CN106940389A - 一种超分辨可溯源的白光干涉原子力探针标定装置及标定方法 - Google Patents
一种超分辨可溯源的白光干涉原子力探针标定装置及标定方法 Download PDFInfo
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Abstract
本发明公开一种超分辨可溯源的白光干涉原子力扫描探针标定装置及其标定方法,上述的标定装置来执行标定方法,其中上述装置及方法的核心技术包括有可溯源超分辨位移计量系统,白光干涉零级条纹定位算法,原子力探针弯曲模型和标定流程;其中标定装置使探针产生形变,可溯源超分辨位移计量系统用于准确获取探针产生形变时的垂直位移,白光干涉零级条纹定位算法用于准确获取干涉条纹在探针悬臂上的位置,原子力探针弯曲模型用于拟合垂直位移与条纹位置之间的关系,标定流程为具体实施步骤。按照本发明实现的标定装置和标定方法,能够准确、快速的获取垂直位移与条纹位置之间的关系,实现白光干涉原子力探针扫描显微镜的准确测量。
Description
技术领域
本发明属于微纳表面形貌测量技术领域,更具体地,涉及一种用于白光干涉原子力探针扫描显微镜的可溯源探针标定方法。
背景技术
白光干涉原子力探针扫描显微镜的工作原理是,探针在被测样件表面拖动时,探针悬臂随着被测样件表面高低起伏的变化而发生不同程度的弯曲,导致探针悬臂上干涉条纹的位置也随着发生移动,根据干涉条纹在探针悬臂上的移动量可以计算出与之对应的被测样件表面的高度信息。
由于原子力探针的结构尺寸十分微小,以及受现有材料的均匀性和生产加工工艺的限制,不可能得到各方面性能指标完全一样的原子力探针,并且原子力探针的结构尺寸通过现有技术条件也无法准确量化,另外,当探针悬臂发生弯曲时,探针悬臂上不同位置所对应的弯曲程度是不一样的,导致干涉条纹在探针悬臂上的不同位置时,对应同样的垂直位移,所产生的移动量也是不一样的,因此无法通过理论分析来准确获得探针垂直位移与干涉条纹在探针悬臂上的位置之间的关系。为了实现白光干涉原子力探针扫描显微镜的准确测量,通过对探针垂直位移与干涉条纹在探针悬臂上的位置进行标定,准确获取它们之间的关系,然后用于白光干涉原子力探针扫描显微镜测量,可以从根本上提高其测量精度和测量范围。
发明内容
针对现有技术存在的缺陷或改进需求,本发明提供了一种超分辨可溯源的白光干涉原子力扫描探针标定装置,该标定装置包括平面平晶,原子力探针,原子力探针悬臂,白光干涉系统,垂直微动平台,CCD,测控系统;
所述白光干涉系统用于在所述原子力探针悬臂上产生干涉条纹,所述CCD用于获取所述原子力探针悬臂上的干涉条纹图像,垂直微动平台用于驱动所述原子力探针与所述平面平晶表面接触产生挤压;
其特征在于,所述标定装置还包括可溯源超分辨位移计量系统,其设置于所述垂直微动平台之上,用于测量所述原子力探针的垂直位移,所述可溯源超分辨位移计量系统沿光路依次包括半导体激光器,消偏振分光棱镜,偏振分光棱镜,反射棱镜,1/4玻片,角锥棱镜,第一反射镜,第二反射镜及第三反射镜;
其中由所述半导体激光器发出的光经过所述消偏振分光棱镜,到达所述偏振分光棱镜,分成两束光,一束为参考光,穿过所述偏振分光棱镜,依次通过反射棱镜和1/4玻片,到达所述第一反射镜,另一束为测量光,经过所述偏振分光棱镜反射,依次穿过1/4玻片和所述角锥棱镜,到达所述第二反射镜,所述参考光及所述测量光到达所述第三反射镜,经反射后分别到达所述第一反射镜和所述第二反射镜,最后返回到所述消偏振分光棱镜,产生干涉,由光电探测器接收;
所述测控系统接收所述CCD及所述光电探测器的信号并处理获得所述干涉条纹零级条纹在所述原子力探针悬臂上的位置和所述原子力探针的垂直位移。
进一步地,所述角锥棱镜产生位移时,所述参考光及所述测量光光程差为所述角锥棱镜位移的8倍。
进一步地,所述角锥棱镜与原子力探针为同轴刚性连接。
进一步地,所述可溯源超分辨位移计量系统的分辨率为皮米级。
进一步地,在所述测控系统中,采用白光干涉零级条纹定位算法分析干涉条纹图像,即使用极值法求取多条白光干涉信号的极值点,然后求平均值获得白光干涉零级条纹在探针悬臂上的准确位置。
