CN106468617A - 用于识别光学阵列极性并测量光信号功率或损耗的装置 - Google Patents

Abstract

公开了一种用于确定光纤阵列极性的装置。该装置可用来确定光信号损耗或强度。可使用适配器来将装置耦合到多种光纤连接器。该装置包括位置传感检测器和处理电路。该位置传感检测器包括接收光信号的传感器和响应于光信号的接收而输出各输出信号的电极。该处理电路接收输出信号并识别光信号入射在传感器上的位置。处理电路还确定光纤的光学阵列中的接收位置及基于该接收位置和相应发射位置的光学阵列的极性。所述处理电路可基于输出信号的聚合体来确定光信号的强度或损耗。

Description

用于识别光学阵列极性并测量光信号功率或损耗的装置

技术领域

本申请针对一种用于识别光学阵列极性和/或测量光信号功率或损耗的设备，以及特别针对使用位置传感检测器来执行识别和测量的设备。

背景技术

测量光信号强度的常规设备利用被单独耦合到光学阵列的每个光纤的光学检测器。可使用常规设备来测量通过阵列的每个光纤发射的光信号的光学强度。然而，单独地将设备耦合到每个光纤以便获得强度测量结果的需要是耗费时间的。

某些常规设备装备有多个传感器，由此每个传感器捕捉从阵列的各光纤接收到的光信号。为了使这些设备适当地工作，传感器必须分别地与光纤对准。由于光学阵列连接器（诸如多纤维拉式MPO）连接器）是性别（gender）特定的（即，钉扎（pinned）或非钉扎（unpinned））事实，所以要求性别顺从设备以便将设备附着到连接器并确保对准。因此，对光学阵列执行现场测试的人员可需要为两个性别携带多个设备。接插线对相反性别的替换使用可在测量结果中引入假象并增加不确定性。此外，这些设备仅可用于某个尺寸的光学阵列（具有特定数目的光纤的行或列）。其不可用来测试在与设备被设计成用于的阵列相比光纤的行或列的数目方面不同的许多其它市售阵列。

发明内容

描述了一种用于确定光纤阵列极性的装置。该装置包括位置传感检测器。该位置传感检测器具有可相对于光学阵列定位的传感器。传感器从光学阵列接收入射在传感器上的许多光信号同时传感器保持在相对于光学阵列的固定位置上。所述多个光信号源自于形成光学阵列的相应多个光纤，由此，所述多个光纤中的每个光纤相对于光学阵列中的其它光纤而言在光学阵列中具有关联的发射和接收位置。该位置传感检测器具有被电耦合到传感器的多个电极。所述多个电极响应于由传感器接收到所述多个光信号中的光信号而输出相应的多个输出信号。所述多个输出信号指示所述多个光信号中的光信号入射在传感器上的位置。

在实施例中，所述装置包括被电耦合到所述多个电极的处理电路。处理电路接收用于所述多个光信号中的每一个的所述多个输出信号，并识别所述多个光信号入射在传感器上的各位置。处理电路还基于所识别位置来确定所述多个光纤中的至少一个光纤的光学阵列中的接收位置。此外，处理电路基于所述至少一个光纤的所确定的接收位置和所述至少一个光纤的光学阵列中的相应发射位置来确定光学阵列的极性。

还描述了一种用于确定光纤阵列极性的方法。在该方法中，在位置传感检测器的传感器处从光学阵列接收多个光信号。所述多个光信号入射在传感器上同时传感器相对于光学阵列保持在固定位置。所述多个光信号源自于形成光学阵列的相应多个光纤，由此，所述传感器可相对于光学阵列定位，并且所述多个光纤中的每个光纤相对于光学阵列中的其它光纤而言具有关联的发射和接收位置。

在一个实施例中，位置传感检测器的多个电极响应于由传感器接收到所述多个光信号中的光信号而输出相应的多个输出信号。所述多个输出信号中的每个输出信号指示所述多个光信号中的光信号入射在传感器上的位置到所述多个电极中的各电极的接近度。

