的细节丰富程度确定所述区域。例如在拍摄风景照时，景物部分的细节信息较多，而蓝天部分的细节信息较少。用较多的成像子区去呈现景物的细节，可以提高景物部分的图像质量，因此可以将图像细节丰富的区域确定为ROI区域。

在另一实施例中，可根据预览图像的边缘检测数据确定所述ROI区域。由于人眼对图像的边缘部分的敏感度远大于其他部分，当图像边缘部分清晰时，往往会提高图片整体的视觉效果。因此，可以将图像边缘区域确定为ROI区域。

在又一实施例中，可根据预览图像的亮度和/或颜色的频率和/或颜色的梯度确定所述ROI区域。由于图像主体部分往往具有较高的亮度、颜色的频率和颜色的梯度，因此可以将亮度和/或颜色的频率和/或颜色的梯度较高的区域确定为 ROI区域。

在步骤104中，控制成像子区在垂直于入射光线的方向上朝上述区域运动，以增加成像子区在上述区域的分布密度。

在上述实施例中，控制所述成像子区在垂直于入射光线的方向上朝所述区域运动的方式可以包括：为至少一个所述成像子区施加外场，利用所述外场向所述成像子区施加作用力，以使所述成像子区在垂直于入射光线的方向上朝所述区域运动。需要说明的是，所述外场可以包括：磁场、电场、光场中至少之一，本公开并不对此进行限制。

此外，本公开涉及到的成像子区在垂直于入射光线的方向上运动，“垂直于”代表成像子区的运动方向基本垂直于入射光线，在一定偏差范围内的运动方向均在本公开的保护范围。

图2a是本公开另一示例性实施例的一种成像方法的流程图。如图2a所示，该成像方法可以包括以下步骤：

在步骤201中，获取反射电磁波信号。

其中，图像传感器可以包括若干成像子区，该成像子区可在入射光线的照射下发生形变，上述反射电磁波信号由图像传感器中的成像子区对电磁波信号反射形成。具体的，成像子区可以包括感光层和反射层。感光层可用于接收入射光线，并发生与入射光线的光线信息对应的形变。反射层返回相应的反射电磁波信号，且可发生与所述感光层对应的形变。接收器接收上述反射电磁波信号以进行处理。

所述图像传感器包括根据所述反射电磁波信号及与之对应的感光层的形变参数训练出监测模型。具体的，当入射光线照射到成像子区上时，采集每个成像子区返回的反射电磁波信号以及与之对应的感光层形变参数，形成数据样本。通过上述原理，针对不同入射光线的极化方向、强度、颜色等可以记录到大量的数据样本。基于上述数据样本，自动生成大量的关于逻辑回归的问题，进而学习出数据样本与训练模型性能之间的存在的某种关系，从而得到一个简单的规则以用于将反射电磁波信号和感光层的形变参数对应起来。

在步骤202中，向监测模型发送反射电磁波信号，监测模型根据反射电磁波信号输出与之对应的感光层的形变参数。

在步骤203中，根据接收到的形变参数确定入射光线的光线信息。

需要说明的是，上述感光层的材质可以包括光致伸缩电陶瓷、光致变形聚合物等光致变形材料，本公开并不对此进行限制。由于不同光致变形材料的感光层对于入射光线发生的形变参数是不同的，但每种光致变形材料都有与之对应的光致变形函数可以计算入射光线的光线信息。反射面可以包括导体薄膜，金属网格、抛物面金属及印制天线等。上述感光层和反射层产生的形变可以包括形状变化、面积变化、密度变化、光滑程度变化中至少之一。其中，所述光线信息可以包括：入射光线的强度、颜色、极化方向中至少之一。上述反射参数和形变参数是基于同一入射光线而产生的变化，是相互对应且具有同步性的数据。

在步骤204中，根据光线信息形成预览图像，检测预览图像的细节信息，以确定细节信息最多的区域为ROI区域。

如图2b所示，预览图像中的场景包括天空A、树木C和人物B，从图像细节上看，人物B处的细节最丰富，其次是树木C，天空A处所包含的图像细节最少。因此，确定人物B处为ROI区域。

