CN106609361A - 一种多气体多区域的喷淋结构 - Google Patents
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Abstract
一种多气体多区域的喷淋结构，主要解决现有的喷淋结构不易于控制沉积的时间及特气资源浪费的问题，本发明提供一种多气体多区域的喷淋结构，包括喷淋板本体，该喷淋板本体上设有气体A分区，气体B分区及凹槽，所述气体A分区上设有气体A入口，所述气体B分区上设有气体B入口。本发明的喷淋结构采用平面分区结构，隔离不同的气体路径，来实现两种气体独立、均匀的到达基底表面进行沉积反应，较好地解决了气体在进入腔室之前已进行接触，不易于控制沉积的时间及特气资源浪费的技术问题。具有结构合理及易于推广的特点。
Description
技术领域
本发明涉及一种多气体多区域的喷淋结构，属于半导体薄膜沉积应用及制造技术领域。
背景技术
半导体镀膜设备在进行沉积反应时，一般需要一种气体或两种气体，有时需要三种(或三种以上)气体同时进入腔室进行薄膜沉积，要求几种气体路径相互独立，在进入腔体前不能相遇，进入腔室后都能均匀扩散到基底表面。而现有的喷淋结构大都是针对单独的气体设计的路径，并且大多结构都只是在气体进口处进行分离，在进入腔室之前的气体已进行接触，使沉积反应提前进行。这样一来，即不易于控制沉积的时间及反应条件，也浪费了宝贵的不可再生的特气资源。当需要两种或两种以上气体时，之前的喷淋结构已不能满足要求。针对要求多种(两种及两种以上)气体同时、独立、均匀的苛刻要求，需要一种可以满足以上要求的喷淋结构。
发明内容
本发明以解决上述问题为目的，提供了一种多气体多区域的喷淋结构，该喷淋结构采用平面分区结构，隔离不同的气体路径，是一种满足了两种气体同时、独立、均匀沉积的喷淋结构。
为实现上述目的，本发明采用下述技术方案：
一种多气体多区域的喷淋结构，包括喷淋板本体，该喷淋板本体上设有气体A分区，气体B分区及凹槽，所述气体A分区上设有气体A入口，所述气体B分区上设有气体B入口；气体A分区与气体B分区不连通，气体A入口与气体A分区连通，气体B入口位于凹槽上并与气体B分区连通。
进一步地，所述喷淋头本体的底部设有多个通孔。
进一步地，所述气体A分区与气体B分区内部分别为气体通道。
本发明的有益效果及特点在于：
本发明的多气体多区域喷淋结构采用平面分区结构，隔离不同的气体路径，来实现两种气体独立、均匀的到达基底表面进行沉积反应，较好地解决了气体在进入腔室之前已进行接触，不易于控制沉积的时间及特气资源浪费的技术问题。并可在其上安装加热或冷却构件，以满足更严苛的工艺条件要求。具有结构合理及易于推广的特点。
附图说明
图1为本发明的结构示意图。
具体实施方式
下面结合实施例进一步对本发明进行详细说明，但发明保护内容不局限于所述实施例：
参照图1，一种多气体多区域的喷淋结构，包括喷淋板本体1，该喷淋板本体1上设有气体A分区2，气体B分区3及凹槽4，所述气体A分区2上设有气体A入口5，所述气体B分区3上设有气体B入口6；气体A分区2与气体B分区3不连通，气体A入口5与气体A分区2连通，气体B入口6位于凹槽4上并与气体B分区3连通。
所述喷淋头本体1的底部设有多个通孔。
所述气体A分区2与气体B分区3内部分别为气体通道。
气体A及气体B分别从气体A入口和气体B入口进入至气体A分区和气体B分区内，通过各自独立的通道，到达各自分区，并从各自的分区的通孔到达腔室。彼此独立结构使不同气体A和气体B不会提前相遇或反应，能满足多种气体的分布，该结构使气体能均匀、快速的扩散在腔室内，并在基板上进行沉积反应。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (3)
1.一种多气体多区域的喷淋结构，包括喷淋板本体，其特征在于，该喷淋板本体上设有气体A分区，气体B分区及凹槽，所述气体A分区上设有气体A入口，所述气体B分区上设有气体B入口；气体A分区与气体B分区不连通，气体A入口与气体A分区连通，气体B入口位于凹槽上并与气体B分区连通。
2.如权利要求1所述的一种多气体多区域的喷淋结构，其特征在于，所述喷淋头本体的底部设有多个通孔。
3.如权利要求1所述的一种多气体多区域的喷淋结构，其特征在于，所述气体A分区与气体B分区内部分别为气体通道。
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111223736A (zh) * | 2018-11-26 | 2020-06-02 | 江苏鲁汶仪器有限公司 | 一种等离子体处理设备的进气装置 |
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| CN111223736B (zh) * | 2018-11-26 | 2021-12-28 | 江苏鲁汶仪器有限公司 | 一种等离子体处理设备的进气装置 |
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Legal Events
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