此外，针对所述多个光信号识别所述多个光信号入射在传感器上的各位置。基于用于每个接收光信号的相应多个输出信号来识别各位置。基于所识别位置来确定所述多个光纤中的至少一个光纤的光学阵列中的接收位置。另外，基于所确定的接收位置和所述至少一个光纤的光学阵列中的相应发射位置来确定光学阵列的极性。

描述了一种用于测量光信号强度的装置。该装置包括位置传感检测器。该位置传感检测器包括可相对于光学阵列定位的光学传感器。该光学传感器具有单个基板光学传感区域，其尺寸被确定成足以从光学阵列接收多个光信号同时光学传感区域相对于光学阵列保持在固定位置。该光学传感器在光学传感区域内的位置处接收光信号。

该位置传感检测器包括被电耦合到光学传感区域的多个电极。所述多个电极响应于由光学传感区域接收到光信号而输出相应的多个输出信号。所述多个输出信号中的每个输出信号具有与光信号的强度和光信号被接收到所述多个电极的相应电极的位置处的接近度两者成比例的电气特性。

在实施例中，所述装置包括加法器，其接收所述多个输出信号并将其聚合，并且产生用于光信号的输出信号聚合体。在另一实施例中，所述装置包括被电耦合到加法器的处理电路，由此，所述处理电路接收输出信号聚合体，并基于该输出信号聚合体来确定光信号的强度。光信号的所确定的强度与输出信号聚合体成比例。

附图说明

图1示出了可耦合到具有光纤阵列的光纤连接器的光纤测试设备。

图2示出了光纤阵列极性的图示。

图3示出了根据实施例的光纤测试设备的示意图。

图4示出了根据实施例的光纤测试设备的示意图。

图5示出了用于确定光学阵列的极性的方法的流程图。

图6示出了用于确定光信号强度的方法的流程图。

具体实施方式

在各种实施例中，在本文中描述的是一种用于确定光纤阵列极性的装置。当来自光学阵列的光信号入射在平面传感器上时，被电耦合到平面传感器的电极产生输出信号，该输出信号指示每个光信号入射在平面传感器上的位置。处理电路识别光信号的各位置并确定光学阵列中的光纤的极性。在各种实施例中，在本文中还描述了一种用于测量光信号强度的装置。求和电路从被耦合到光学传感器的电极接收多个输出信号并将其聚合，并且处理电路基于输出信号的聚合体来确定光信号的强度。

图1图示出可耦合到具有光纤阵列104的光纤连接器102的光纤测试设备100的至少一个实施例。光纤测试设备100包括到光纤测试设备100的用户的接口106。接口106可用来向用户提供由光纤测试设备100执行的测试或测量的结果。接口106在图1中被示为是屏幕，但除了别的以外在各种实施例中接口106可以是扬声器或发光二极管（LED）面板。此外，接口106包括无线或有线调制解调器，其将测试或测量结果发射到另一设备（除了别的以外诸如计算机、平板电脑、智能电话或服务器）以向用户显示测试或测量的结果。

光纤测试设备100还包括可相对于光纤阵列104定位的光学传感器108。光学传感器108从光学阵列104接收源自于相应多个光纤110（在下文中以单数形式称为光纤110）的多个光信号。在各种实施例中，光学传感器108可以是单个基板、大面积半导体光学检测器，其从光学阵列104接收所述多个光信号同时光学阵列104相对于光学传感器108保持在基本上固定的位置处。光学传感器108通过使光信号落下入射在光学传感器108的光学传感区域上来接收所述多个光信号。光学传感器108的光学传感区域大到足以涵盖或覆盖由光学阵列104中的光纤110的端面定义的区域。由于光学传感区域的尺寸，光学传感器104可以很少或可忽略的光学损耗捕捉源自于光学阵列104的所述多个光信号。如果光学系统（例如，透镜）位于光学阵列104与传感区域之间，使得光信号（其否则将入射在光学传感区域外面）被改向而完全被光学传感区域捕捉，则可利用较小的传感区域。