在步骤205中，控制成像子区在垂直于入射光线的方向上朝ROI区域运动，以增加成像子区在ROI区域的分布密度。

如图2c所示，为至少一个所述成像子区D施加外场，利用所述外场E 向所述成像子D区施加作用力，以使所述成像子区D在控制部F的控制下垂直于入射光线的方向上朝所述ROI区域D3运动，以增加所述成像子区D在所述ROI区域D3的分布密度。

需要说明的是，所述外场可以包括：磁场、电场、光场中至少之一，本公开并不对此进行限制。

图3a是本公开另一示例性实施例的一种成像方法的流程图。如图3a所示，该成像方法可以包括以下步骤：

在步骤301中，获取反射电磁波信号。

其中，图像传感器可以包括若干成像子区，该成像子区可在入射光线的照射下发生形变，上述反射电磁波信号由图像传感器中的成像子区对电磁波信号反射形成。具体的，成像子区可以包括感光层和反射层。感光层可用于接收入射光线，并发生与入射光线的光线信息对应的形变。反射层可发生与感光层对应的形变，并反射与入射光线对应的反射电磁波信号。

需要说明的是，至少两个所述成像子区的形变属性不同，和/或，至少两个所述成像子区的电磁波信号反射特性不同，以对不同成像子区所反射的电磁波信号进行定位。此外，不同光致变形材料的感光层对于入射光线发生的形变参数是不同的，但每种光致变形材料都有与之对应的光致变形函数可以计算入射光线的光线信息。上述感光层的材质可以包括光致伸缩电陶瓷、光致变形聚合物等，本公开并不对此进行限制。

在步骤302中，对所述反射电磁波信号进行解调，以获得第一信号。

在步骤303中，根据所述第一信号恢复出所述入射光线的光线信息。

成像子区产生的形变可以包括形状变化、面积变化、密度变化、光滑程度变化中至少之一，上述形变的发生导致反射层反射特性的变化，反射特性可以通过信道参数或者散射参数来描述，本公开并不对此进行限定。由于反射特性的变化，改变了反射电磁波信号G的频谱和幅度特性，利用经典的信号解调方法对所述反射电磁波信号G进行解调，以获得第一信号，并根据解调后的第一信号恢复出入射光线的光线信息。其中，反射电磁波信号G在成像子区收到入射光线照射时的几种常见变形模式如图3b所示。反射层经入射光线照射发生变形后，其反射出的反射电磁波信号G中携带了入射光线的光线信息，解调反射电磁波信号G即可获得包含入射光线信息的第一信号，因此第一信号可用于恢复入射光线的光线信息。

需要说明的是，所述光线信息可以包括：入射光线的强度、颜色、极化方向中至少之一。

在步骤304中，根据光线信息形成预览图像，检测预览图像的细节信息，以确定细节信息较多的区域为ROI区域。

在步骤305中，控制成像子区在垂直于入射光线的方向上朝ROI区域运动，以增加成像子区在ROI区域的分布密度。

为至少一个所述成像子区施加外场，利用所述外场向所述成像子区施加作用力，以使所述成像子区在垂直于入射光线的方向上朝所述ROI区域运动，以增加所述成像子区在所述ROI区域的分布密度。

在步骤204和步骤304中，ROI区域的确定方法也可以被替换成：根据预览图像的边缘检测数据确定所述ROI区域。例如针对风景摄影，可以检测树木以及花草的边缘，并将上述边缘作为图像的ROI区域。这样，用较多的成像子区来表达树木和花草的边缘，即获得清晰的景物边缘，从视觉上提高了成像质量。或者，根据预览图像的亮度和/或颜色的频率和/或颜色的梯度确定所述 ROI区域。本公开提供的用于确定ROI区域的办法是示例性的，本公开并不对此进行限制。

根据上述实施例，本公开进一步提出一种成像装置，应用于图像传感器。图4是本公开一示例性实施例的一种成像装置的结构示意图，如图4所示，上述成像装置包括获取单元41、处理单元42、确定单元43和执行单元44。

