CN107297024A - 一种β敷贴器表面吸收剂量率校准装置及方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种β敷贴器表面吸收剂量率校准装置及方法，所述校准装置包括底座、β敷贴器定位架和β外推电离室；所述β敷贴器定位架和β外推电离室固定在所述底座上。所述β敷贴器定位架包括轴向旋钮、径向旋钮、紧固螺帽、轴向旋进轴、轴承和源托。本发明的装置结构简单，操作方便，可灵活调节源与外推电离室的相对位置，实现敷贴器表面剂量率的测量和均匀性的测定。

Description

一种β敷贴器表面吸收剂量率校准装置及方法

技术领域

本发明具体涉及一种β敷贴器表面吸收剂量率校准装置及方法，属于β敷贴器辐射剂量校准技术领域。

背景技术

在使用β敷贴器治疗皮肤病变的过程中，为了保证放疗效果和防止患者皮肤烧伤，必须准确测定β敷贴器表面的(组织)吸收剂量率，从而正确估算患者受到的皮肤剂量。《GBZ134-2002放射性核素敷贴治疗卫生防护标准》规定需要定期检测敷贴器表面空气吸收剂量率(或参考点空气吸收剂量率)和表面均匀性。

外推电离室可用于校准β敷贴器表面吸收剂量率，然而实际操作中所用源的安装与位置调节困难。

发明内容

本发明设计的校准装置，利用β外推电离室测量敷贴器表面剂量率和表面均匀性，操作简单，既能保证测量的准确性，又保护了工作人员，避免其受到过量照射。

具体的，本发明提供一种β敷贴器表面吸收剂量率校准装置，所述校准装置包括底座、β敷贴器定位架和β外推电离室；所述敷贴器定位架和β外推电离室固定在所述底座上；β敷贴器安装在所述β敷贴器定位架上，然后对准所述β外推电离室，利用β外推电离室测量并校准敷贴器表面剂量率。

进一步，如上所述的β敷贴器表面吸收剂量率校准装置，所述β敷贴器定位架包括轴向旋钮、径向旋钮、紧固螺帽、轴向旋进轴、轴承和源托，所述轴向旋钮、紧固螺帽、轴承和源托自远离β外推电离室的位置到靠近所述β外推电离室的位置顺序套装在所述轴向旋进轴上。

进一步，如上所述的β敷贴器表面吸收剂量率校准装置，所述β外推电离室通过电离室支撑柱固定在底座上，所述电离室支撑柱能够支撑β外推电离室和调节β外推电离室高度。

进一步，如上所述的β敷贴器表面吸收剂量率校准装置，所述轴向旋钮带动轴向旋进轴，调节源托与β外推电离室的入射窗之间的轴向距离。

进一步，如上所述的β敷贴器表面吸收剂量率校准装置，当源托与β外推电离室的入射窗之间的轴向距离调节好后，锁死所述紧固螺帽，可记忆该轴向距离。

进一步，如上所述的β敷贴器表面吸收剂量率校准装置，所述径向旋钮可调节源托与β外推电离室的入射窗之间的径向距离，该径向距离可由径向旋钮下方的径向旋进刻度尺读出。

进一步，如上所述的β敷贴器表面吸收剂量率校准装置，所述源托可从β敷贴器定位架中拆卸，并用于固定待校准的β敷贴器，所述源托带有3个互成120°的紧固螺钉；源托凹槽的直径和深度根据待校准的β敷贴器加工。

进一步，如上所述的β敷贴器表面吸收剂量率校准装置，所述轴承可带动源托旋转，旋转过程中源托与β外推电离室的入射窗之间的距离不变；轴承上带有角度刻度标记，以记录源托的旋转角度。

