CN107206697A - 设备的校准 - Google Patents

Abstract

描述了一种对用于生成三维物体的设备进行校准的方法，其中通过沉积构建材料并施加能量至构建材料以形成熔化的表面，来生成校准衬底；通过根据预定图案在校准表面上沉积试剂，来在校准表面上生成校准图案；并且测量校准图案的属性。

Description

设备的校准

背景技术

已经提出基于逐层地生成三维物体的增材制造系统作为制造三维物体的潜在方便的方式。

附图说明

现在将参照附图、借由非限定性示例的方式描述示例，其中：

图1是对用于生成三维物体的设备进行校准的方法的示例的流程图；

图2是用于生成三维物体的设备的示例的简化示意图；

图3是用于生成三维物体的设备的一部分的示例的简化示意图；

图4是对用于生成三维物体的设备进行校准的方法的示例的流程图；

图5是生成校准图案的方法的示例的流程图；以及

图6是对用于生成三维物体的设备进行校准的方法的示例的流程图。

具体实施方式

增材制造技术可以通过构建材料的固化来生成三维物体。构建材料可以是基于粉末的，并且所生成物体的特性可以取决于所使用的构建材料的类型以及固化机制的类型。在该技术的多个示例中，以逐层的方式提供构建材料，并且固化方法包括加热构建材料层以在所选择区域中引起熔化。在其他技术中，可以使用化学固化方法。

增材制造系统可以基于结构设计数据生成物体。这可以包括设计者例如使用计算机辅助设计应用程序CAD来生成待生成物体的三维模型。模型可以定义物体的实体部分。为了使用增材制造系统根据模型生成三维物体，可以处理模型数据以生成模型的平行平面的切片。每个切片可以定义将要由增材制造系统固化或引起聚结的相应的构建材料层的一部分。

在本文的示例中所参考的构建材料可以包括例如作为基于粉末的构建材料的构建材料。如本文所使用的，术语基于粉末的材料意在包括干式和湿式基于粉末的材料、颗粒材料、以及粒状材料。

使用增材制造系统生成有形三维物体的方法可以包括一系列步骤，包括：形成构建材料层，选择性地递送试剂(例如聚结剂和/或聚结改性剂)至构建材料层的表面的一个或多个部分，以及临时地施加预定水平的能量至构建材料层。能量的临时施加可以使得其上已经递送或渗透了聚结剂的构建材料的一部分加热至构建材料的熔点以上并且聚结。一旦冷却，已经聚结的部分变为固态并且形成正在生成的三维物体的一部分。随后可以重复这些步骤以形成三维物体。其他步骤和工序也可以用于该步骤序列。

可以使用将试剂沉积在构建材料上的试剂分配器来沉积试剂，例如聚结剂或聚结改性剂。本文所描述本文所描述的示例中，聚结剂和聚结改性剂可以包括可以使用试剂分配器递送的流体。在一个示例中，以微滴形式递送试剂。

根据本文所描述一些示例的试剂分配器可以包括打印头，诸如热打印头或压电打印头。在一个示例中，可以使用诸如在商业可购得的喷墨打印机中使用的合适的打印头之类的打印头。

本文所描述的示例涉及一种用于对构建材料分配器和/或试剂分配器执行诊断测试或校准的方法和设备。示例可以用于校准操作的执行，包括但不限于：

-试剂分配器的对准，例如打印头对准，以补偿打印头位置和/或在沿两个方向打印的设备中双向补偿。

-试剂微滴重量(或尺寸)校准：打印头的老化或制造差异可能影响微滴重量(或尺寸)。

-喷嘴健康状况：校验打印机系统中的喷嘴的状态，这对于识别故障喷嘴、以及如果需要的话替换喷嘴或打印头、或者执行恢复动作可以有用。

图1示出了对用于生成三维物体的设备进行校准的方法的示例。方法包括通过沉积构建材料并施加能量至构建材料以形成熔化的表面而生成校准衬底，步骤101。在一些示例中，跨越预定区域均匀地沉积构建材料。在一些示例中，步骤101包括在沉积多个构建材料层，并且在沉积每个单个层之后施加能量。换言之，在该示例中，通过重复地沉积构建材料并施加能量至构建材料来生成校准衬底，以使得校准衬底包括多个构建材料层。在一些示例中，每个层约0.1mm厚。在一些示例中，校准衬底包括至少5层构建材料。在一些示例中，构建材料层的数目在5－15的范围中。较少的层意味着使用较少构建材料，减少了执行方法的示例的成本，并且用于生成校准衬底的时间也较少。更多的层意味着增大校准衬底的机械刚性，因此增大了其操纵并从设备移除的便易性。