可使用适配器（例如，机械适配器）来将光纤连接器102耦合到光学传感器108。该适配器可具有顺从于且被设计成配合光纤连接器102的相应性别或形状。虽然使用光纤测试设备100，但可将各种适配器互换以适应具有不同性别或形状的各种光纤连接器102。当测试具有不同连接器的光纤阵列104时，可将该适配器交换成另一顺从的适配器以将连接器102耦合到光学传感器108。

另外，光学传感器108可被相对于光学阵列104定位并从光学阵列104接收光信号而不要求特定形状的连接器以将光学传感器108耦合到光学阵列104。因此可将光学传感器108用于具有不同形状连接器的多种光学阵列104。

由于光纤测试设备100可被用来测试各种配置的光学阵列的事实，具有光学传感区域的光学传感器108的使用是有利的。光学阵列104的配置包括光学阵列104中的光纤110的行或列的数目以及光纤110之间的间距。例如，某些光学阵列具有一行的十二个光纤110，而其它光学阵列具有三行，每行具有十二个光纤110。如果光学传感区域的尺寸和尺度被确定为大到足以捕捉源自于光学阵列的光信号，则光纤测试设备100可用来测试不同配置的光学阵列。替换地，如本文所述，如果光学传感区域并未大到足以捕捉所有光信号，则可使用透镜来使否则将撞击在光学传感区域外面的光信号改向至光学传感区域。为了确定阵列极性或测量光信号强度，可将具有任何配置的光学阵列定位成使得源自于阵列的光信号被光学传感器108的光学传感区域捕捉。如本文所述，将光学阵列104光学耦合到光纤测试设备100包括相对于光学传感器108对光学阵列104进行定位，使得源自于光学阵列104的光信号被光学传感器108的光学传感区域捕捉或感测到。

在某些实施例中，连接器112可顺从于光学阵列104的光纤连接器102。测试设备连接器112顺从于光纤连接器102相符，如果其具有与光纤连接器102相反的性别的话。例如，如果光纤连接器102是钉扎的，则测试设备连接器112可以是非钉扎的，并且反之亦然。

如图1中所示，可将光学传感器108布置在测试设备100的连接器112上。光学传感器108可使用导线连接113而电耦合到测试设备100。替换地，可将光学传感器108布置在测试设备100的外壳上。例如，可将光学传感器108布置在测试设备100的前面或背面。

如本文所述，可使用光纤测试设备100来确定光纤阵列104的极性。此外，光纤测试设备100可用来确定源自于光学阵列104的光纤110的光信号的强度。该强度可反映光信号的功率或强度。该强度还可用来随着光信号穿过光纤110而测量与光信号相关联的损耗。光信号可由于例如光纤110中的瑕疵或光纤110的端面上的尘粒而遭遇强度或功率的损耗。可至少部分地基于发射到光纤110中的光信号与由光纤测试设备100接收到的光信号的强度之间的差来计算该损耗。

图2示出了光纤阵列极性的图示。光纤阵列104可具有许多极性中的任何一个，由此，参考图2来描述三个极性114_A—C。光纤阵列104的极性指的是阵列104中的光纤110相对于阵列104中的其它光纤的发射位置和接收位置之间的关系。

在第一极性114_A（按照ANSI/TIA-568的定义，称为“类型A”极性）中，作为接收侧光纤阵列的光纤阵列104中的光信号的接收位置与发射侧光纤阵列116中的光信号的发射位置相同。可用阵列的连接器102的键118来参考发射和接收位置。例如，第一位置可以是相对于键118的最左位置，并且第二位置可以是相对于键118而言从左侧的第二位置等等。虽然参考图2描述了包括一行的光纤的光学阵列104，但应注意的是各种光学阵列可具有超过一行的光纤110。

第二极性114_B（称为“类型B”极性）要求相对于发射位置将光信号的接收位置换位。因此，将在接收侧光纤阵列104上的相对于键118的最右位置处接收在发射侧光学阵列上的相对于键118的最左位置处发射到光纤中的光信号。同样地，在发射侧的相对于键118而言从左侧起第三的位置处发射到光纤中的光信号将在光纤阵列104的接收侧的从右侧起第三的位置处被接收到。

