CN106493064A - 改善压敏瓷粉粒度分布的装置与方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及改善压敏瓷粉粒度分布的装置与方法。包含壳体，壳体上包含出料口，所述出料口为一个缝状结构，缝状结构的上部分和下部分均为板状结构，板状结构倾斜布置，壳体的结构为如下方案之一:A.所述壳体为旋转运动的承料装置，其包含空腔，空腔内部有物料，空腔至于震动筛上，震动筛上下方固定在旋转台上；B.所述出料口位于出料壳体的下方，出料口下方包含旋转的料筒的边沿，旋转的料筒为筒状结构，旋转的料筒下方为旋转结构。本发明通过以一定速度往复移动承载物，使得粉料均匀分布，整个过程中不存在粉料颗粒之间的摩擦，从而有效避免了均匀过程对粉料形貌的破坏以及发热，同时也避免了粉料颗粒摩擦产生的二次细粉。

Description

改善压敏瓷粉粒度分布的装置与方法

技术领域

本发明涉及机械领域，尤其涉及改善压敏瓷粉粒度分布的装置与方法。

背景技术

喷雾干燥就是采用喷雾干燥机借助于雾化及热量的作用,使浆料雾滴中的溶液蒸发获得干燥粉料的方法。喷雾干燥过程就是浆料经过雾化器雾化使浆料滴迅速烘干变成颗粒粉粒的过程。已在各种现代电子、功能陶瓷工业中得到广泛应用。喷雾干燥已成为现代氧化物陶瓷制备成分均一干压坯体密度均匀，获得性能一致性好的元件必不可少的重要工艺措施。

喷雾造粒的过程时间较长，在这个过程中造粒塔内的气流波动、喷雾压力的波动、以及喷嘴的变化，都会对粉料的颗粒度、含水率造成影响，因此粉料的颗粒度、含水率相对时间是无序变化的。在目前的生产工艺中为了实现粉料的均匀一般采用V型混料机或滚筒来混合。这两种设备基本上都是通过粉料在腔体里的翻滚实现混合。这种做法的问题是：

1、粉料在翻滚的过程中颗粒之间产生剧烈摩擦使得颗粒的形貌发生变化，直接影响粉料的流动性。

2、颗粒的相互摩擦产生二次细粉，而这些细粉往往富含胶体，使得粉料进行干压成型时产生严重的粘模现象影响正常生产。

3、颗粒在相互摩擦中还会产生大量热量，发热会导致颗粒水份的散失，最终影响成型加工。

发明内容

发明的目的：为了提供一种效果更好的改善压敏瓷粉粒度分布的装置与方法，具体目的见具体实施部分的多个实质技术效果。

为了达到如上目的，本发明采取如下技术方案：

方案一：

改善压敏瓷粉粒度分布的装置，其特征在于，包含壳体，壳体上包含出料口，所述出料口为一个缝状结构，缝状结构的上部分和下部分均为板状结构，板状结构倾斜布置，壳体的结构为如下方案之一:A.所述壳体为旋转运动的承料装置，其包含空腔，空腔内部有物料，空腔至于震动筛上，震动筛上下方固定在旋转台上；B.所述出料口位于出料壳体的下方，出料口下方包含旋转的料筒的边沿，旋转的料筒为筒状结构，旋转的料筒下方为旋转结构。

本发明进一步技术方案在于，所述出料壳体上连接有进风管和出风管，进风管上包含加热部分。

本发明进一步技术方案在于，所述缝状结构为等宽度的缝状结构。

方案二：

改善压敏瓷粉粒度分布的方法，其特征在于，利用如上所述的装置，包含如下方法：

通过将粉体在往复运动的承料装置上一层一层平铺，实现了粉料在特定空间的均匀分布。

本发明进一步技术方案在于，所述承料装置能够是往复运动的料槽或者是能够做圆周运动的料筒。

本发明进一步技术方案在于，所述壳体能够和造粒塔接料口配合使用，也能够和震动筛配合使用。

采用如上技术方案的本发明，相对于现有技术有如下有益效果：本发明通过以一定速度往复移动承载物，使得粉料均匀分布，整个过程中不存在粉料颗粒之间的摩擦，从而有效避免了均匀过程对粉料形貌的破坏以及发热，同时也避免了粉料颗粒摩擦产生的二次细粉。

附图说明

为了进一步说明本发明，下面结合附图进一步进行说明：

图1为发明实施例一结构示意图；

图2为发明实施例二结构示意图；

其中：1.震动筛；2.旋转运动的承料装置；3.出料口；4.进风口；5.加热部分；6.进风管；7.出风管；8.旋转的料筒。

具体实施方式

下面结合附图对本发明的实施例进行说明，实施例不构成对本发明的限制：

实施例一，结合图1；

改善压敏瓷粉粒度分布的装置，其特征在于，包含壳体，壳体上包含出料口，所述出料口为一个缝状结构，缝状结构的上部分和下部分均为板状结构，板状结构倾斜布置，壳体的结构为如下方案之一:A.所述壳体为旋转运动的承料装置，其包含空腔，空腔内部有物料，空腔至于震动筛上，震动筛上下方固定在旋转台上。作为更具体的实现结构：

