CN106304599A - 一种用于大功率层流电弧等离子体束发生器的密封结构 - Google Patents

一种用于大功率层流电弧等离子体束发生器的密封结构 Download PDF

Info

Publication number
CN106304599A
CN106304599A CN201610859942.4A CN201610859942A CN106304599A CN 106304599 A CN106304599 A CN 106304599A CN 201610859942 A CN201610859942 A CN 201610859942A CN 106304599 A CN106304599 A CN 106304599A
Authority
CN
China
Prior art keywords
anode
sealing structure
air inlet
inlet ring
cathodic protection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201610859942.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN106304599B (zh
Inventor
何�泽
黄佳华
李露
李向阳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
CHENGDU PLASMAJET SCIENCE AND Technology Co Ltd
Original Assignee
CHENGDU PLASMAJET SCIENCE AND Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by CHENGDU PLASMAJET SCIENCE AND Technology Co Ltd filed Critical CHENGDU PLASMAJET SCIENCE AND Technology Co Ltd
Priority to CN201610859942.4A priority Critical patent/CN106304599B/zh
Publication of CN106304599A publication Critical patent/CN106304599A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN106304599B publication Critical patent/CN106304599B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/26Plasma torches
    • H05H1/32Plasma torches using an arc
    • H05H1/34Details, e.g. electrodes, nozzles
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/26Plasma torches
    • H05H1/28Cooling arrangements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)

Abstract

本发明公开了一种用于大功率层流电弧等离子体束发生器的密封结构,涉及层流等离子发生器技术领域。本发明包括阴极保护罩冷却密封结构、进气密封结构和阳极冷却密封结构;所述阴极保护罩冷却密封结构包括阴极保护罩,所述进气密封结构包括进气环、阴极连接柱和阳极固定座,所述阴极保护罩套在阴极连接柱上,且与阴极连接柱之间形成气流通道,所述进气环通过密封件套在阴极连接柱上,且外侧设置在阳极固定座内;所述进气环、阳极固定座、密封件和阴极保护罩形成工作气腔,本发明可以克服等离子体射流的湍动性,能够产生出高温区域长、能量衰减慢而分布均匀、噪音小、有利于电弧能量的有效利用和便于工艺控制的等离子体射流。