根据第三极性114_C（称为“类型C”极性），光信号的接收位置将相对于发射位置被成对地换位。因此，在发射侧的相对于键118而言在最左位置处被发射到光纤中的光信号将在接收侧光纤阵列104中的相对于键118而言从左侧起第二位置处被接收到，并且反之亦然。同样地，在发射侧的相对于键118而言从左侧起第三的位置处发射到光纤中的光信号将在光纤阵列104的接收侧的从左侧起第四的位置处被接收到。

图3示出了根据本公开的实施例的光纤测试设备200的示意图。光纤测试设备200是参考图1描述的光纤测试设备100的示例。光纤测试设备200包括位置传感检测器202、处理电路204以及接口106。位置传感检测器202包括光学传感器108和多个电极203_A—D（在本文中共同地用参考标号203来提及）。

位置传感检测器202的光学传感器108具有单基板光学传感区域，其尺寸被确定成足以接收源自于光纤阵列104的多个光信号206。位置传感检测器202的示例包括来自OSIOptoeletronics的四边形位置传感检测器，其为硅光电二极管检测器且具有单个电阻层。四边形位置传感检测器具有多达1000平方毫米（mm²）的光学传感区域。OSIOptoeletronics位置传感检测器型号SC-4D、SC-10D、SC-25D和SC-50D的说明书被通过引用结合到本文中。位置传感检测器202的示例还包括THORLABS横向效果位置传感检测器（型号：PDP90A），其说明书（在2014年6月12日出版，修订版E）被通过引用结合到本文中。

所述多个光信号206可全部由光学传感区域接收到同时该光学传感区域相对于光纤阵列104保持在固定位置。尺寸被确定为足以接收所述多个光信号206的光学传感区域的使用是有利的，因为其减轻了将光纤测试设备独立地耦合到光纤阵列104的每个光纤110的需要。其加快了测试光纤阵列104，因为一旦光纤阵列104相对于光纤测试设备200的光学传感区域被定位，可一次测试所有光纤110。

多个电极203被电耦合到位置传感检测器202的光学传感区域并被布置在光学传感区域的外周界上或该外周界处。当光信号206撞击光学传感区域时，在光学传感区域内在光信号撞击光学传感区域的位置处生成电位。例如，电源设备210可向光学传感区域提供电位。光信号206到达光学传感区域上的位置处导致在该位置处施加电位。电位引起电流流向所述多个电极203中的每一个并通过所述多个电极203输出为输出信号。由于电阻被分布（例如，均匀地）光学传感区域上，所以电极203中的每一个与光信号206入射在光学传感区域上的位置之间的距离越大，在该位置处生成的电流所遭遇的电阻越大，并且因此在各电极处的输出电流将越低。相反地，该位置越接近于电极203，电极203将输出越大的电流。

作为光信号206到达光学传感区域的结果，所述多个电极203_A—D分别地输出多个输出信号208_A—D。所述多个输出信号208_A—D中的每个输出信号具有作为光信号撞击在光学传感区域上的位置到所述多个电极203_A—D中的各电极的接近度的函数的电气特性（例如，电流或电压的量）。

此外，输出信号208可具有与光信号206的强度成比例的电气特性。例如，输出信号可具有与光信号206的强度成比例的电流量，由此，随着光信号的强度增加，所述多个输出信号208_A—D的电流水平也增加。如本文所述，所述多个输出信号208_A—D被用来确定光信号206入射在光学传感器108上的位置和光信号206的强度两者。

所述多个电极203被电耦合到处理电路204。由所述多个电极203_A—D输出的所述多个输出信号208_A—D因此被处理电路204接收到。处理电路204可至少部分地基于所述多个输出信号208_A—D来确定光信号206的强度。例如，处理电路204可将所述多个输出信号208_A—D加和以生成输出信号聚合体，并且可使用输出信号聚合体来确定光信号206的强度。

在使用之前，可用具有已知强度的信号对光纤测试设备100、200进行校准。在校准阶段期间，可将具有各种强度的光信号指引到光学传感器108，并且可针对每个光信号确定输出信号聚合体。然后可生成将光信号强度与输出信号聚合体链接的函数关系或表格。在测量阶段期间，可使用函数关系或表格来至少部分地基于测量的输出信号聚合体而确定光信号强度。

