CN107524228B - 一种去污装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种去污装置，用于对污水缸内壁进行清洁处理，包括左右方向伸延的架体、固定安装在架体左上端的凸台、去污部以及推送部，凸台中设置有开端朝右且上下伸延的第一滑推槽，第一滑推槽中可上下活动地安装有滑推架，架体上端设置有开端朝上且左右伸延的滑横向动槽，第二滑推槽左右端壁之间可环转地安装有第一螺柱，第一螺柱左端与固定安装在架体中的第一电机连接；推送部包括活动安装在第二滑推槽中且与第一螺柱配合连接的滑台，滑台中设置有左右伸延的半圆槽，滑台中还设置有用于固定污水缸的夹环。

Description

一种去污装置

技术领域

本发明涉及市政去污领域，具体涉及一种去污装置。

背景技术

在市政排污体系中，往往要对盛装污水的污水缸进行定时清洁工作，传统的清洁方式一般都是采用人工清洁，其清洁难度大且劳动强度高，现有中也有较多的机械式清洁装置，但其结构复杂且转动方向单一，因此，遇到顽固污渍时，单一的转动方向不能完全清除，其清洁效果不明显，如果加大清洁力度会对污水缸内壁造成损坏，因此，上述清洁方式存在较大的弊端，需要改进。

发明内容

本发明的目的在于提供一种去污装置，能够克服现有技术的上述缺陷。

根据本发明，本发明装置的一种去污装置，用于对污水缸内壁进行清洁处理，包括左右方向伸延的架体、固定安装在所述架体左上端的凸台、去污部以及推送部，所述凸台中设置有开端朝右且上下伸延的第一滑推槽，所述第一滑推槽中可上下活动地安装有滑推架，所述架体上端设置有开端朝上且左右伸延的第二滑推槽，所述第二滑推槽左右端壁之间可环转地安装有第一螺柱，所述第一螺柱左端与固定安装在所述架体中的第一电机连接；所述推送部包括活动安装在所述第二滑推槽中且与所述第一螺柱配合连接的滑台，所述滑台中设置有左右伸延的半圆槽，所述滑台中还设置有用于固定所述污水缸的夹环，所述第二滑推槽底壁中还设有排水槽，所述排水槽底部设有排水管，所述排水管末端贯穿所述架体底壁且末端固定设有导流管；所述去污部包括中轴、筒管、第一转环、第二转环、与所述第一转环相配合的第一去污套和与所述第二转环配合的第二去污套，所述第一转环中设置有第一转腔，所述第一转腔内壁上设置有内齿环，所述第一转腔中安装有安设架，所述安设架中设置有第二转腔，所述第二转腔圆面上周向设置有四个通合槽，所述通合槽中通过转杆可环转地安装有与所述内齿环配合连接的齿链轮，所述筒管左端固定安装在所述滑推架右端，所述筒管右端贯穿所述第一转环并与所述安设架固定连接，所述筒管中设置有中孔，所述中轴可环转地安装在所述中孔中，所述中心转杆左端与固定安装在所述滑推架中的第二电机连接，所述中轴右端贯穿所述安设架和第一转环并向右伸延，所述第二转环固定安装在所述中轴右端，所述第二转腔中还安装有与所述齿链轮配合连接且与所述中轴固定连接的齿盘。

进一步的技术方案，所述第一去污套包括第一转壳以及固定安装在所述第一转壳外端面上的第一去污刷，所述第二去污套包括第二转壳以及固定安装在所述第二转壳外端面上的第二去污刷，所述第一转壳和所述第二转壳内壁中分别设置有左右伸延的第一花键槽和第二花键槽，所述第一转环和第二转环外端面上分别设置有与所述第一花键槽相配合的第一花键和与所述第二花键槽相配合的第二花键。

进一步的技术方案，所述第一转环外端面左端设置有第一环体块，所述第一转壳左端设置有与所述第一环体块相配合的第一环体部，所述第一环体部右端壁中设置有第一螺痕槽，所述第一环体块中还设置有第一沉腔，所述第一沉腔中安装有与所述第一螺痕槽配合的第一螺钉，从而可将所述第一转壳与所述第一转环相固定。