在一些示例中，在施加能量至构建材料之前施加聚结剂至所沉积的构建材料。施加聚结剂至所沉积的构建材料的整个区域。在其中所生成校准衬底包括多个构建材料层的一些示例中，在施加能量至该层之前施加聚结剂至所沉积的构建材料的每个层。这些示例实现了与其中不施加聚结剂的示例相比使用所施加能量的的数量降低来实现构建材料的熔化。

在一些示例中，在校准衬底的生成期间施加至构建材料的能量的量大于在设备的正常构建操作期间施加至构建材料层的能量的量。这些示例实现了不使用聚结剂而实现构建材料的熔化。

在步骤102中，通过根据预定图案在校准表面上沉积试剂来在校准衬底上生成校准图案。在一些示例中，试剂是聚结剂。当施加能量至构建材料时，聚结剂引起构建材料的熔化，该构建材料为已在其上沉积了聚结剂的构建材料。可以控制所施加的能量的水平以使得具有聚结剂的构建材料熔化而没有聚结材料的构建材料不熔化。聚结剂可以具有颜色，当熔化时，该颜色确定已经施了聚结剂的构建材料的颜色。

在一些示例中，在步骤102中沉积的试剂是聚结改性剂。聚结改性剂可以用于各种目的。在一个示例中，聚结改性剂可以递送至邻近递送了聚结剂的位置的位置，例如用以帮助减小聚结剂渗漏的效应。这可以用于例如提高物体边缘或表面的分辨率，和/或修改表面粗糙度。在另一示例中，聚结改性剂可以与聚结剂交替递送，这可以用于实现物体特性的修改。在一些示例中试剂是着色剂，该着色剂改变着色剂沉积到的构建材料的颜色。在一些示例中，试剂是改变材料特性的材料特性改变剂，该材料特性例如在其上沉积该材料特性改变剂的构建材料的机械和物体特性，诸如强度、硬度等。在一些示例中，步骤102包括根据预定图案在校准衬底上沉积多个不同试剂。

在一些示例中，步骤102包括根据第一预定图案沉积第一试剂，以及根据第二预定图案沉积第二试剂。在一个示例中，第一试剂是聚结剂并且第二试剂是聚结改性剂，以及定义第一和第二预定图案以使得聚结改性剂邻近聚结剂沉积。在一些示例中，第一试剂是具有第一颜色的聚结剂，并且第二试剂是具有第二颜色的聚结剂。在一些示例中，第一预定图案和第二预定图案重叠。在一个示例中，着色剂沉积在与聚结剂相同的区域中。在一个示例中，着色剂沉积在与聚结改性剂相同的区域中。在一些示例中，由用于生成三维物体的设备的试剂沉积系统来沉积试剂。

在一些示例中，在已经发生设备的显著冷却之前生成校准图案。这可以确保在校准图案的生成期间设备的部件(例如响应于温度增高而膨胀的机械部件)的温度接近校准衬底的生成期间的这些部件的温度(校准衬底的生成期间的温度是设备的正常构建模式工作温度)。这进而可以确保精确的校准，这是因为设备的机械部件的热膨胀意味着与在较冷温度下相比，在设备的正常构建工作温度下它们的性能不同。

在一些示例中，设计预定图案，以实现从2D打印机装置复制一些现有的校准技术。例如，预定的图案可以包括以下2D校准图案中的任意校准图案：

-线条图案。可以视觉地测量线条图案，或者由用于生成三维物体的设备中的传感器来测量线条图案，以在单个颜色内和多个颜色之间找到最笔直线条。干涉图案。可以视觉地测量干涉图案或者由设备中的传感器来测量干涉图案。干涉图案可以包括例如基底图案，以及在打印头为正确地对准时的相对于彼此不对准的重叠图案。

-方块图案。可以由设备中的传感器来测量方块图案。

-斜坡图案。可以由设备中的传感器来测量斜坡图案。它们用于沿衬的底轴线方向对准打印头。

-N型图案。可以由设备中的传感器来测量N型图案。它们可以用于沿衬底的轴线方向对准打印头，并且还可以用于测量打印机中的特征的距离，例如一个打印头与传感器之间的距离。