处理电路204还可确定光信号206入射在光学传感器108上的位置。可基于第一输出信号208_A与第二输出信号208_B之间的相对差来确定位置的x轴坐标。例如，如果第一输出信号208_A和第二输出信号208_B的电流水平相等，则可将位置的x轴坐标确定成在电极203_A与203_B之间的光学传感区域的中心处的原点处。如果第一输出信号208_A的电流水平大于第二输出信号208_B的电流水平，则可将位置的x轴坐标确定成比电极203_B更接近于电极203_A，并且反之亦然。同样地，可至少部分地基于第三输出信号208_C与第四输出信号208_D之间的相对差来确定位置的y轴坐标。如果第三输出信号208_C与第四输出信号208_D的电流水平相等，则可将该位置的y轴坐标确定成在电极203_C和203_D之间的光学传感区域的中心处的原点处。如果第三输出信号208_C的电流水平大于第四输出信号208_D的电流水平，则可将位置的y轴坐标确定成比电极203_D更接近于电极203_C，并且反之亦然。

为了确定光纤阵列104的极性，处理电路204使用接收光信号的确定位置来识别用于光纤阵列104中的至少一个光纤110的接收位置。然后将所述至少一个光纤110的接收位置与其相应发射位置相比较以确定极性。如在本文中参考图2所述，如果接收位置与用于光纤110的发射位置相同，则确定“类型A”极性。如果接收位置相对于用于光纤110的发射位置被换位，则确定“类型B”极性，并且如果接收位置被成对地与相邻发射位置换位，则确定“类型C”极性。

发射或接收位置可被连续地编号，例如从一开始从左至右或自上而下。接收位置与发射位置之间的偏移可以是接收和发射位置数之间的差。例如，如果对于任何接收位置而言偏移是零，则可将极性确定为“类型A”极性。如果偏移对于任何接收位置而言是两个或更多，则可将极性确定为“类型B”极性。如果偏移对于所有接收位置而言是一，则可将极性确定为“类型C”极性。

光纤110的发射位置可以是预先已知或先验的。在实施例中，可向处理电路204提供光纤110的发射位置。此外，在替换实施例中，可将光纤测试设备100配置成通过光纤110来发射光信号206，并且可因此知道检测到的光信号206被通过其发射的光纤110的发射位置。在其它实施例中，可在已知发射位置处发射具有已知调制的光信号。当该光信号被光纤测试设备200接收到时，可从已知调制识别每个光信号，并且可基于光信号被光纤测试设备200接收到的位置来确定光信号的相对接收位置，如在本文中讨论的。然后将一个或多个光信号的接收位置与已知发射位置相比较以确定光学阵列的极性。

可相对于源自于阵列104中的其它光纤110的其它光信号的位置基于源自于光纤110的光信号到达光学传感器108的位置来确定用于光纤110的接收位置。为了准确地确定光纤110的接收位置，可能必须在光学传感器108处从光纤阵列104的每个光纤110接收光信号206。当光纤110的所有光信号206都被接收到且其位置被识别时，可确定每个光纤110的相对接收位置。例如，针对包括一行十二个光纤的1×12阵列，在源自于各种位置的所有光信号已被接收到之后且在已确定在接收到的十二个光信号之中特定光信号的到达位置的x轴坐标与其它十一个光信号相比到左侧最远之后可识别到最左位置。在图3中所示的实施例中，例如，源自于最左位置的光信号可具有指示其到达位置最接近于第二电极203_B的x轴坐标。

在各种实施例中，可通过光学阵列104的所述多个光纤110连续地发射多个光信号206。所述多个光信号206可因此连续地撞击在光学传感器108上。结果，可在接收到光信号206的每个时刻确定每个光信号206的到达位置。在确定光信号206的到达的位置之后，可确定承载光信号206的光纤110的相对接收位置。例如，按照接收顺序的光信号的接收位置可以是最右、从最右起第二、从最右起第三等等直至最左。如果测试设备200（例如，按照惯例或明确指示）知道阵列104中的光信号的发射顺序是从最右至最左，则光学阵列104的极性可被确定为类型A。相反地，如果已知发射顺序是最左至最右，则光学阵列104的极性可由于接收顺序与发射顺序之间的换位而被确定为类型B。