进一步的技术方案，所述第二转环右端设置有第二环体部，所述第二转壳右端设置有与所述第二环体部相配合的第二环体块，所述第二环体部左端壁中设置有第二螺痕槽，所述第二环体块中还设置有第二沉腔，所述第二沉腔中安装有与所述第二螺痕槽配合的第二螺钉，从而可将所述第二转壳与所述第二转环相固定。

进一步的技术方案，所述第一转环的外径大于所述第二转环的外径，故所述第一转壳可经由所述第二转环而安装到所述第一转环上。

进一步的技术方案，所述第一转壳和所述第二转壳外径相符，且所述第一去污刷和第二去污刷厚度相符。

进一步的技术方案，所述滑推架中配合连接安装有第二螺柱，所述第二螺柱下端可环转地安装在所述第一滑推槽底壁中，上端与固定安装在所述第一滑推槽顶壁中第三电机连接，所述滑推架中还活动安装有导柱，所述导柱上下两端固定安装在所述第一滑推槽上下端壁中。

本发明的有益效果是：

本发明装置中，由于所述第一去污套和第二去污套的大小可根据污水缸内径的大小来选择，且所述中轴的高度位置可通过第三电机来调节，因此，可适应不同内径的污水缸；

由于在齿链轮的作用下，可使所述第一去污刷和第二去污刷以相反的方向转动对所述污水缸内壁进行清洁处理，由于所述第一去污刷和第二去污刷转向相反，因此，可大大提高清洁能力；

由于第一电机可驱动所述污水缸向左逐渐滑动，因此，所述第一去污刷和第二去污刷可将所述污水缸内壁彻底清洁。

本发明装置结构简单，操作方便，运行稳定。

附图说明

为了更清楚地说明发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明的一种去污装置的整体结构示意图。

图2是图1去污部的放大结构示意图。

图3为图1的右视图。

具体实施方式

本说明书中公开的所有特征，或公开的所有方法或过程中的步骤，除了互相排斥的特征和/或步骤以外，均可以以任何方式组合。

本说明书（包括任何附加权利要求、摘要和附图）中公开的任一特征，除非特别叙述，均可被其他等效或具有类似目的的替代特征加以替换。即，除非特别叙述，每个特征只是一系列等效或类似特征中的一个例子而已。

如图1-3所示，本发明的一种去污装置，用于对污水缸18内壁进行清洁处理，包括左右方向伸延的架体10、固定安装在所述架体10左上端的凸台22、去污部19以及推送部，所述凸台22中设置有开端朝右且上下伸延的第一滑推槽220，所述第一滑推槽220中可上下活动地安装有滑推架221，所述架体10上端设置有开端朝上且左右伸延的第二滑推槽12，所述第二滑推槽12左右端壁之间可环转地安装有第一螺柱13，所述第一螺柱13左端与固定安装在所述架体10中的第一电机11连接；所述推送部包括活动安装在所述第二滑推槽12中且与所述第一螺柱13配合连接的滑台14，所述滑台14中设置有左右伸延的半圆槽15，所述滑台14中还设置有用于固定所述污水缸18的夹环17，所述第二滑推槽12底壁中还设有排水槽121，所述排水槽121底部设有排水管122，所述排水管122末端贯穿所述架体10底壁且末端固定设有导流管123，通过所述排水槽121可将清洁时滴落于所述第二滑推槽12内的污水及时排出，从而增加清洁性；所述去污部19包括中轴24、筒管20、第一转环16、第二转环35、与所述第一转环16相配合的第一去污套和与所述第二转环35配合的第二去污套，所述第一转环16中设置有第一转腔27，所述第一转腔27内壁上设置有内齿环28，所述第一转腔27中安装有安设架26，所述安设架26中设置有第二转腔251，所述第二转腔251圆面上周向设置有四个通合槽，所述通合槽中通过转杆30可环转地安装有与所述内齿环28配合连接的齿链轮29，所述筒管20左端固定安装在所述滑推架221右端，所述筒管20右端贯穿所述第一转环16并与所述安设架26固定连接，所述筒管20中设置有中孔，所述中轴24可环转地安装在所述中孔中，所述中心转杆24左端与固定安装在所述滑推架221中的第二电机23连接，所述中轴24右端贯穿所述安设架26和第一转环16并向右伸延，所述第二转环35固定安装在所述中轴24右端，所述第二转腔251中还安装有与所述齿链轮29配合连接且与所述中轴24固定连接的齿盘25。