获取单元41被配置为获取反射电磁波信号。所述反射电磁波信号由图像传感器中的成像子区对电磁波信号反射形成。其中，所述图像传感器包括若干成像子区，所述成像子区可在入射光线的照射下发生形变；

处理单元42被配置为根据所述反射电磁波信号确定所述入射光线的光线信息；

确定单元43被配置为根据所述光线信息形成预览图像，确定至少一个区域。

执行单元44被配置为控制所述成像子区在垂直于入射光线的方向上朝所述区域运动，以增加所述成像子区在所述区域的分布密度。

图5a是本公开一示例性实施例的一种处理单元的结构示意图。如图5a 所示，在前述图4所示实施例的基础上，所述处理单元42可以包括发送子单元421、接收子单元422、第三处理子单元423。其中：

发送子单元421被配置为向监测模型发送所述反射电磁波信号，所述监测模型的训练样本包括预先获得的反射电磁波信号与感光层的形变参数之间的数据对；

接收子单元422被配置为接收所述监测模型输出的感光层的形变参数；

第三处理子单元423被配置为根据所述形变参数确定所述入射光线的光线信息。

图5b是本公开一示例性实施例的一种确定单元的结构示意图。如图5b 所示，在前述图4所示实施例的基础上，确定单元43可以包括一下至少之一：第一确定子单元431、第二确定子单元432和第三确定子单元433。其中：

第一确定子单元431被配置为根据所述光线信息形成预览图像，为根据预览图像的细节丰富程度确定所述ROI区域；

第二确定子单元432被配置为根据预览图像的边缘检测数据确定所述 ROI区域；

第三确定子单元433被配置为根据预览图像的亮度和/或颜色的频率和/ 或颜色的梯度确定所述ROI区域。

图5c是本公开一示例性实施例的一种执行单元的结构示意图。如图5c 所示，在前述图4所示实施例的基础上，执行单元44可以包括第一执行子单元441和第二执行子单元442。其中：

第一执行子单元441被配置为为至少一个所述成像子区施加外场。

第二执行子单元442被配置为利用所述外场向所述成像子区施加作用力，以使所述成像子区在垂直于入射光线的方向上朝所述ROI区域运动。

图6是本公开另一示例性实施例的一种处理单元的结构示意图。如图6 所示，在前述图4所示实施例的基础上，处理单元42可以包括第一处理子单元424和第二处理子单元425。其中：

第一处理子单元424被配置为对所述反射电磁波信号进行解调，以获得第一信号。

第二处理子单元425被配置为根据所述第一信号恢复出所述入射光线的光线信息。

需要说明的是，在前述图4所示实施例的基础上，图6所示的实施例中也可以包含如图5b所示的第一确定子单元431、第二确定子单元432和第三确定子单元433中至少之一，以及如图5c所示的第一执行子单元441和第二执行子单元442，本公开不对此进行限制。

关于上述实施例中的装置，其中各个模块执行操作的具体方式已经在有关该方法的实施例中进行了详细描述，此处将不做详细阐述说明。

对于装置实施例而言，由于其基本对应于方法实施例，所以相关之处参见方法实施例的部分说明即可。以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，其中所述作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的，作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元，即可以位于一个地方，或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部模块来实现本公开方案的目的。本领域普通技术人员在不付出创造性劳动的情况下，即可以理解并实施。

相应的，本公开还提出一种电子设备，该电子设备可以包括处理器，所述处理器被配置为实现上述成像方法。

在一示例性实施例中，本公开还提供了一种包括指令的非临时性计算机可读存储介质。例如包括指令的存储器，上述指令可由求救装置的处理器执行后，实现本公开的上述成像方法。例如，所述非临时性计算机可读存储介质可以是ROM，随机存取存储器(RAM)、CD-ROM、磁带、软盘和光数据存储设备等。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的技术方案后，将容易想到本公开的其它实施方案。本申请旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本公开的真正范围和精神由下面的权利要求指出。