在如本文所述地确定光纤阵列104的极性或确定光信号206的强度之后，处理电路204可向接口106提供极性或强度的指示。接口106促进极性或强度到用户的输出。在某些实施例中，可将接收光信号206的确定的强度与光信号的已知发射强度相比较以确定在光信号穿过光纤110时发生的光信号的损耗量。接口106可促进将所确定的光信号损耗输出给用户。

图4示出了根据本公开的实施例的光纤测试设备300的示意图。光纤测试设备300包括位置传感检测器202、处理电路302以及接口106。与参考图1和2所述的元件类似的光纤测试设备300的元件具有相同的参考标号。如参考图3所述，位置传感检测器202包括光学传感器108和多个电极203_A—D。所述多个电极203_A—D被分别地电耦合到处理电路302的多个第一放大器304_A—D。分别地由所述多个电极203_A—D输出的所述多个输出信号208_A—D被输入到相应的多个第一放大器304_A—D。所述多个第一放大器304_A—D分别地将所述多个输出信号208_A—D放大且分别地输出多个已放大信号306_A—D。

所述多个第一放大器304_A—D在其输出端处被电耦合到加法电路308。该加法电路308分别地从所述多个第一放大器304_A—D接收所述多个已放大信号306_A—D，并将所述多个已放大信号306_A—D加和以生成聚合输出信号310。加法电路308在其输出处被电耦合到处理电路302的控制器312。加法电路308将聚合输出信号310输出到控制器312。控制器312基于聚合输出信号310来确定由光学传感器108接收到的光信号的光强度。如本文所述，所述多个输出信号208_A—D的信号水平（例如，电流或电压）与由光学传感器108接收到的光信号的强度成比例。

为了确定光信号入射在光学传感器108的光学传感区域上的位置，第一放大信号306_A和第二放大信号306_B被提供给多个第二放大器314_A—D的第一放大器314_A和第二放大器314_B。第一放大器314_A将第一已放大信号306_A和第二已放大信号306_B聚合并输出横轴聚合信号316_A。第二放大器314_B计算第一已放大信号306_A与第二已放大信号306_B之间的差并输出横轴差信号316_B。控制器312接收横轴聚合信号316_A和横轴差信号316_B。控制器312可将光信号到达光学传感器108的光学传感区域的位置的水平坐标（或x轴坐标）确定为横轴差信号316_B和横轴聚合信号316_A的商。

同样地针对垂直坐标（或y轴坐标），第三已放大信号306_C和第四已放大信号306_D被提供给所述多个第二放大器314_A—D的第三放大器314_C和第四放大器314_D。第三放大器314_A将第三已放大信号306_C和第四已放大信号306_D聚合并输出竖轴聚合信号316_C。第四放大器314_D计算第三已放大信号306_C与第四已放大信号306_D之间的差并输出竖轴差信号316_D。控制器312接收竖轴聚合信号316_C和竖轴差信号316_D。控制器312可确定光信号到达光学传感器108的光学传感区域的位置的垂直坐标（或y轴坐标）确定为竖轴差信号316_C与竖轴聚合信号316_D的商。

在确定光信号到达光学传感区域的位置之后，控制器312可如本文所述地确定光学阵列的极性。控制器312可如本文所述地同样（或替换地）确定接收光信号的光强度。控制器312然后将极性和/或光信号强度输出到接口106。可进一步将接收光信号的光信号强度与光信号的已知发射强度相比较来确定发射光信号的损耗。控制器312可将确定的光信号损耗输出到接口106。

图5示出了用于确定光学阵列的极性的方法的流程图。在所图示的方法中，光学传感器（诸如参考图3所述的光学传感器108）接收502源自于相应的多个光纤的多个光信号。所述多个光纤中的每个光纤在光学阵列中具有相关联的接收位置。光学传感器108中的多个电极（诸如参考图3所述的所述多个电极203_A—D）响应于接收到所述多个光信号中的光信号而生成504多个输出信号。所述多个输出信号中的输出信号指示光信号入射在光学传感器上的位置到所述多个电极中的各电极的接近度。