将震动筛的出料口制做成鸭嘴状，使其出料口成一条缝，鸭嘴内部设有导向槽，使得粉料流出时形成一个面。鸭嘴的宽度稍窄于承料装置，以防止粉料洒出。承料装置围绕震动筛做圆周运动，使得粉体均匀的一层一层叠压在承料装置上，从而实现粉料的均匀。上图中的承料装置能够是一个环形槽，也能够是一个做往复运动的矩形槽。

实施例二，结合图2；

出料口同样加工成鸭嘴型，其宽度略小于承料桶的半径，料桶做旋转运动，粉料被均匀洒落在料筒内。

需要说明的是，以上所述的鸭嘴型，实质上是如下结构：为一个缝状结构，缝状结构的上部分和下部分均为板状结构，板状结构倾斜布置。

开创性地，以上各个效果独立存在，还能用一套结构完成上述结果的结合。

无论实施例一还是实施例二；本发明将出粉口制作成鸭嘴形，使得粉体呈平面流出，控制鸭嘴的宽度使得粉体流出面的宽度稍小于往复移动的承料装置。通过控制承料装置的移动速度，使得粉体均匀的一层一层叠压在承料装置上，从而实现粉料的均匀。

图中未示出部分细节。

采用图一的方法处理200Kg粉料，将粉料集中在80cm*120cm的粉槽中标为1#样品。

采用V型混料槽处理200Kg粉料，将粉料集中在80cm*120cm的粉槽中标为2#样品。

未经处理的粉料200Kg，将粉料集中在80cm*120cm的粉槽中标为3#样品。

分别在每槽中心O点，和A、B、C、D4个角取样，测试样品的平均粒径D50，数据如下：

样品编号	O	A	B	C	D
						1#	92μm	96μm	98μm	102μm	93μm
2#	77μm	86μm	92μm	82μm	98μm
						3#	83μm	102μm	78μm	120μm	126μm

从上表看，1#样品各部分粒径差别较小，最大与最小差在10μm以内；经过滚筒处理的2#也较均匀，最大与最小差在11μm以内，但整体较1#偏小，这与搅拌过程产生二次细粉有关；未经处理的3#样品各部分粒径差别较大，最大与最小差大于50μm。

需要说明的是，本专利提供的多个方案包含本身的基本方案，相互独立，并不相互制约，但是其也能够在不冲突的情况下相互组合，达到多个效果共同实现。

作为优选，本发明主要是一种改善喷雾干燥粉料的粒度分布的方法，属于电子陶瓷技术领域。广泛应用于提高各种喷雾干燥法制造粉料粒度分布改善。所述方法是通过改变震动筛出料嘴型并辅以移动承料装置，来实现粉料在正常生产过程中的均匀分布，避免了专门混料工序造成的颗粒形貌的破坏和二次细粉问题。它通过特殊的出料口型设计，使得粉料在往复运动的承料装置上一层一层平铺，实现了粉料在特定空间的均匀分布。

本发明解决了混料机造成的粉料颗粒的形貌破坏，以及混料过程颗粒摩擦产生的高温造成粉料内部水份的不平衡损失。本发明节省了专门的混料工序和设备投入，同时减少了混料工序产生的二次细粉损失。

以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和本发明的优点。本领域的技术人员应该了解本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的范围内。

Claims (6)

1.改善压敏瓷粉粒度分布的装置，其特征在于，包含壳体，壳体上包含出料口，所述出料口为一个缝状结构，缝状结构的上部分和下部分均为板状结构，板状结构倾斜布置，壳体的结构为如下方案之一:A.所述壳体为旋转运动的承料装置，其包含空腔，空腔内部有物料，空腔至于震动筛上，震动筛上下方固定在旋转台上；B.所述出料口位于出料壳体的下方，出料口下方包含旋转的料筒（8）的边沿，旋转的料筒（8）为筒状结构，旋转的料筒（8）下方为旋转结构。

2.如权利要求1所述的改善压敏瓷粉粒度分布的装置，其特征在于，所述出料壳体上连接有进风管和出风管，进风管上包含加热部分。

3.如权利要求1所述的改善压敏瓷粉粒度分布的装置，其特征在于，所述缝状结构为等宽度的缝状结构。

4.改善压敏瓷粉粒度分布的方法，其特征在于，利用权利要求1或者2所述的装置，包含如下方法：

通过将粉体在往复运动的承料装置上一层一层平铺，实现了粉料在特定空间的均匀分布。

5.如权利要求4所述的改善压敏瓷粉粒度分布的方法，其特征在于，所述承料装置能够是往复运动的料槽或者是能够做圆周运动的料筒。

6.如权利要求4所述的改善压敏瓷粉粒度分布的方法，其特征在于，所述壳体能够和造粒塔接料口配合使用，也能够和震动筛配合使用。