有益地，其中，所述第一去污套包括第一转壳32以及固定安装在所述第一转壳32外端面上的第一去污刷31，所述第二去污套包括第二转壳33以及固定安装在所述第二转壳33外端面上的第二去污刷34，所述第一转壳32和所述第二转壳33内壁中分别设置有左右伸延的第一花键槽和第二花键槽，所述第一转环16和第二转环35外端面上分别设置有与所述第一花键槽相配合的第一花键和与所述第二花键槽相配合的第二花键。

有益地，其中，所述第一转环16外端面左端设置有第一环体块38，所述第一转壳32左端设置有与所述第一环体块38相配合的第一环体部，所述第一环体部右端壁中设置有第一螺痕槽，所述第一环体块38中还设置有第一沉腔，所述第一沉腔中安装有与所述第一螺痕槽配合的第一螺钉39，从而可将所述第一转壳32与所述第一转环16相固定。

有益地，其中，所述第二转环35右端设置有第二环体部，所述第二转壳33右端设置有与所述第二环体部相配合的第二环体块37，所述第二环体部左端壁中设置有第二螺痕槽，所述第二环体块37中还设置有第二沉腔，所述第二沉腔中安装有与所述第二螺痕槽配合的第二螺钉36，从而可将所述第二转壳33与所述第二转环35相固定。

有益地，其中，所述第一转环16的外径大于所述第二转环35的外径，故所述第一转壳32可经由所述第二转环35而安装到所述第一转环16上。

有益地，其中，所述第一转壳32和所述第二转壳33外径相符，且所述第一去污刷31和第二去污刷31厚度相符。

有益地，其中，所述滑推架221中配合连接安装有第二螺柱223，所述第二螺柱223下端可环转地安装在所述第一滑推槽220底壁中，上端与固定安装在所述第一滑推槽220顶壁中第三电机224连接，所述滑推架221中还活动安装有导柱222，所述导柱222上下两端固定安装在所述第一滑推槽220上下端壁中。

使用时，将所述污水缸18放置在所述滑台14上的半圆槽15中，并通过所述夹环17固定，而后选取与所述污水缸18内径相匹配的第一去污套和第二去污套，先将所述第一去污套经由所述第二转环35滑动到所述第一转环16上，并通过所述第一螺钉39固定在所述第一转环16上，再将所述第二去污套安装到所述第二转环35上，并通过所述第二螺钉36固定，而后利用所述第三电机224驱动所述滑推架221调节纵向位置，使所述中轴24与所述污水缸18同轴，此时启动所述第一电机11，所述第一电机11运行时可驱动所述滑台14向左滑动，使所述污水缸18套在所述第一转壳32和所述第二转壳33上，而后启动所述第二电机23，所述第二电机23运行时，可驱动所述中轴24转动，所述中轴24转动时可带动所述第二转环35转动，而所述中轴24转动时还可带动所述齿盘25转动，所述齿盘25转动时可驱动所述齿链轮29反向转动，所述齿链轮29可驱动所述内齿环28发生于所述齿盘25相反的方向转动，故可使所述第一转环32与所述第二转环35反向转动，从而可驱动所述第一去污刷31和第二去污刷31以相反的方向转动对所述污水缸18内壁进行清洁处理，而由于第一电机11可驱动所述污水缸18向左逐渐滑动，因此，所述第一去污刷31和第二去污刷31可将所述污水缸18内壁彻底清洁。

本发明的有益效果是：本发明装置中，由于所述第一去污套和第二去污套的大小可根据污水缸内径的大小来选择，且所述中轴的高度位置可通过第三电机来调节，因此，可适应不同内径的污水缸；