处理电路（诸如参考图3所述的处理电路204）然后针对所述多个光信号基于用于每个光信号的相应多个输出信号来识别506所述多个光信号入射在光学传感器上的多个位置。处理电路基于所述多个位置来确定508所述多个光信号的至少一个光信号的光学阵列中的相对接收位置。处理电路还针对所述至少一个光信号基于光学阵列中的所确定的接收位置和相应发射位置来确定510光学阵列的极性。

图6示出了用于确定光信号强度的方法的流程图。在所图示的方法中，光学传感器在光学传感器108上的位置处接收602光信号。光学传感器108中的多个电极然后生成604相应的多个输出信号。所述多个输出信号中的输出信号具有与所述位置到所述多个电极中的相应电极的接近和光信号的强度两者成比例的电气特性。处理电路然后将所述多个输出信号聚合606以产生输出信号聚合体。处理电路还基于输出信号聚合体来确定608光信号的强度，由此光信号的强度与输出信号聚合体成比例。

可以以各种组合的方式将上述各种实施例组合以提供本公开的其它实施例。可以根据上文详述的描述对实施例进行这些及其它改变。一般地，在以下权利要求中，不应将所使用的术语理解成使权利要求局限于在本说明书和权利要求中公开的特定实施例，但是应理解成包括所有可能实施例连同等价于这样的权利要求的权利的全部范围。因此，权利要求未受到本公开的限制。

Claims (20)

1.一种用于确定光纤阵列极性的装置，包括：

位置传感检测器，其包括：

传感器，其可相对于光学阵列定位，其中，所述传感器从光学阵列接收入射在传感器上的多个光信号同时所述传感器相对于光学阵列保持在固定位置，所述多个光信号源自于形成光学阵列的相应多个光纤，所述多个光纤中的每个光纤相对于光学阵列中的其它光纤在光学阵列中具有相关联的发射位置和接收位置；以及

多个电极，其被电耦合到所述传感器，其中，所述多个电极响应于由所述传感器接收到所述多个光信号中的光信号而输出相应多个输出信号，所述多个输出信号指示所述多个光信号中的光信号入射在传感器上的位置；以及

处理电路，其被电耦合到所述多个电极，其中，所述处理电路：

接收用于所述多个光信号中的每一个的所述多个输出信号；

识别所述多个光信号入射在传感器上的各位置；

基于已识别位置来确定所述多个光纤中的至少一个光纤的光学阵列中的接收位置；以及

基于所述至少一个光纤的所确定的接收位置和所述至少一个光纤的光学阵列中的相应发射位置来确定光学阵列的极性。

2.权利要求1的设备，其中，所述处理电路还接收指示所述至少一个光纤的光学阵列中的发射位置的信息。

3.权利要求1的设备，其中，确定光学阵列的极性还包括确定所述至少一个光纤的所确定的接收位置与相应发射位置之间的偏移。

4.权利要求1的设备，其中，如果所述至少一个光纤的接收位置与所述至少一个光纤的相应发射位置相同，则光学阵列的极性被确定为是第一类型。

5.权利要求1的设备，其中，如果所述至少一个光纤的接收位置从所述至少一个光纤的相应发射位置偏移一个位置，则光学阵列的极性被确定为是第二类型。

6.权利要求1的设备，其中，如果所述至少一个光纤的接收位置从所述至少一个光纤的相应发射位置换位，则光学阵列的极性被确定为是第三类型。

7.权利要求1的设备，其中，所述处理电路还确定光纤接收位置的顺序，以及接收光纤的发射位置的顺序，所述多个光信号按光纤接收位置的顺序被检测为源自于光纤，所述多个光信号按光纤发射位置的顺序发射到光纤中。

