CN106399669A - 一种转底炉联合磨矿磁选设备处理菱铁矿的系统和方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种转底炉联合磨矿磁选设备处理菱铁矿的系统和方法。该系统包括转底炉和磨矿磁选设备,所述转底炉包括入料口、出料口和挡墙,所述挡墙位于所述转底炉的炉体内,将所述炉体内的环形空间分隔为磁化焙烧区和还原焙烧区,所述挡墙包括空心挡墙和实心挡墙,所述空心挡墙顶部设有还原剂入口,所述空心挡墙内部上下贯通,所述转底炉入料口位于所述磁化焙烧区,所述转底炉出料口位于所述还原焙烧区。本发明的系统和方法,在转底炉中完成菱铁矿的磁化焙烧和还原焙烧,金属化率高,磁化效果好;磨矿磁选获得的铁精粉品位高;系统能耗低、成本小。
Description
技术领域
本发明属于冶炼技术领域,尤其涉及一种转底炉联合磨矿磁选设备处理菱铁矿的系统和方法。
背景技术
近年来随着钢铁行业的迅猛发展,我国对铁矿产资源的开发强度大,综合利用率低以及地质勘查难度的不断增大,使得地质条件好、资源品位高、分选性好的铁矿资源正逐渐减少,矿产资源可持续供给能力下降,后备资源不足,积极开发利用难选铁矿石及低品位铁矿石资源,才能有效扩大我国可工业利用的铁矿石资源量,降低对外依存度,保障铁矿石供应的安全。
菱铁矿的晶体呈菱面体状、短柱状或偏三角面体状。通常呈粒状、土状、致密块状集合体。我国含菱铁矿的铁矿石资源已探明储量18.34亿吨,占我国铁矿石探明储量的3.4%,另有保有储量18.21亿吨,主要集中在我国的贵州、新疆、陕西、辽宁、吉林等10多个地区,尤其在贵州、陕西、甘肃和青海等几个西部省(自治区)占全国该类铁矿石资源总储量50%以上。因镁、锰内质同象现象十分普遍,绝大多数菱铁矿理论品位在32%~45%,销售困难,影响开发者积极性。
目前针对含菱铁矿的难选矿主要应用技术有:还原焙烧-磁选、强磁选和浮选及联合分选技术等。因其密度、比磁化系数均较低,加之很多菱铁矿常与绿泥石、石榴石等密度及比磁化系数与之相差不大的脉石矿物共生,可选性差。
发明内容
本发明期望提出一种转底炉联合磨矿磁选设备处理菱铁矿的系统和方法,在转底炉中完成菱铁矿的磁化焙烧和还原焙烧,还原效果好;磨矿磁选获得的铁精粉品位高;系统能耗低、成本小。
本发明的目的之一是提供一种转底炉联合磨矿磁选设备处理菱铁矿的系统,包括转底炉和磨矿磁选设备,
所述转底炉包括入料口、出料口和挡墙,
所述挡墙位于所述转底炉的炉体内,将所述炉体内的环形空间分隔为磁化焙烧区和还原焙烧区,所述挡墙包括空心挡墙和实心挡墙,所述空心挡墙顶部设有还原剂入口,所述空心挡墙内部上下贯通,
所述转底炉入料口位于所述磁化焙烧区,所述转底炉出料口位于所述还原焙烧区;
所述磨矿磁选设备包括入料口和出料口;
所述转底炉出料口连接所述磨矿磁选设备入料口。
转底炉用于干球团的磁化焙烧和还原焙烧,获得金属化球团。磨矿磁选设备用于金属化球团的细磨和磁选,获得铁精粉。
根据转底炉的炉底旋转方向,在干球团由磁化焙烧区进入还原焙烧区处设置空心挡墙,空心挡墙作为还原剂进入转底炉的通道。转底炉入料口位于磁化焙烧区实心挡墙端,转底炉出料口位于还原焙烧区实心挡墙端。
本发明中,所述系统进一步包括细磨机、造球机和干燥装置,
所述细磨机包括出料口;
所述造球机包括入料口和出料口;
所述干燥装置包括入料口和出料口;
所述细磨机出料口连接所述造球机入料口,所述造球机出料口连接所述干燥装置入料口,所述干燥装置出料口连接所述转底炉入料口。
细磨机用于将菱铁矿细磨至后续处理所需的粒度。造球机用于将混匀的菱铁矿颗粒造球。干燥装置用于球团的干燥,为后续焙烧做准备。
具体的,转底炉的炉体内为环形空间,所述磁化焙烧区所占的环形空间的弧度为120°~180°。
具体的,所述转底炉入料口与转底炉出料口之间的扇形区域弧度为10°~15°。
进一步的,所述挡墙底部与所述转底炉的炉底上表面的距离为10~20cm。挡墙底部到转底炉的炉底上表面的距离既要保证物料的顺利通过,又要保证磁化焙烧区气氛和还原焙烧区气氛不互相干扰。