在步骤103中，测量校准图案的属性。在一些示例中，在步骤103的执行期间校准衬底留在设备内的合适位置处。在一些此类示例中，由集成至设备中的传感器来执行测量。在一些此类示例中，由集成至设备中的多个传感器执行测量。在一些示例中，在执行步骤103之前从设备移除校准衬底。在一些示例中，使用与设备分离的传感器装置来测量属性。在一些示例中，使用人类操作者的视觉检查来测量属性。在一些示例中，属性是校准图案的特征的相对位置。在一些示例中，属性是单个试剂微滴的位置，例如用于检查试剂分配系统的对准。在一些示例中，属性是打印了试剂的区域的暗度或颜色，例如用于检查微滴重量和颜色校准。在一些示例中，属性是单个试剂微滴的存在，例如用于检查喷嘴健康状况。

方法可以用于例如检查用于生成三维物体的设备的操作参数和/或性能，和/或用于调节用于生成三维物体的设备的操作参数。在特定示例中，方法可以用于检查和/或调节与试剂沉积有关的操作参数。

本文所描述的示例具有的优点在于，用于在纸张/乙烯基介质支撑上校准打印系统的已研发的校准技术可以用于校准使用非固体构建材料(诸如粉末)的三维打印系统。

示例实现了用于在校准进程期间生成三维物体的设备操作紧密地或精确地与其在正常构建进程期间的操作相对应。例如，当设备正生成校准图案时，设备的构建材料分布系统与其上沉积了构建材料的衬底之间的距离与当设备正生成并非校准物体的三维物体时构建材料分布系统与衬底之间的距离相同。因此示例可以确保校准的结果尽可能精确。

图2示出了适用于实施图1的方法的用于生成三维物体的设备的示例。设备包括用于沉积构建材料的构建材料沉积系统202。设备还包括例如包括能量源的能量施加系统203，用于施加受控量的能量至所沉积的构建材料。在一些示例中，能量源可以包括灯、可见光源、紫外光源、微波能量源、辐射源或激光源。还可以使用能量或热量的其他源。

设备还包括试剂沉积系统204，由处理单元控制以选择性地沉积试剂，该试剂例如聚结剂或聚结改性剂。在一些示例中，试剂沉积系统204包括打印头，诸如热打印头或压电打印头。在一个示例中，可以使用诸如在商业可购得喷墨打印机中所使用的合适的打印头之类的打印头。

设备还包括测量系统205。在一些示例中，测量系统205包括高度传感器以检测由设备生成的物体的表面的高度差。在一些示例中，测量系统205包括颜色传感器以检测由设备生成的物体的表面中的颜色差。在一些示例中，测量系统205包括光学传感器。在一些示例中，测量系统包括多个光学传感器。在一个此类示例中，测量系统包括与用于喷墨打印机(例如HP DesignJet喷墨打印机)中光学传感器相同或类似的光学传感器集合。

设备还包括处理单元201以控制构建材料沉积系统202、能量施加系统203、试剂沉积系统204以及测量系统205。处理单元201利用可以是有线或无线的通信链路的通信链路205、206、207、208来与构建材料沉积系统202、能量施加系统203、试剂沉积系统204以及测量系统205进行通信。在一些示例中，处理单元201、构建材料沉积系统202、能量施加系统203、试剂沉积系统204以及测量系统205全部设置在单个装置外壳内。在一些示例中，处理单元201、构建材料沉积系统202、能量施加系统203、试剂沉积系统204以及测量系统205中的至少一个被设置为分立装置。

处理单元201用于通过控制构建材料沉积系统202以沉积构建材料并通过控制能量施加系统203以施加能量至构建材料进而形成熔化的表面的方式来控制构建材料沉积系统202以及能量施加系统203来生成校准衬底。在一些示例中，处理单元用于控制构建材料沉积系统202和能量施加系统203来重复地沉积构建材料并且随后向该构建材料施加能量，以使得所生成的校准衬底包括多个层。