8.权利要求7的装置，其中，确定光学阵列的极性还包括将接收位置的顺序与发射位置的顺序相比较以识别各接收和发射位置之间的偏移。

9.权利要求1的设备，还包括：

接口，其被通信耦合到处理电路，

其中，所述接口接收光学阵列的极性的指示并向用户指示该极性。

10.权利要求1的设备，其中，所述装置可通过具有与光学阵列的连接器相顺从的性别或形状的可互换适配器而选择性地耦合到光学阵列。

11.权利要求1的设备，其中：

所述光学阵列在固定位置处被光学耦合到所述装置同时所述多个光信号入射在传感器上；以及

所述传感器由具有光学传感区域的单个基板形成，所述光学传感区域具有足以接收所述多个光信号的尺寸同时所述传感器保持在相对于光学阵列的固定位置。

12.权利要求1的设备，还包括：

光学系统，其被光学耦合到传感器和光学阵列，

其中，所述光学系统从光学阵列接收所述多个光信号并使所述多个光信号中的至少一个光信号改向至光学阵列。

13.一种用于确定光纤阵列极性的方法，包括：

在位置传感检测器的传感器处从光学阵列接收多个光信号，其中，所述多个光信号入射在传感器上同时传感器相对于光学阵列保持在固定位置，所述多个光信号源自于形成光学阵列的相应多个光纤，其中，所述传感器可相对于光学阵列定位，并且所述多个光纤中的每个光纤相对于光学阵列中的其它光纤而言具有相关联的发射和接收位置；

由位置传感检测器的多个电极响应于由传感器接收到所述多个光信号中的光信号而输出相应的多个输出信号，所述多个输出信号中的每个输出信号指示所述多个光信号中的光信号入射在传感器上的位置到所述多个电极的各电极的接近度；

针对所述多个光信号识别所述多个光信号入射在传感器上的各位置，其中，基于用于每个接收光信号的相应多个输出信号来识别各位置；

基于已识别位置来确定所述多个光纤中的至少一个光纤的光学阵列中的接收位置；以及

基于所确定的接收位置和所述至少一个光纤的光学阵列中的相应发射位置来确定光学阵列的极性。

14.权利要求13的方法，还包括：

接收指示所述至少一个光纤的光学阵列中的相应发射位置的信息。

15.权利要求13的方法，其中，确定光学阵列的极性还包括确定所述至少一个光纤的所确定的接收位置与相应发射位置之间的偏移。

16.权利要求15的方法，还包括：

确定光纤接收位置的顺序，所述多个光信号按光纤接收位置的顺序被检测为源自于光纤；以及

接收光纤发射位置的顺序，所述多个光信号按光纤发射位置的顺序发射到光纤中，

其中，确定光学阵列的极性还包括将接收位置的顺序与发射位置的顺序相比较以识别各接收和发射位置之间的偏移。

17.一种用于测量光信号强度的装置，包括：

位置传感检测器，其包括：

光学传感器，其可相对于光学阵列定位，其中，所述光学传感器具有单个基板光学传感区域，其尺寸被确定成足以从光学阵列接收多个光信号同时光学传感区域相对于光学阵列保持在固定位置，其中，所述光学传感器在光学传感区域内的位置处接收光信号；以及

多个电极，其被电耦合到光学传感区域，其中，所述多个电极响应于由光学传感区域接收到光信号而输出相应的多个输出信号，其中，所述多个输出信号中的每个输出信号具有与光信号的强度和光信号被接收到所述多个电极的相应电极的位置处的接近度两者成比例的电气特性；

加法器，其接收所述多个输出信号并将其聚合，并且产生用于光信号的输出信号聚合体；以及

处理电路，其被电耦合到所述加法器，其中，所述处理电路接收输出信号聚合体并基于输出信号聚合体来确定光信号的强度，其中，光信号的确定的强度与输出信号聚合体成比例。

18.权利要求17的装置，其中：

所述光信号是通过光学阵列的光纤链路发射的；以及

所述处理电路还至少部分地基于光信号的确定的强度来确定与光纤链路相关联的链路损耗。

19.权利要求18的装置，其中，所述处理电路通过将光信号的所确定的强度与发射到光纤链路中的光信号的发射强度相比较来确定链路损耗。

20.权利要求18的装置，还包括接口，其被通信耦合到处理电路，其中，所述接口从处理电路接收所确定链路损耗的指示，并向用户指示所确定的链路损耗。