本发明的另一目的是提供一种利用上述系统处理菱铁矿的方法,包括如下步骤:
A、将菱铁矿细磨造球,干燥后获得干球团;
B、将所述干球团送入所述转底炉,先进行磁化焙烧,后进行还原焙烧,获得金属化球团,还原剂由所述还原剂入口进入转底炉,在所述干球团进入所述还原焙烧区时将所述干球团均匀覆盖一层还原剂;
C、将金属化球团水淬后磨矿、磁选获得铁精粉。
本发明中,所述转底炉磁化焙烧区温度为500~800℃,还原焙烧区温度为1200~1300℃,所述转底炉的炉底旋转一周时间为1.5~3h。
具体的,步骤A中将所述菱铁矿细磨至粒度≤200目的菱铁矿占的质量百分比在85%以上,所述干球团粒径为8~16mm。
作为优选的方案,所述还原剂中碳的质量成分不低于80%,所述还原剂粒度为1~4mm。
进一步的,步骤C中将所述金属化球团细磨至粒度≤200目的颗粒占的质量百分比在80%以上,在磁场强度900~1800Oe进行磁选。
本发明中,菱铁矿(FeCO3)在加热到一定温度时会发生分解反应,放出二氧化碳气体,生成Fe3O4,磁化焙烧后的Fe3O4更容易被还原。
本发明提供的转底炉联合磨矿磁选设备处理菱铁矿的系统和方法,将菱铁矿制备球团后,在转底炉完成磁化焙烧和还原焙烧,还原效果好;还原剂通过空心挡墙进入转底炉,防止还原剂在落下过程发生燃烧和不均匀布料;还原焙烧区充分利用磁化焙烧区干球团显热,能耗小、成本低。
附图说明
图1是本发明转底炉联合磨矿磁选设备处理菱铁矿的系统示意图;
图2是本发明转底炉空心挡墙局部视图;
图3是本发明的系统处理菱铁矿的流程图。
图中:
1-细磨机;2-造球机;3-干燥装置;4-转底炉;
401-转底炉入料口;402-转底炉出料口;403-磁化焙烧区;404-还原焙烧区;405-空心挡墙;406-实心挡墙;407-还原剂入口;
5-磨矿磁选设备。
具体实施方式
以下结合附图和实施例,对本发明的具体实施方式进行更加详细的说明,以便能够更好地理解本发明的方案及其各个方面的优点。然而,以下描述的具体实施方式和实施例仅是说明的目的,而不是对本发明的限制。
如图1所示,一方面,本发明实施例提供一种转底炉联合磨矿磁选设备处理菱铁矿的系统,包括:细磨机1、造球机2、干燥装置3、转底炉4和磨矿磁选设备5。
细磨机1包括入料口和出料口。细磨机1用于将菱铁矿细磨至后续处理所需的粒度。造球机2包括入料口和出料口。造球机2用于将菱铁矿颗粒造球。球状的物料更利于在转底炉中均匀受热。
干燥装置3包括入料口和出料口。干燥装置3用于球团的干燥,为后续焙烧做准备。
转底炉4用于干球团的磁化焙烧和还原焙烧,获得金属化球团。
磨矿磁选设备5用于金属化球团的细磨和磁选,获得铁精粉。
如图1和图2所示,转底炉4包括:入料口401、出料口402和挡墙。
转底炉4的炉体内为环形空间,炉底可旋转。挡墙位于转底炉的炉体内,将炉体内的环形空间分隔为磁化焙烧区403和还原焙烧区404。挡墙包括空心挡墙405和实心挡墙406,空心挡墙405顶部设有还原剂入口407,空心挡墙405内部上下贯通。
图1和图2中,虚线箭头表示转底炉炉底的旋转方向。根据转底炉4的炉底旋转方向,在干球团由磁化焙烧区403进入还原焙烧区404处设置空心挡墙405,空心挡墙405作为还原剂进入转底炉4的通道。转底炉入料口401位于磁化焙烧区403实心挡墙端,转底炉出料口402位于还原焙烧区404实心挡墙端。转底炉入料401口与转底炉出料口402之间的扇形区域弧度为10°~15°。
如图2所示,本发明实施例中,还原剂入口407设置在空心挡墙405的顶端,空心挡墙405作为还原剂的通道,使得系统结构更紧凑。干球团由磁化焙烧区403进入还原焙烧区404时,还原剂由还原剂入口407进入转底炉,将干球团均匀覆盖一层还原剂。
转底炉的磁化焙烧区403采用辐射管加热,还原焙烧区404采用燃烧器加热。
细磨机1出料口连接造球机2入料口,造球机2出料口连接干燥装置3入料口,干燥装置3出料口连接转底炉入料口401,转底炉出料口402连接磨矿磁选设备5入料口。
具体的,转底炉4的炉体内为环形空间,磁化焙烧区403所占的环形空间的弧度为120°~180°。