Description

一种用于大功率层流电弧等离子体束发生器的密封结构
技术领域
本发明涉及层流等离子发生器技术领域,更具体地说涉及一种用于大功率层流电弧等离子体束发生器的密封结构。
背景技术
等离子态是物质的第四态,宇宙中几乎99﹪的物质(不包括尚未确认的暗物质)都处于等离子态。等离子体射流与一般流体在流动特征上有相似性,具有两种流动状态:层流与湍流。对某一指定流体,当其流速小于一特定值时,流体作有规则的层状或流束状运动,流体质点没有横向运动,质点间互不干扰地前进,这种流动形式叫层流;当流体流速大于该值时,流体有规则的运动遭到破坏,质点除了主要的纵向运动外还有附加的横向运动,流体质点交错混乱地前进,这种流动形式叫湍流。
等离子体其温度分布范围则从10 K的低温到核聚变等离子体的 10亿K超高温并拥有一系列独特性质,使等离子体在纳米材料生产、新材料合成、热加工制造、冶炼、钻探、煤化工、垃圾废物处理、材料表面处理、电子、新能源、军事、航空航天等领域获得广泛应用。
在等离子体高温热源方面,目前应用十分广泛的电弧等离子体射流绝大部分采用湍流形态工作,这是由现有湍流电弧等离子体射流发生器技术和工作原理决定的。电弧等离子发生器分为层流和湍流两种,其关键技术是发生器结构设计。
近几十年来,等离子体发生器的研制及等离子诊断技术的开发均取得了巨大的进展,并且等离子体研制与开发的重点已不再局限与航天航空方面的应用,而是更多地转向机械、化工、冶金、环保等工业部门的应用,特别是在材料加工与新材料研制方面的应用。对于工业生产性的应用,要求等离子体发生器有较长的寿命和较高的效率。然而在实际工程应用中,等离子体流呈现复杂的流动状况,特别是大尺寸、大流量、大功率的工业等离子体装置中则通常为湍流流动。
因此,在工业应用中,希望等离子体射流稳定地维持在层流状态,这就需要把握等离子体在发生器中形成的各个环节,控制所有影响电弧稳定性的扰动因素,克服等离子体射流的湍动性,才能产生出高温区域长、能量衰减慢而分布均匀、噪音小、有利于电弧能量的有效利用和便于工艺控制的等离子体射流。
发明内容
为了克服上述现有技术中存在的缺陷和不足,本发明型提供了一种用于大功率层流电弧等离子体束发生器的密封结构,本发明的发明目的旨在于解决现有技术中等离子体流不稳定,呈现湍流的现象,本发明的大功率层流电弧等离子体束发生器,可以克服等离子体射流的湍动性,能够产生出高温区域长、能量衰减慢而分布均匀、噪音小、有利于电弧能量的有效利用和便于工艺控制的等离子体射流。
为了解决上述现有技术中存在的问题,本发明是通过下述技术方案实现的:
一种用于大功率层流电弧等离子体束发生器的密封结构,其特征在于:包括阴极保护罩冷却密封结构、进气密封结构和阳极冷却密封结构;所述阴极保护罩冷却密封结构包括阴极保护罩,所述进气密封结构包括进气环、阴极连接柱和阳极固定座,所述阴极保护罩套在阴极连接柱上,且与阴极连接柱之间形成气流通道,所述进气环通过密封件套在阴极连接柱上,且外侧设置在阳极固定座内;所述进气环、阳极固定座、密封件和阴极保护罩形成工作气腔,所述气流通道与工作气腔连通,连通处设置有单向阀,所述进气环上设置有出气口,所述出气口出设置单向阀,工作气体由气流通道进入到工作气腔内,再经进气环的出气口进入到电离腔内进行电离。
所述工作气腔内设置有弹簧件,所述弹簧件一端固定在进气环上,另一端固定在阳极固定座上。
所述阳极固定座上设置有与进气环配合的滑动槽,所述进气环在滑动槽内滑动。
所述进气环内部设置有气道,所述气道沿进气环径向螺旋分布。
所述进气环的外表面与电离腔接触的表面上设置有一层绝缘层。
所述阴极保护罩冷却密封结构还包括进水管和出水管,所述进水管设置在保护罩侧壁内部,所述出水管与进水管并列设置在保护罩侧壁内部;所述进水管的端部与出水管的端部连通。
所述进水管和出水管均沿保护罩轴向螺旋分布。
所述阳极冷却密封结构包括阳极外壳、阳极头、电弧通道和冷却水管,所述冷却水管贯穿阳极外壳、阳极头和电弧通道,且设置在阳极外壳、阳极头和电弧通道侧壁的内部。
与现有技术相比,本发明所带来的有益的技术效果表现在:
1、与现有技术相比,本发明的层流电弧等离子体束发生器的密封结构能够实现层流等离子高弧压、小电流的工作模式,结构相对较为合理,能够形成层流等离子射流。本发明中阳极部分和阴极部分的分布,阴极电离腔的形成,有助于稳定等离子射流。本发明的层流电弧等离子体束发生器产生的射流性能优异,不能可以长时间稳定运行,而且产生的射流具有长度长、能量密度集中、轴向温度梯度小、噪声低、可控性好、可重复、精度高等突出优点。