进一步地,利用原子力探针弯曲模型求得所述干涉条纹零级条纹在所述原子力探针悬臂上的位置和所述原子力探针(2)的垂直位移之间的关系为三次多项式。
另外一方面,本发明还公开了一种超分辨可溯源的白光干涉原子力扫描探针标定装置的标定方法,其特征在于,所述标定方法包括如下步骤:
步骤1:在所述原子力探针悬臂的适当位置产生白光干涉条纹,使所述原子力探针针尖与所述平面平晶的表面接触;
步骤2:驱动所述垂直微动平台使所述原子力探针向下移动,以微小步距挤压所述平面平晶的表面,原子力探针悬臂会产生弯曲,带动所述角锥棱镜同步向下移动,通过所述可溯源超分辨位移计量系统测量所述原子力探针向下移动的位移,同时干涉条纹会在所述原子力探针悬臂上移动,通过所述CCD实时获取原子力探针悬臂上的干涉条纹图像,使用白光干涉零级条纹定位算法分析干涉条纹图像,获取各个时刻干涉条纹在原子力探针悬臂上的准确位置;
步骤3:使用所述原子力探针弯曲模型所确定的原子力探针垂直位移与原子力探针悬臂上白光干涉零级条纹位置之间的关系来拟合步骤中所获得的位移和位置值,获取标定曲线并保存,标定完成。
所述步骤2中的微小步距的量级为10nm步距。
总体而言,通过本发明所构思的以上技术方案与现有技术相比,能够取得下列有益效果:
(1)采用可溯源超分辨位移计量系统对探针的垂直位移进行计量,由于高达皮米级的测量分辨率,可以达到很高的测量精度,从而提高计量的准确性,同时测量可以溯源到激光波长,进而可以提高白光干涉原子力探针扫描显微镜的测量精度;
(2)白光干涉零级条纹的准确定位对探针标定和白光干涉原子力探针扫描显微镜的测量都具有重要意义,采用白光干涉零级条纹定位算法可以提高零级条纹的定位精度和稳定性;
(3)通过原子力探针弯曲模型推导出探针垂直位移与探针悬臂上白光干涉零级条纹位置之间为三次多项式的关系,然后用于拟合所述垂直位移与所述条纹位置之间的关系,使其由离散数据点变为连续曲线,用于白光干涉原子力探针扫描显微镜的测量。
(4)通过以上技术可以极大地提高标定的准确性,进而保证了测量结果的准确性,同时对一根探针,只需要一次标定,保存标定关系用于测量,不需要每次测量都进行标定。
总之,按照本发明的标定方法,可以实现原子力探针的高精度标定,从而实现白光干涉原子力探针扫描显微镜的准确测量。
附图说明
图1是按照本发明实现的用于白光干涉原子力探针扫描显微镜的可溯源探针标定方法的原理图;
图2是按照本发明实现的用于白光干涉原子力探针扫描显微镜的可溯源探针标定方法中的可溯源超分辨位移计量系统的结构示意图;
图3是按照本发明实现的用于白光干涉原子力探针扫描显微镜的可溯源探针标定方法中的探针弯曲模型示意图。
在所有附图中,相同的附图标记用来表示相同的元件或结构,其中:
1-平面平晶 2-原子力探针 3-白光干涉系统 4-垂直微动平台 5-可溯源超分辨位移计量系统 6-角锥棱镜 7-CCD 8-测控系统 9-反射镜二 10-反射镜一 11-1/4玻片12-反射棱镜 13-反射镜三 14-偏振分光棱镜 15-消偏振分光棱镜 16-半导体激光器 17-光电探测器
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。此外,下面所描述的本发明各个实施方式中所涉及到的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互组合。