进一步的,挡墙底部与转底炉的炉底上表面的距离为10~20cm。挡墙底部到转底炉的炉底上表面的距离既要保证物料的顺利通过,又要保证磁化焙烧区气氛和还原焙烧区气氛不互相干扰。
另一方面,如图3所示,本发明实施例提供一种利用上述系统处理菱铁矿的方法,包括如下步骤:
1、将菱铁矿细磨至粒度≤200目的菱铁矿占的质量百分比在85%以上,造球,干燥后获得干球团,干球团粒径为8~16mm;
2、将所述干球团送入所述转底炉,先进行磁化焙烧,后进行还原焙烧,获得金属化球团,转底炉磁化焙烧区温度为500~800℃,还原焙烧区温度为1200~1300℃,还原剂由还原剂入口进入转底炉,在干球团进入还原焙烧区时将干球团均匀覆盖一层还原剂,转底炉的炉底旋转一周时间为1.5~3h;
3、将金属化球团水淬后细磨至粒度≤200目的颗粒占的质量百分比在80%以上,在磁场强度900~1800Oe进行磁选,获得铁精粉。
磨细菱铁矿粒度为了增加物料的接触面积,加快还原速度。
作为优选的方案,还原剂中碳的质量成分不低于80%,还原剂粒度为1~4mm。
本发明实施例中,菱铁矿(FeCO3)在加热到一定温度时会发生分解反应,放出二氧化碳气体,生成Fe3O4,磁化焙烧后的Fe3O4更容易被还原,提高了干球团的金属化率。
本发明实施例提供的转底炉联合磨矿磁选设备处理菱铁矿的系统和方法,将菱铁矿制备球团后,在转底炉完成磁化焙烧和还原焙烧,还原效果好;还原剂通过空心挡墙进入转底炉,防止还原剂在落下过程发生燃烧和不均匀布料;还原焙烧区充分利用磁化焙烧区干球团显热,能耗小、成本低;磨矿磁选获得的铁精粉品位高。
下面通过具体实施例对本发明进行更加详细的说明,以便更好的理解本发明的方案。
实施例1
将某菱铁矿磨至粒度≤200目的颗粒质量占比86.32%,造球(球团粒径8~12mm),干燥后从转底炉入料口进入,转底炉磁化焙烧区弧度为120°,温度控制500℃,还原焙烧区温度控制1250℃,炉底旋转一周时间为2h,磁化焙烧后的干球团进入还原焙烧区时,还原煤(C的质量成分:82.03%,粒度3mm)从还原剂入料口铺满干球团,铺满还原煤的干球团在还原焙烧区被还原成金属化球团从转底炉出料口排出。金属化球团水淬磨细至粒度≤200目的质量占比81.58%,在磁场强度900Oe磁选获得铁精粉。
实施例2
将某菱铁矿磨至粒度≤200目的颗粒质量占比88.88%,造球(球团粒径10~14mm),干燥后从转底炉入料口进入,转底炉磁化焙烧区弧度为180°,温度控制650℃,还原焙烧区温度控制1200℃,炉底旋转一周时间为3h,磁化焙烧后的干球团进入还原焙烧区时,还原煤(C的质量成分:80.26%,粒度3mm)从还原剂入料口铺满干球团,铺满还原煤的干球团在还原焙烧区被还原成金属化球团从转底炉出料口排出。金属化球团水淬磨细至粒度≤200目的质量占比83.54%,在磁场强度1200Oe磁选获得铁精粉。
实施例3
将某菱铁矿磨至粒度≤200目的颗粒质量占比87.45%,造球(球团粒径12~16mm),干燥后从转底炉入料口进入,转底炉磁化焙烧区弧度为140°,温度控制800℃,还原焙烧区温度控制1300℃,炉底旋转一周时间为1.5h,磁化焙烧后的干球团进入还原焙烧区时,兰炭(C的质量成分:83.53%,粒度3mm)从还原剂入料口铺满干球团,铺满兰炭的干球团在还原焙烧区被还原成金属化球团从转底炉出料口排出。金属化球团水淬磨细至粒度≤200目的质量占比82.46%,在磁场强度1500Oe磁选获得铁精粉。
需要说明的是,以上参照附图所描述的各个实施例仅用以说明本发明而非限制本发明的范围,本领域的普通技术人员应当理解,在不脱离本发明的精神和范围的前提下对本发明进行的修改或者等同替换,均应涵盖在本发明的范围之内。此外,除上下文另有所指外,以单数形式出现的词包括复数形式,反之亦然。另外,除非特别说明,那么任何实施例的全部或一部分可结合任何其它实施例的全部或一部分来使用。
Claims (10)
1.一种转底炉联合磨矿磁选设备处理菱铁矿的系统,包括转底炉和磨矿磁选设备,