2、在阴极罩与阴极连接柱之间设置气流通道,工作气体从气流通道进入到进气环,在工作气体输送过程中,被阴极连接柱加热,防止因电离腔内温度较高而形成较高气压,阻挡工作气体输送的现象,同时可以利用阴极连接柱的热量,综合利用资源。
3、本发明中工作气腔的设置可以存储一定量的工作气体,同时在电离腔内温度较高时,气压增加,在进气环出口的单向阀的作用下,电离腔内的气压会挤压进气环向工作气腔移动,而在工作气腔与气流通道之间的单向阀的作用下,工作气腔密封,工作气腔内气压升高,可以调节电离腔内气体的气压,使得电离腔与工作腔内的气压达到平衡,缓解由于电离腔内温度升高而与气流通道内的工作气体形成的气压差,可以保证工作气体的顺利输送,保证了层流等离子的稳定性。
4、阳极固定座上设置滑动槽,使得进气环可以在阳极固定座上滑动,从而达到调节电离腔和工作气腔之间的气压平衡。
5、进气环内的螺旋气道,可以存储一定量的工作气体,可以有效的利用阴极头的温度在工作气体输送过程中进行升温,使其与电离腔内的工作气体温度相近,防止电离腔内对输入的工作气体的阻隔,提高了层流等离子射流的稳定性。同时,螺旋式分布的工作气体,其在压缩的情况下,也在工作气腔的情况下,能够保证在存在气压差的情况下,仍能继续顺利输送工作气体。
6、阴极保护罩的冷却密封结构,一方面为了对阴极连接柱进行冷却,另一方面可以降低保护罩的温度,从而防止热量传递到枪体底座和枪体的壳体上,防止对外界的影响,保证枪体的安全性能,本发明的保护罩分布两个管道,进水管和出水管,进水管用于冷却阴极连接柱,出水管用于冷却保护罩。
7、本发明的阳极冷却密封结构是通过一个冷却水管贯穿整个阳极部分,冷却水管贯穿阳极外壳、电弧通道和阳极头,即对阳极外壳进行冷却,防止阳极外壳温度过高,对外界环境进行影响;又对电弧通道进行冷却,可以稳定层流等离子射流;还对阳极头进行冷却,可以延长阳极头的使用寿命。
附图说明
图1为本发明整体结构示意图;
附图标记:1、阴极保护罩,2、进气环,3、阴极连接柱,4、阳极固定座,5、气流通道,6、密封件,7、工作气腔,8、单向阀,9、出气口,10、电离腔,11、弹簧件,12、滑动槽,13、气道,14、绝缘层,15、进水管,16、出水管,17、阳极外壳,18、阳极头,19、电弧通道,20、冷却水管。
具体实施方式
实施例1
作为本发明一较佳实施例,参照说明书附图1,本实施例公开了:
一种用于大功率层流电弧等离子体束发生器的密封结构,包括阴极保护罩冷却密封结构、进气密封结构和阳极冷却密封结构;所述阴极保护罩冷却密封结构包括阴极保护罩1,所述进气密封结构包括进气环2、阴极连接柱3和阳极固定座4,所述阴极保护罩1套在阴极连接柱3上,且与阴极连接柱3之间形成气流通道5,所述进气环2通过密封件6套在阴极连接柱3上,且外侧设置在阳极固定座4内;所述进气环2、阳极固定座4、密封件6和阴极保护罩1形成工作气腔7,所述气流通道5与工作气腔7连通,连通处设置有单向阀8,所述进气环2上设置有出气口9,所述出气口9出设置单向阀8,工作气体由气流通道5进入到工作气腔7内,再经进气环2的出气口9进入到电离腔10内进行电离。
实施例2
作为本发明又一较佳实施例,参照说明书附图1,本实施例公开了:
一种用于大功率层流电弧等离子体束发生器的密封结构,包括阴极保护罩冷却密封结构、进气密封结构和阳极冷却密封结构;所述阴极保护罩冷却密封结构包括阴极保护罩1,所述进气密封结构包括进气环2、阴极连接柱3和阳极固定座4,所述阴极保护罩1套在阴极连接柱3上,且与阴极连接柱3之间形成气流通道5,所述进气环2通过密封件6套在阴极连接柱3上,且外侧设置在阳极固定座4内;所述进气环2、阳极固定座4、密封件6和阴极保护罩1形成工作气腔7,所述气流通道5与工作气腔7连通,连通处设置有单向阀8,所述进气环2上设置有出气口9,所述出气口9出设置单向阀8,工作气体由气流通道5进入到工作气腔7内,再经进气环2的出气口9进入到电离腔10内进行电离;
所述工作气腔7内设置有弹簧件11,所述弹簧件11一端固定在进气环2上,另一端固定在阳极固定座4上;所述阳极固定座4上设置有与进气环2配合的滑动槽12,所述进气环2在滑动槽12内滑动。
实施例3