图1为本发明方法的原理图。如图1所示,按照本发明一个优选实施例的用于白光干涉原子力探针扫描显微镜的可溯源探针标定方法中包括,平面平晶1,原子力探针2,白光干涉系统3,垂直微动平台4,可溯源超分辨位移计量系统5,角锥棱镜6,CCD7,测控系统8。白光干涉系统3在探针悬臂上产生干涉条纹,驱动垂直微动平台4使原子力探针2与平面平晶1接触,继续驱动原子力探针2以微小步距挤压平面平晶1的表面,该微小步距的数量级为:纳米级(10nm步距)。并且说明现有技术中能够实现该垂直微动的具体实施方式,垂直微动平台4为压电陶瓷驱动器,原子力探针2悬臂会产生弯曲,在这个过程中,会带动角锥棱镜6同步向下移动,通过所述可溯源超分辨位移计量系统5测量原子力探针向下移动的位移,同时干涉条纹会在原子力探针2悬臂上移动,通过所述CCD7实时获取原子力探针2悬臂上的干涉条纹图像,使用所述白光干涉零级条纹定位算法分析干涉条纹图像,获取各个时刻干涉条纹在原子力探针2悬臂上的准确位置,使用所述原子力探针弯曲模型所确定的原子力探针垂直位移与原子力探针悬臂上白光干涉零级条纹位置之间的关系来拟合所获得的原子力探针垂直位移和干涉条纹在探针悬臂上的位置值,而且在本发明的光学原理的基础上,将角锥棱镜6放置于垂直微动平台4上,尤其可获得本发明中获得垂直位移测量的良好效果,实验表明采用原子力探针弯曲模型所确定的三次多项式关系来拟合原子力探针垂直位移和干涉条纹在探针悬臂上的位置值,可以获得很高的匹配效果,实验数据与理论分析是相吻合的。
图2为图1中所示可溯源超分辨位移计量系统的结构示意图,由半导体激光器16发出的光经过消偏振分光棱镜15,到达偏振分光棱镜14,分成两束光,一束为参考光,穿过偏振分光棱镜14,依次通过反射棱镜12和1/4玻片11,到达反射镜10,另一束为测量光,经过偏振分光棱镜14反射,依次穿过1/4玻片11和角锥棱镜6,到达反射镜9,然后两束光都到达反射镜13,再分别到达反射镜10和9,最后沿初始光路返回到消偏振分光棱镜15,产生干涉,由光电探测器17接收,光电探测器17与所述测控系统8连接,从而可以获得原子力探针的垂直位移量。
图3为本发明方法中探针弯曲模型示意图,图中,X为干涉条纹在探针悬臂上的位置坐标,Y为探针悬臂所在平面的宽度坐标,Z为探针的垂直位移坐标,x是干涉条纹在探针悬臂上的初始位置,l为探针悬臂的长度,P为探针针尖与平面平晶之间的相互作用力,θ是探针悬臂在力P的作用下所产生的偏转角度,原子力探针2悬臂的弯曲为挠性形变,根据白光干涉原理和悬臂梁挠性变形原理,可以得到探针的垂直位移与探针悬臂上白光干涉零级条纹位置之间为三次多项式的关系,为将离散的原子力探针垂直位移和干涉条纹在探针悬臂上的位置值拟合为连续曲线作为白光干涉原子力探针扫描显微镜的测量基准提供了理论依据。
下面将具体描述利用按照本发明的标定方法进行标定:
首先,调节好可溯源超分辨位移计量系统5的计量信号以及白光干涉信号在原子力探针悬臂上的位置,驱动垂直微动平台4使原子力探针2与平面平晶1接触,继续驱动原子力探针2以微小步距挤压平面平晶1的表面,原子力探针2悬臂会产生弯曲,测控系统8通过CCD7采集干涉图像并运用白光干涉零级条纹定位算法获取干涉条纹在探针悬臂上的位置,同时采集可溯源超分辨位移计量系统5所测量的原子力探针的垂直位移,然后利用原子力探针弯曲模型所确定的三次多项式关系进行拟合,获取它们之间关系的标定曲线,将曲线数据保存,完成标定。
本发明针对白光干涉原子力探针扫描显微镜提出了一种可溯源探针标定方法,提出可溯源超分辨位移计量系统用于准确获取探针产生形变时的垂直位移,白光干涉零级条纹定位算法用于准确获取干涉条纹在探针悬臂上的位置,原子力探针弯曲模型用于拟合所述垂直位移与所述条纹位置之间的关系,提高标定关系的准确性,实现白光干涉原子力探针扫描显微镜的准确测量。
本领域的技术人员容易理解,以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种超分辨可溯源的白光干涉原子力扫描探针标定装置,该标定装置包括平面平晶(1),原子力探针(2),原子力探针悬臂,白光干涉系统(3),垂直微动平台(4),CCD(7),测控系统(8);
所述白光干涉系统(3)用于在所述原子力探针悬臂上产生干涉条纹,所述CCD(7)用于获取所述原子力探针悬臂上的干涉条纹图像,垂直微动平台(4)用于驱动所述原子力探针(2)与所述平面平晶(1)表面接触产生挤压;