再者，本发明还提供了一种使用如上所述校准装置的β敷贴器表面吸收剂量率校准方法，所述方法包括如下步骤：

1)根据待校准的β敷贴器尺寸参数，选择β外推电离室；

2)使用电离室支撑柱将β外推电离室安装在底座上，并保证源托的中轴线和β外推电离室收集极的中轴线在同一水平面上；

3)调节径向旋钮，使径向旋进刻度尺上下两个零刻度对齐；

4)调节轴向旋钮，从而调节源托前表面与β外推电离室之间的距离；

5)锁死紧固螺帽，记忆此时源托的轴向位置；

6)调节轴向旋钮，使得有足够的空间取下源托；

7)将β敷贴器安装在源托上，再将源托安装在轴承上；

8)调节轴向旋钮至紧固螺帽记忆的位置；

9)利用β外推电离室测量敷贴器表面剂量率。

另外，本发明还提供一种使用如上所述方法的β敷贴器表面均匀性测量方法，其特征在于所述测量方法在步骤9)后进一步包括如下步骤：

10)调节径向旋钮，使径向旋进刻度尺的上下刻度相差7mm，测量以点A为圆心的小源的表面剂量率；

11)旋转轴承，分别旋转90°、180°和270°，并测量记录以点B、C、D为圆心的小源的表面剂量率。

本发明的装置结构简单，操作方便，可灵活调节源与外推电离室的相对位置，实现敷贴器表面剂量率的测量和均匀性的测定。

附图说明

图1为本发明β敷贴器表面吸收剂量率校准装置的结构示意图。

图2为校准装置距离控制系统图。

图3为源托的结构示意图。

图4为本发明的均匀性测定方法示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明进行详细的描述。

如图1所示，为本发明的用于校准β敷贴器表面吸收剂量率的装置，该装置主要包括底座1、β敷贴器定位架2和β外推电离室3三大部分，定位架2和外推电离室3固定在底座1上，保证其稳定性。其中定位架2包括轴向旋钮5和径向7旋钮两个旋钮、紧固螺帽6、轴向旋进轴11、轴承10和源托9等部分。

其中，各个部分的功能和结构如下：

电离室支撑柱4：起到支撑外推电离室和调节外推电离室高度的作用。

轴向旋钮5：带动轴向旋进轴11，调节源托与外推电离室入射窗之间的轴向距离，每旋转1圈等于旋进/出1mm。

紧固螺帽6：当源托与外推电离室入射窗之间的轴向距离调节好后，锁死紧固螺帽，可记忆该距离。

径向旋钮7：可调节源托与外推电离室入射窗之间的径向距离，该距离可由径向旋钮下方的径向旋进刻度尺读出。

径向旋进刻度尺8：如图2所示，当上下两个刻度尺的零刻度对齐时，可保证源托的中轴线和外推电离室收集极的中轴线在同一铅垂面上。

源托9：可从定位架中拆卸，如图3所示；用于固定待校准的β敷贴器14，带有3个互成120°的紧固螺钉13。源托凹槽12的直径和深度根据待校准的β敷贴器加工。源托整体厚度为20mm，铝材质，起到屏蔽β射线作用，以减少操作人员受到的剂量。

轴承10：带动源托旋转，旋转过程源托与外推电离室入射窗之间的距离不变。轴承上带有角度刻度标记，以记录源托的旋转角度。

β外推电离室3：用于测量β敷贴器14的表面剂量率，其灵敏区15正对β敷贴器14。

本发明因此进而提供一种使用如上所述校准装置的β敷贴器表面吸收剂量率校准方法，所述方法包括如下步骤：

1)根据待校准的β敷贴器尺寸参数，选择合适的β外推电离室。注意在使用β外推电离室校准β敷贴器表面剂量率时，要求敷贴器源的直径大于外推电离室有效收集区域的直径。

2)选择合适高度的电离室支撑柱，将β外推电离室安装在底座上，并保证源托的中轴线和电离室收集极的中轴线在同一水平面上。

3)调节径向旋钮，使刻度尺上下两个零刻度对齐(此时源托的中轴线和外推电离室收集极的中轴线在同一铅垂面上)。这样，源托的中轴线和电离室收集极的中轴线就重合了。

4)调节轴向旋钮，使得源托前表面与外推电离室之间的距离为所需值(如1mm)。

5)锁死紧固螺帽，记忆此时源托的轴向位置。

6)调节轴向旋钮，使得有足够的空间取下源托。

7)将β敷贴器安装在源托上，再将源托安装在轴承上。

8)调节轴向旋钮至紧固螺帽记忆的位置。

9)利用外推电离室测量敷贴器表面剂量率。

以上步骤可实现使用β外推电离室测量敷贴器的表面吸收剂量率。对于均匀性的测定，需要测量β敷贴器源的圆面上数个非中心位置处的表面吸收剂量率。下面以一个示例说明定位并测量这些非中心位置点的方法。