作为本发明又一较佳实施例,参照说明书附图1,本实施例公开了:
一种用于大功率层流电弧等离子体束发生器的密封结构,包括阴极保护罩冷却密封结构、进气密封结构和阳极冷却密封结构;所述阴极保护罩冷却密封结构包括阴极保护罩1,所述进气密封结构包括进气环2、阴极连接柱3和阳极固定座4,所述阴极保护罩1套在阴极连接柱3上,且与阴极连接柱3之间形成气流通道5,所述进气环2通过密封件6套在阴极连接柱3上,且外侧设置在阳极固定座4内;所述进气环2、阳极固定座4、密封件6和阴极保护罩1形成工作气腔7,所述气流通道5与工作气腔7连通,连通处设置有单向阀8,所述进气环2上设置有出气口9,所述出气口9出设置单向阀8,工作气体由气流通道5进入到工作气腔7内,再经进气环2的出气口9进入到电离腔10内进行电离;
所述工作气腔7内设置有弹簧件11,所述弹簧件11一端固定在进气环2上,另一端固定在阳极固定座4上;所述阳极固定座4上设置有与进气环2配合的滑动槽12,所述进气环2在滑动槽12内滑动;所述进气环2内部设置有气道13,所述气道13沿进气环2径向螺旋分布;所述进气环2的外表面与电离腔10接触的表面上设置有一层绝缘层14。
实施例4
作为本发明又一较佳实施例,参照说明书附图1,本实施例公开了:
一种用于大功率层流电弧等离子体束发生器的密封结构,包括阴极保护罩冷却密封结构、进气密封结构和阳极冷却密封结构;所述阴极保护罩冷却密封结构包括阴极保护罩1,所述进气密封结构包括进气环2、阴极连接柱3和阳极固定座4,所述阴极保护罩1套在阴极连接柱3上,且与阴极连接柱3之间形成气流通道5,所述进气环2通过密封件6套在阴极连接柱3上,且外侧设置在阳极固定座4内;所述进气环2、阳极固定座4、密封件6和阴极保护罩1形成工作气腔7,所述气流通道5与工作气腔7连通,连通处设置有单向阀8,所述进气环2上设置有出气口9,所述出气口9出设置单向阀8,工作气体由气流通道5进入到工作气腔7内,再经进气环2的出气口9进入到电离腔10内进行电离;
所述工作气腔7内设置有弹簧件11,所述弹簧件11一端固定在进气环2上,另一端固定在阳极固定座4上;所述阳极固定座4上设置有与进气环2配合的滑动槽12,所述进气环2在滑动槽12内滑动;所述进气环2内部设置有气道13,所述气道13沿进气环2径向螺旋分布;所述进气环2的外表面与电离腔10接触的表面上设置有一层绝缘层14;
所述阴极保护罩1密封结构还包括进水管15和出水管16,所述进水管15设置在保护罩侧壁内部,所述出水管16与进水管15并列设置在保护罩侧壁内部;所述进水管15的端部与出水管16的端部连通;所述进水管15和出水管16均沿保护罩轴向螺旋分布。
实施例5
作为本发明又一较佳实施例,参照说明书附图1,本实施例公开了:
一种用于大功率层流电弧等离子体束发生器的密封结构,包括阴极保护罩冷却密封结构、进气密封结构和阳极冷却密封结构;所述阴极保护罩冷却密封结构包括阴极保护罩1,所述进气密封结构包括进气环2、阴极连接柱3和阳极固定座4,所述阴极保护罩1套在阴极连接柱3上,且与阴极连接柱3之间形成气流通道5,所述进气环2通过密封件6套在阴极连接柱3上,且外侧设置在阳极固定座4内;所述进气环2、阳极固定座4、密封件6和阴极保护罩1形成工作气腔7,所述气流通道5与工作气腔7连通,连通处设置有单向阀8,所述进气环2上设置有出气口9,所述出气口9出设置单向阀8,工作气体由气流通道5进入到工作气腔7内,再经进气环2的出气口9进入到电离腔10内进行电离;
所述工作气腔7内设置有弹簧件11,所述弹簧件11一端固定在进气环2上,另一端固定在阳极固定座4上;所述阳极固定座4上设置有与进气环2配合的滑动槽12,所述进气环2在滑动槽12内滑动;所述进气环2内部设置有气道13,所述气道13沿进气环2径向螺旋分布;所述进气环2的外表面与电离腔10接触的表面上设置有一层绝缘层14;
所述阴极保护罩1密封结构还包括进水管15和出水管16,所述进水管15设置在保护罩侧壁内部,所述出水管16与进水管15并列设置在保护罩侧壁内部;所述进水管15的端部与出水管16的端部连通;所述进水管15和出水管16均沿保护罩轴向螺旋分布;
所述阳极冷却密封结构包括阳极外壳17、阳极头18、电弧通道19和冷却水管20,所述冷却水管20贯穿阳极外壳17、阳极头18和电弧通道19,且设置在阳极外壳17、阳极头18和电弧通道19侧壁的内部。