处理单元201还用于通过根据预定图案在校准衬底上沉积试剂来控制试剂沉积系统204在校准衬底上生成校准图案。在一些示例中，处理单元用于控制构建材料沉积系统202、能量施加系统203、和试剂沉积系统204，以通过在校准衬底上沉积另外的构建材料、根据预定图案在另外的构建材料上沉积试剂、以及施加能量至另外的构建材料的方式在校准衬底上生成校准图案。在一些示例中，处理单元用于控制构建材料沉积系统202、试剂沉积系统204和能量施加系统203来重复地沉积另外的构建材料、沉积试剂、并且随后施加能量，从而使所生成的校准图案包括多个层。另外的构建材料与用于生成校准衬底的构建材料相同。

处理单元201还用于控制测量系统以测量校准图案的属性。在一些示例中，处理单元201用于控制测量系统205以测量校准图案的多个属性。在一些示例中，处理单元201用于控制测量系统以识别校准图案中的指定特征，例如线条或线条的组合。在一些示例中，处理单元用于确定校准图案中的特征的相对位置。在一些示例中，处理单元用于将测量到的属性与预定图案进行比较。在一些示例中，处理单元用于计算测量到的属性与预定图案之间的差异。在一些示例中，处理单元用于基于测量到的属性或者基于测量到的属性与预定图案之间的计算出的差异来调节设备的操作参数，例如试剂沉积系统204的对准。

图3示出了用于生成三维物体的设备301的示例。图3的设备301适用于实施图1的方法。设备301包括构建材料沉积系统302、能量施加系统(未示出)、试剂沉积系统(未示出)、以及测量系统(未示出)，这些可以与在以上结合图2中所示设备所描述的的构建材料沉积系统202、能量施加系统203、试剂沉积系统204以及测量系统205相同。

图3的示例性设备301还包括其上可以沉积构建材料的初始层的可加热支撑基床303。支撑基床由布置在支撑基床中或者在支撑基床下方的热源可加热。设备301还包括处理单元(未示出)以控制沉积系统302、能量施加系统、测量系统以及热源。在一些示例中，处理单元用于通过控制热源的操作来控制支撑基床303的温度。在一些示例中，处理单元用于控制热源以在设备301的构建模式期间将支撑基床303维持在第一温度，并且在设备301的校准模式期间将支撑基床303维持在更高的第二温度。在一个示例中，第一温度低于构建材料的熔点，并且第二温度在构建材料的熔点以上。这确保了当正在生成校准衬底时，该校准极低可以变得完全熔化而无需施加聚结剂。

图4示出了对用于生成三维物体的设备进行校准的方法的示例。方法包括通过沉积构建材料并且施加能量至构建材料以形成熔化的表面来生成校准衬底，步骤401。在步骤402中，通过根据预定图案在校准表面上沉积试剂来在校准衬底上生成校准图案。在一些示例中，步骤401和402以与接合图1的示例性方法如上所述的步骤101和102相同的方式来执行。

在步骤403中，从设备移除其上形成有校准图案的校准衬底。在一些示例中，在从步骤402完成了一定时间之后执行步骤403。这允许校准衬底冷却以使其可以容易地处理。取决于校准衬底的厚度，在一些情形中，校准衬底可以随着它的冷却而弯曲。在一些示例中，设计预定的图案以使得测量到的属性不受这种弯曲的影响。

在步骤404中，测量校准图案的属性。在一些示例中，测量包括由人类操作者视觉地检查校准衬底。在一些示例中，使用与设备分离的传感器装置来测量属性。在一些示例中，步骤404包括利用不同颜色的光来照射校准图案，例如使用LEDs，并且利用光学传感器来测量响应。可以通过确定传感器处的信号最小值(或最大值)来确定图案特征的位置。为了确定图案特征的颜色，将关于每个颜色的光的信号数值取作测量值。在一些示例中，使用分光光度计来执行测量。

示例因此提供生成可以在外部评估的校准物体的可能性。例如，外部评估可以包括视觉评估，例如由此读取数值并且以一种形式引入或电子地输入该数值。示例还可以实现针对自动评估而生成一些事物，例如包括扫描或光学感测并在后期处理数据以获得校准结果。在这些方法中的任意方法中，可以使用图像以及处理技术，包括例如来自其他打印技术的图像以及处理技术。

图5示出了用于生成校准图案的方法的示例。在校准衬底的熔化的表面上沉积另外的构建材料，步骤501。在一些示例中，跨越校准衬底的整个区域均匀地沉积另外的构建材料。在一些示例中，以与构建材料的沉积相同的方式执行另外的构建材料的沉积，如关于图1的步骤101如上所述的。另外的构建材料与步骤101中所沉积的构建材料相同。