图4中β敷贴器的活性区直径为30mm，所选用β外推电离室收集极直径为10mm。经过前面的九步操作，测得的是以O为圆心、10mm为直径的小源表面剂量率；即测量过程中电离室收集极中心正对着O点。为了测定源的均匀性，现假设需要测量以图中A、B、C和D四点为圆心的源的表面剂量率，这四个点距离圆心O的距离为7mm，相邻两个点与圆心的夹角为直角。则在前九步的基础上继续操作：

10)调节径向旋钮，使上下刻度相差7mm。测量以A为圆心的小源的表面剂量率。

11)旋转轴承，分别旋转90°、180°和270°，并测量记录以B、C、D为圆心的小源的表面剂量率。

12)对于其他希望测量的点，也可以用类似第10步和第11步的方法，通过调节径向旋钮和旋转轴承将指定的待测点转动到外推电离室收集极的正前方并进行测量。

利用上述各次测量的数据即可测定β敷贴器的均匀性。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若对本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其同等技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种β敷贴器表面吸收剂量率校准装置，其特征在于：

所述校准装置包括底座、β敷贴器定位架和β外推电离室；所述β敷贴器定位架和β外推电离室固定在所述底座上；

β敷贴器安装在所述β敷贴器定位架上，然后对准所述β外推电离室，利用β外推电离室测量并校准敷贴器表面剂量率。

2.如权利要求1所述的β敷贴器表面吸收剂量率校准装置，其特征在于：

所述β敷贴器定位架包括轴向旋钮、径向旋钮、紧固螺帽、轴向旋进轴、轴承和源托，所述轴向旋钮、紧固螺帽、轴承和源托自远离β外推电离室的位置到靠近所述β外推电离室的位置顺序套装在所述轴向旋进轴上。

3.如权利要求1所述的β敷贴器表面吸收剂量率校准装置，其特征在于：

所述β外推电离室通过电离室支撑柱固定在底座上，所述电离室支撑柱能够支撑β外推电离室和调节β外推电离室高度。

4.如权利要求2所述的β敷贴器表面吸收剂量率校准装置，其特征在于：

所述轴向旋钮带动轴向旋进轴，调节源托与β外推电离室的入射窗之间的轴向距离。

5.如权利要求3所述的β敷贴器表面吸收剂量率校准装置，其特征在于：

当源托与β外推电离室的入射窗之间的轴向距离调节好后，锁死所述紧固螺帽，可记忆该轴向距离。

6.如权利要求2所述的β敷贴器表面吸收剂量率校准装置，其特征在于：

所述径向旋钮可调节源托与β外推电离室的入射窗之间的径向距离，该径向距离可由径向旋钮下方的径向旋进刻度尺读出。

7.如权利要求2所述的β敷贴器表面吸收剂量率校准装置，其特征在于：

所述源托可从β敷贴器定位架中拆卸，并用于固定待校准的β敷贴器，所述源托带有3个互成120°的紧固螺钉；源托凹槽的直径和深度根据待校准的β敷贴器加工。

8.如权利要求2所述的β敷贴器表面吸收剂量率校准装置，其特征在于：

所述轴承可带动源托旋转，旋转过程中源托与β外推电离室的入射窗之间的距离不变；轴承上带有角度刻度标记，以记录源托的旋转角度。

9.一种使用如权利要求1-8任意一项所述校准装置的β敷贴器表面吸收剂量率校准方法，其特征在于所述方法包括如下步骤：

1)根据待校准的β敷贴器尺寸参数，选择β外推电离室；

2)使用电离室支撑柱将β外推电离室安装在底座上，并保证源托的中轴线和β外推电离室收集极的中轴线在同一水平面上；

3)调节径向旋钮，使径向旋进刻度尺上下两个零刻度对齐；

4)调节轴向旋钮，从而调节源托前表面与β外推电离室之间的距离；

5)锁死紧固螺帽，记忆此时源托的轴向位置；

6)调节轴向旋钮，使得有足够的空间取下源托；

7)将β敷贴器安装在源托上，再将源托安装在轴承上；

8)调节轴向旋钮至紧固螺帽记忆的位置；

9)利用β外推电离室测量敷贴器表面剂量率。

10.一种使用如权利要求9所述方法的β敷贴器表面均匀性测量方法，其特征在于所述测量方法在步骤9)后进一步包括如下步骤：

10)调节径向旋钮，使径向旋进刻度尺的上下刻度相差7mm，测量以点A为圆心的小源的表面剂量率；

11)旋转轴承，分别旋转90°、180°和270°，并测量记录以点B、C、D为圆心的小源的表面剂量率。