Claims (8)

1.一种用于大功率层流电弧等离子体束发生器的密封结构,其特征在于:包括阴极保护罩冷却密封结构、进气密封结构和阳极冷却密封结构;所述阴极保护罩冷却密封结构包括阴极保护罩(1),所述进气密封结构包括进气环(2)、阴极连接柱(3)和阳极固定座(4),所述阴极保护罩(1)套在阴极连接柱(3)上,且与阴极连接柱(3)之间形成气流通道(5),所述进气环(2)通过密封件(6)套在阴极连接柱(3)上,且外侧设置在阳极固定座(4)内;所述进气环(2)、阳极固定座(4)、密封件(6)和阴极保护罩(1)形成工作气腔(7),所述气流通道(5)与工作气腔(7)连通,连通处设置有单向阀(8),所述进气环(2)上设置有出气口(9),所述出气口(9)出设置单向阀(8),工作气体由气流通道(5)进入到工作气腔(7)内,再经进气环(2)的出气口(9)进入到电离腔(10)内进行电离。
2.如权利要求1所述的一种用于大功率层流电弧等离子体束发生器的密封结构,其特征在于:所述工作气腔(7)内设置有弹簧件(11),所述弹簧件(11)一端固定在进气环(2)上,另一端固定在阳极固定座(4)上。
3.如权利要求1或2所述的一种用于大功率层流电弧等离子体束发生器的密封结构,其特征在于:所述阳极固定座(4)上设置有与进气环(2)配合的滑动槽(12),所述进气环(2)在滑动槽(12)内滑动。
4.如权利要求1所述的一种用于大功率层流电弧等离子体束发生器的密封结构,其特征在于:所述进气环(2)内部设置有气道(13),所述气道(13)沿进气环(2)径向螺旋分布。
5.如权利要求1或4所述的一种用于大功率层流电弧等离子体束发生器的密封结构,其特征在于:所述进气环(2)的外表面与电离腔(10)接触的表面上设置有一层绝缘层(14)。
6.如权利要求1所述的一种用于大功率层流电弧等离子体束发生器的密封结构,其特征在于:所述阴极保护罩冷却密封结构还包括进水管(15)和出水管(16),所述进水管(15)设置在保护罩侧壁内部,所述出水管(16)与进水管(15)并列设置在保护罩侧壁内部;所述进水管(15)的端部与出水管(16)的端部连通。
7.如权利要求6所述的一种用于大功率层流电弧等离子体束发生器的密封结构,其特征在于:所述进水管(15)和出水管(16)均沿保护罩轴向螺旋分布。
8.如权利要求1所述的一种用于大功率层流电弧等离子体束发生器的密封结构,其特征在于:所述阳极冷却密封结构包括阳极外壳(17)、阳极头(18)、电弧通道(19)和冷却水管(20),所述冷却水管(20)贯穿阳极外壳(17)、阳极头(18)和电弧通道(19),且设置在阳极外壳(17)、阳极头(18)和电弧通道(19)侧壁的内部。
CN201610859942.4A 2016-09-29 2016-09-29 一种用于大功率层流电弧等离子体束发生器的密封结构 Active CN106304599B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610859942.4A CN106304599B (zh) 2016-09-29 2016-09-29 一种用于大功率层流电弧等离子体束发生器的密封结构