所述转底炉包括入料口、出料口和挡墙,
所述挡墙位于所述转底炉的炉体内,将所述炉体内的环形空间分隔为磁化焙烧区和还原焙烧区,所述挡墙包括空心挡墙和实心挡墙,所述空心挡墙顶部设有还原剂入口,所述空心挡墙内部上下贯通,
所述转底炉入料口位于所述磁化焙烧区,所述转底炉出料口位于所述还原焙烧区;
所述磨矿磁选设备包括入料口和出料口;
所述转底炉出料口连接所述磨矿磁选设备入料口。
2.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述系统进一步包括细磨机、造球机和干燥装置,
所述细磨机包括出料口;
所述造球机包括入料口和出料口;
所述干燥装置包括入料口和出料口;
所述细磨机出料口连接所述造球机入料口,所述造球机出料口连接所述干燥装置入料口,所述干燥装置出料口连接所述转底炉入料口。
3.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述磁化焙烧区环形空间的弧度为120°~180°。
4.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述转底炉入料口与转底炉出料口之间的扇形区域弧度为10°~15°。
5.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述挡墙底部与所述转底炉的炉底上表面的距离为10~20cm。
6.一种利用权利要求1~5任一所述系统处理菱铁矿的方法,其特征在于,包括步骤:
A、将菱铁矿细磨造球,干燥后获得干球团;
B、将所述干球团送入所述转底炉,先进行磁化焙烧,后进行还原焙烧,获得金属化球团,还原剂由所述还原剂入口进入转底炉,在所述干球团进入所述还原焙烧区时将所述干球团均匀覆盖一层还原剂;
C、将金属化球团水淬后磨矿、磁选获得铁精粉。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述转底炉磁化焙烧区温度为500~800℃,还原焙烧区温度为1200~1300℃,所述转底炉的炉底旋转一周时间为1.5~3h。
8.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,步骤A中将所述菱铁矿细磨至粒度≤200目的菱铁矿占的质量百分比在85%以上,所述干球团粒径为8~16mm。
9.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述还原剂中碳的质量成分不低于80%,所述还原剂粒度为1~4mm。
10.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,步骤C中将所述金属化球团细磨至粒度≤200目的颗粒占的质量百分比在80%以上,在磁场强度900~1800Oe进行磁选。
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GR01 | Patent grant | ||
PP01 | Preservation of patent right | ||
PP01 | Preservation of patent right |
Effective date of registration: 20190102 Granted publication date: 20180828 |
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PD01 | Discharge of preservation of patent | ||
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Date of cancellation: 20220102 Granted publication date: 20180828 |
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