在步骤502中，根据预定图案将试剂沉积在另外的构建材料上。在一些示例中，以与图1的步骤102相同的方式执行步骤502。

在步骤503中，施加能量至另外的构建材料。在一些示例中，选择所施加的能量的水平，以使得通过施加能量来引起另外的构建材料融化，在该另外的构建材料之上或下方已经施加了聚结剂，而此时并未由施加能量引起在其上没有施加聚结剂的另外的构建材料的熔化。

在一些示例中，重复地执行步骤501、502和503以使得校准图案包括多个构建材料层。因为预定的图案对于每个层是相同的，因此这使得试剂的效果被放大，并且因此更易于测量。

示例因此实现了测试和/或调节用于生成与试剂的沉积相关的三维物体的设备的方面。

图6示出了对用于生成三维物体的设备进行校准的方法的示例。方法包括通过沉积构建材料并施加能量至构建材料以形成熔化的表面来生成校准衬底，步骤601。在步骤602中，通过根据预定图案在熔化的表面上沉积试剂来在校准衬底上生成校准图案。在步骤603中，测量校准图案的属性。在一些示例中，以与关于图1的示例性方法如上所述的步骤101、102和103相同的方式执行步骤601、602和603。在一些示例中，以与关于图4的示例性方法如上所述的步骤401-404相同的方式执行步骤601、602和603。

在步骤604中，基于步骤603中所执行的测量来调节用于生成三维物体的设备的操作参数。在一些示例中，步骤604包括改变试剂沉积系统的对准。在一些此类示例中，通过改变喷嘴或喷嘴群组的发射时间来改变对准以使得来自不同打印头/墨盒位置的试剂微滴位于相同表面位置。在一些示例中，通过改变喷嘴或喷嘴群组的发射时间来改变对准，使得沿从左至右打印方向发射的试剂微滴与沿从右至左打印方向发射的试剂微滴位于相同表面位置。在一些示例中，步骤604包括调节关于由试剂沉积系统所放置试剂的颜色和/或暗度的参数。在一些此类示例中，通过改变在给定表面位置处发射的微滴数量来调节关于颜色和/或暗度的参数。在一些示例中，响应于步骤604的结果满足预定条件来自动地执行步骤604。在一个示例中，响应于测量到的属性以不大于预定最小值的量偏离预定图案来自动地执行步骤604。在一些示例中，步骤604包括手动地调节设备的操作参数，例如通过将新参数值输入至设备的用户界面中。

本公开中的示例可以提供作为方法、系统或机器可读指令，诸如软件、硬件、固件等的任意组合。这些机器可读指令可以包括在其中或其上具有计算机可读程序代码的计算机可读存储介质(包括但不限于磁盘存储、CD-ROM、光学存储等)上。

参照根据本公开的示例的方法、装置和系统的流程图和/或方框图描述了本公开。尽管如上所述的流程图示出了指定的执行顺序，但执行的顺序可以不同于所示的顺序。关于一个流程图所述的方框步骤可以与另一流程图的那些步骤组合。应该理解的是，流程图和/或方框图中每个流程和/或方框、以及流程图和/或方框图中流程和/或图表的组合可以由机器可读指令来实现。

机器可读指令可以例如由通用计算机、专用计算机、嵌入式处理器或其他可编程数据处理装置的处理器执行以实现说明书和附图中所述的功能。特别地，处理器或处理设备可以执行机器可读指令。因此设备和装置的功能模块可以由执行了存储在存储器中机器可读指令的处理器、或者根据逻辑电路中所内嵌的指令而操作的处理器实施。术语“处理器”应该广义地解释为包括CPU、处理单元、ASIC、逻辑单元、或可编程门阵列等。方法和功能模块可以均由单个处理器执行或者划分到多个处理器之中。

这些机器可读指令还可以存储在可以引导计算机或其他可编程数据处理装置工作在指定模式地计算机可读存储装置中。

这些机器可读指令还可以加载至计算机或其他可编程数据处理装置上，因此计算机或其他可编程数据处理装置执行一系列操作步骤以生成计算机实施地处理，因此在计算机或其他可编程装置上执行的指令提供了用于实现流程图中流程和/或方框图中方框所指定功能的步骤。