应当理解的是，本公开并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本公开的范围仅由所附的权利要求来限制。

Claims

1.一种成像方法，其特征在于，包括：

根据所述反射电磁波信号确定所述入射光线的光线信息，包括，利用所述反射电磁波信号获取所述成像子区在所述入射光线下的形变参数，根据所述形变参数确定所述入射光线的光线信息，其中，所述光线信息包括：入射光线的强度、颜色、极化方向中至少之一；

根据所述光线信息形成预览图像，确定至少一个ROI(region of interest，感兴趣区域)区域；

2.根据权利要求1所述的成像方法，其特征在于，根据所述反射电磁波信号确定所述入射光线的光线信息，包括：

对所述反射电磁波信号进行解调，以获得第一信号；

根据所述第一信号恢复出所述入射光线的光线信息。

3.根据权利要求1所述的成像方法，其特征在于，所述成像子区包括：

感光层，感应入射光线的照射，并发生形变；

4.根据权利要求3所述的成像方法，其特征在于，根据所述反射电磁波信号确定所述入射光线的光线信息，包括：

接收所述监测模型输出的感光层的形变参数；

根据所述形变参数确定所述入射光线的光线信息。

5.根据权利要求1所述的成像方法，其特征在于：

至少两个所述成像子区的形变属性不同；

和/或，至少两个所述成像子区的电磁波信号反射特性不同。

6.根据权利要求3所述的成像方法，其特征在于，所述感光层和所述反射层的形变包括形状变化、面积变化、密度变化、光滑程度变化中至少之一。

7.根据权利要求1所述的成像方法，其特征在于，根据所述光线信息形成预览图像，确定至少一个ROI区域，包括以下方法中至少之一：

根据预览图像的细节丰富程度确定ROI区域；

根据预览图像的边缘检测数据确定ROI区域；

8.根据权利要求1所述的成像方法，其特征在于，控制所述成像子区在垂直于入射光线的方向上朝所述区域运动，包括：

为至少一个所述成像子区施加外场；

9.根据权利要求8所述的成像方法，其特征在于，所述外场包括：磁场、电场、光场中至少之一。

10.一种成像装置，其特征在于，包括：

处理单元，根据所述反射电磁波信号确定所述入射光线的光线信息，包括，利用所述反射电磁波信号获取所述成像子区在所述入射光线下的形变参数，根据所述形变参数确定所述入射光线的光线信息，其中，所述光线信息包括：入射光线的强度、颜色、极化方向中至少之一；

确定单元，根据所述光线信息形成预览图像，确定至少一个ROI区域；

11.根据权利要求10所述的成像装置，其特征在于，所述处理单元包括：

12.根据权利要求10所述的成像装置，其特征在于，所述成像子区包括：

感光层，感应入射光线的照射，并发生形变；

13.根据权利要求12所述的成像装置，其特征在于，所述处理单元包括：

接收子单元，接收所述监测模型输出的感光层的形变参数；

14.根据权利要求10所述的成像装置，其特征在于：

至少两个所述成像子区的形变属性不同；

和/或，至少两个所述成像子区的电磁波信号反射特性不同。

15.根据权利要求12所述的成像装置，其特征在于，所述感光层和所述反射层的形变包括形状变化、面积变化、密度变化、光滑程度变化中至少之一。

16.根据权利要求10所述的成像装置，其特征在于，所述确定单元包括以下至少之一：

17.根据权利要求10所述的成像装置，其特征在于，所述执行单元包括：

第一执行子单元，为至少一个所述成像子区施加外场；

18.根据权利要求17所述的成像装置，其特征在于，所述外场包括：磁场、电场、光场中至少之一。

19.一种电子设备，其特征在于，包括：

存储器，所述存储器包括指令；

处理器，所述处理器被配置为执行所述指令，以实现如权利要求1-9任一项所述的成像方法。

20.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机指令，其特征在于，该指令被处理器执行时实现：如权利要求1-9中任一项所述成像方法的步骤。