由于在齿链轮的作用下，可使所述第一去污刷和第二去污刷以相反的方向转动对所述污水缸内壁进行清洁处理，由于所述第一去污刷和第二去污刷转向相反，因此，可大大提高清洁能力；

由于第一电机可驱动所述污水缸向左逐渐滑动，因此，所述第一去污刷和第二去污刷可将所述污水缸内壁彻底清洁。

本发明装置结构简单，操作方便，运行稳定。

以上所述，仅为发明的具体实施方式，但发明的保护范围并不局限于此，任何不经过创造性劳动想到的变化或替换，都应涵盖在发明的保护范围之内。因此，发明的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。

Claims (5)

1.一种去污装置，用于对污水缸内壁进行清洁处理，包括左右方向伸延的架体、固定安装在架体左上端的凸台、去污部以及推送部，其特征在于：凸台中设置有开端朝右且上下伸延的第一滑推槽，第一滑推槽中可上下活动地安装有滑推架，架体上端设置有开端朝上且左右伸延的第二滑推槽，第二滑推槽左右端壁之间可环转地安装有第一螺柱，第一螺柱左端与固定安装在架体中的第一电机连接；推送部包括活动安装在第二滑推槽中且与第一螺柱配合连接的滑台，滑台中设置有左右伸延的半圆槽，滑台中还设置有用于固定污水缸的夹环，第二滑推槽底壁中还设有排水槽，排水槽底部设有排水管，排水管末端贯穿架体底壁且末端固定设有导流管；去污部包括中轴、筒管、第一转环、第二转环、与第一转环相配合的第一去污套和与第二转环配合的第二去污套，第一转环中设置有第一转腔，第一转腔内壁上设置有内齿环，第一转腔中安装有安设架，安设架中设置有第二转腔，第二转腔圆面上周向设置有四个通合槽，通合槽中通过转杆可环转地安装有与内齿环配合连接的齿链轮，筒管左端固定安装在滑推架右端，筒管右端贯穿第一转环并与安设架固定连接，筒管中设置有中孔，中轴可环转地安装在中孔中，中心转杆左端与固定安装在滑推架中的第二电机连接，中轴右端贯穿安设架和第一转环并向右伸延，第二转环固定安装在中轴右端，第二转腔中还安装有与齿链轮配合连接且与中轴固定连接的齿盘；

其中，所述第一去污套包括第一转壳以及固定安装在所述第一转壳外端面上的第一去污刷，所述第二去污套包括第二转壳以及固定安装在所述第二转壳外端面上的第二去污刷，所述第一转壳和所述第二转壳内壁中分别设置有左右伸延的第一花键槽和第二花键槽，所述第一转环和第二转环外端面上分别设置有与所述第一花键槽相配合的第一花键和与所述第二花键槽相配合的第二花键；

其中，所述滑推架中配合连接安装有第二螺柱，所述第二螺柱下端可环转地安装在所述第一滑推槽底壁中，上端与固定安装在所述第一滑推槽顶壁中第三电机连接，所述滑推架中还活动安装有导柱，所述导柱上下两端固定安装在所述第一滑推槽上下端壁中。

2.如权利要求1所述的一种去污装置，其特征在于：所述第一转环外端面左端设置有第一环体块，所述第一转壳左端设置有与所述第一环体块相配合的第一环体部，所述第一环体部右端壁中设置有第一螺痕槽，所述第一环体块中还设置有第一沉腔，所述第一沉腔中安装有与所述第一螺痕槽配合的第一螺钉。

3.如权利要求1所述的一种去污装置，其特征在于：所述第二转环右端设置有第二环体部，所述第二转壳右端设置有与所述第二环体部相配合的第二环体块，所述第二环体部左端壁中设置有第二螺痕槽，所述第二环体块中还设置有第二沉腔，所述第二沉腔中安装有与所述第二螺痕槽配合的第二螺钉。

4.如权利要求1所述的一种去污装置，其特征在于：所述第一转环的外径大于所述第二转环的外径。

5.如权利要求1所述的一种去污装置，其特征在于：所述第一转壳和所述第二转壳外径相符，且所述第一去污刷和第二去污刷厚度相符。