进一步，可以以计算机软件产品的形式实施本文的教导，计算机软件产品存储在存储介质中并且包括用于使计算机装置实施在本公开的示例中所述的方法的多个指令。

尽管已经参照某些示例描述了方法、设备和相关特征方面，可以做出各种修改、改变、省略和替换而并未脱离本公开的精神。因此有意设计的是仅由以下权利要求和它们等价形式的范围限制方法、设备和相关特征方面。应该注意的是上述示例示出而不是限制了本文所描述内容，并且本领域技术人员将能够设计多个备选实施方式而并未脱离所附权利要求的范围。

词语“包括”并未排除除了权利要求中所列那些之外的其他元件的存在，“一”或“一个”并未排除多个，并且单个处理器或其他单元可以实现权利要求中所述数个单元的功能。

任何从属权利要求的特征可以与任意独立权利要求或其他从属权利要求的特征组合。

Claims (15)

1.一种对用于生成三维物体的设备进行校准的方法，所述方法包括：

通过沉积构建材料并且施加能量至所述构建材料以形成熔化的表面，来生成校准衬底；

通过根据预定图案在所述校准衬底上沉积试剂，来在所述校准衬底上生成校准图案；并且

测量所述校准图案的属性。

2.根据权利要求1所述的方法，其中通过重复地沉积构建材料并且施加能量至所述构建材料来生成所述校准衬底，以使得所述校准衬底包括多个构建材料层。

3.根据权利要求1所述的方法，其中在所述校准衬底上生成校准图案包括：

在所述校准衬底上沉积另外的构建材料；

根据所述预定图案在所述另外的构建材料上沉积所述试剂；并且

施加能量至所述另外的构建材料。

4.根据权利要求3所述的方法，其中通过重复地沉积另外的构建材料、沉积试剂以及施加能量来生成所述校准图案，以使得所述校准图案包括多个构建材料层。

5.根据权利要求3所述的方法，其中在所述校准衬底上生成校准图案包括：在施加能量至所述另外的构建材料之前，根据另外的预定图案在所述另外的构建材料上沉积另外的试剂。

6.根据权利要求3所述的方法，其中所述试剂包括：

聚结剂；或

聚结改性剂；或

着色剂；或

材料特性改变剂。

7.根据权利要求1所述的方法，其中在所述校准图案的属性的测量步骤期间，所述校准衬底位于用于生成三维物体的所述设备之内。

8.根据权利要求1所述的方法，所述方法包括：在执行所述校准图案的属性的测量步骤之前，从用于生成三维物体的所述设备移除所述校准衬底。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述校准图案的属性的测量步骤包括：确定所述校准图案的特征的相对位置。

10.根据权利要求1所述的方法，其中用于生成三维物体的所述设备包括响应于温度升高而膨胀的机械部件，并且其中所述校准图案的生成期间的所述机械部件的温度至少与所述校准衬底的生成期间的所述机械部件的温度同样高。

11.根据权利要求1所述的方法，所述方法包括：基于所述测量的结果来调节用于生成三维物体的所述设备的操作参数。

12.一种用于生成三维物体的设备，所述设备包括：

构建材料沉积系统，用于沉积构建材料；

能量施加系统，用于施加能量至所沉积的构建材料；

试剂沉积系统，用于沉积试剂；

测量系统；以及

处理单元，用于：

控制所述构建材料沉积系统和所述能量施加系统，以通过沉积第一构建材料并施加能量至所述第一构建材料以形成熔化的表面来生成校准衬底；

控制所述试剂沉积系统，以通过根据预定图案在所述校准衬底上沉积试剂来在所述校准衬底上生成校准图案；并且

控制所述测量系统，以测量所述校准图案的属性。

13.根据权利要求12所述的设备，所述设备包括：用于接受所沉积的构建材料的可加热基床，其中所述处理单元用于控制所述基床的温度，以将生成校准衬底期间的温度控制为第一温度，并且在生成不是校准衬底的三维物体期间的温度控制为较低的第二温度。

14.根据权利要求12所述的设备，其中，所述测量系统包括高度传感器，以检测由所述设备生成的物体的表面的高度差。

15.一种被编码有由处理器可执行的指令的非暂时性机器可读存储介质，所述机器可读存储介质包括：

用于通过沉积构建材料并施加能量至所述构建材料以形成熔化的表面，来生成校准衬底的指令；

用于通过根据预定图案在所述校准衬底上沉积试剂，来在所述校准衬底上生成校准图案的指令；以及

用于测量所述校准图案的属性的指令。