其特征在于,所述标定装置还包括可溯源超分辨位移计量系统(5),其设置于所述垂直微动平台(4)之上,用于测量所述原子力探针(2)的垂直位移,所述可溯源超分辨位移计量系统(5)沿光路依次包括半导体激光器(16),消偏振分光棱镜(15),偏振分光棱镜(14),反射棱镜(12),1/4玻片(11),角锥棱镜(6),第一反射镜(10),第二反射镜(9)及第三反射镜(13);
其中由所述半导体激光器(16)发出的光经过所述消偏振分光棱镜(15),到达所述偏振分光棱镜(14),分成两束光,一束为参考光,穿过所述偏振分光棱镜(14),依次通过反射棱镜(12)和1/4玻片(11),到达所述第一反射镜(10),另一束为测量光,经过所述偏振分光棱镜(14)反射,依次穿过1/4玻片(11)和所述角锥棱镜(6),到达所述第二反射镜(9),所述参考光及所述测量光到达所述第三反射镜(13),经反射后分别到达所述第一反射镜(10)和所述第二反射镜(9),最后返回到所述消偏振分光棱镜(15),产生干涉,由光电探测器(17)接收;
所述测控系统(8)接收所述CCD(7)及所述光电探测器(17)的信号并处理获得所述干涉条纹零级条纹在所述原子力探针悬臂上的位置和所述原子力探针(2)的垂直位移。
2.如权利要求1所述的超分辨可溯源的白光干涉原子力扫描探针标定装置,其特征在于,所述角锥棱镜(6)产生位移时,所述参考光及所述测量光光程差为所述角锥棱镜(6)位移的8倍。
3.如权利要求1或2所述的超分辨可溯源的白光干涉原子力扫描探针标定装置,其特征在于,所述角锥棱镜(6)与原子力探针(2)为同轴刚性连接。
4.如权利要求3所述的超分辨可溯源的白光干涉原子力扫描探针标定装置,其特征在于,所述可溯源超分辨位移计量系统(5)的分辨率为皮米级。
5.如权利要求4所述的超分辨可溯源的白光干涉原子力扫描探针标定装置,其特征在于,在所述测控系统(8)中,采用白光干涉零级条纹定位算法分析干涉条纹图像,即使用极值法求取多条白光干涉信号的极值点,然后求平均值获得白光干涉零级条纹在探针悬臂上的准确位置。
6.如权利要求5所述的超分辨可溯源的白光干涉原子力扫描探针标定装置,其特征在于,利用原子力探针弯曲模型求得所述干涉条纹零级条纹在所述原子力探针悬臂上的位置和所述原子力探针(2)的垂直位移之间的关系为三次多项式。
7.一种如权利1-6中任意一项所述的超分辨可溯源的白光干涉原子力扫描探针标定装置的标定方法,其特征在于,所述标定方法包括如下步骤:
步骤1:在所述原子力探针悬臂的适当位置产生白光干涉条纹,使所述原子力探针(2)针尖与所述平面平晶(1)的表面接触;
步骤2:驱动所述垂直微动平台(4)使所述原子力探针(2)向下移动,以微小步距挤压所述平面平晶(1)的表面,原子力探针(2)悬臂会产生弯曲,带动所述角锥棱镜(6)同步向下移动,通过所述可溯源超分辨位移计量系统(5)测量所述原子力探针(2)向下移动的位移,同时干涉条纹会在所述原子力探针(2)悬臂上移动,通过所述CCD(7)实时获取原子力探针(2)悬臂上的干涉条纹图像,使用白光干涉零级条纹定位算法分析干涉条纹图像,获取各个时刻干涉条纹在原子力探针(2)悬臂上的准确位置;
步骤3:使用所述原子力探针弯曲模型所确定的原子力探针垂直位移与原子力探针悬臂上白光干涉零级条纹位置之间的关系来拟合步骤(2)中所获得的位移和位置值,获取标定曲线并保存,标定完成。
8.如权利要求7所述的标定方法,其特征在于,所述步骤2中的微小步距的量级为10nm步距。
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CN106940389A true CN106940389A (zh) | 2017-07-11 |
CN106940389B CN106940389B (zh) | 2018-06-19 |
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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GR01 | Patent grant | ||
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