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610859942.4A CN106304599B (zh) 2016-09-29 2016-09-29 一种用于大功率层流电弧等离子体束发生器的密封结构

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN106304599A true CN106304599A (zh) 2017-01-04
CN106304599B CN106304599B (zh) 2022-09-13

Family

ID=57715646

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610859942.4A Active CN106304599B (zh) 2016-09-29 2016-09-29 一种用于大功率层流电弧等离子体束发生器的密封结构

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN106304599B (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109803478A (zh) * 2019-03-28 2019-05-24 成都金创立科技有限责任公司 等离子发生器水冷阳极
CN113133174A (zh) * 2021-05-24 2021-07-16 中国科学院合肥物质科学研究院 一种螺旋波-离子回旋共振耦合放电系统

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3858072A (en) * 1972-02-09 1974-12-31 Vysoka Skola Banska Ostrava Plasma torch with axial supply of the stabilizing gas
JPH11173517A (ja) * 1997-12-05 1999-06-29 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd プラズマトーチ
CN101049053A (zh) * 2004-11-05 2007-10-03 陶氏康宁爱尔兰有限公司 等离子体系统
CN102271451A (zh) * 2010-06-03 2011-12-07 成都阳流科技发展有限公司 一种层流电弧等离子体发生器的阴极结构
CN104254425A (zh) * 2012-04-18 2014-12-31 村田彰久 狭窄喷嘴以及使用狭窄喷嘴的tig焊接用炬
CN104284503A (zh) * 2014-10-31 2015-01-14 四川大学 一种用于孔道内壁处理的层流等离子体枪体
CN104853514A (zh) * 2015-05-12 2015-08-19 四川大学 层流等离子体发生器
CN105307373A (zh) * 2014-06-06 2016-02-03 成都真火科技有限公司 一种层流等离子发生器阴极罩保护结构
CN206181524U (zh) * 2016-09-29 2017-05-17 成都真火科技有限公司 一种用于大功率层流电弧等离子体束发生器的密封结构

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3858072A (en) * 1972-02-09 1974-12-31 Vysoka Skola Banska Ostrava Plasma torch with axial supply of the stabilizing gas
JPH11173517A (ja) * 1997-12-05 1999-06-29 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd プラズマトーチ
CN101049053A (zh) * 2004-11-05 2007-10-03 陶氏康宁爱尔兰有限公司 等离子体系统
CN102271451A (zh) * 2010-06-03 2011-12-07 成都阳流科技发展有限公司 一种层流电弧等离子体发生器的阴极结构
CN104254425A (zh) * 2012-04-18 2014-12-31 村田彰久 狭窄喷嘴以及使用狭窄喷嘴的tig焊接用炬
CN105307373A (zh) * 2014-06-06 2016-02-03 成都真火科技有限公司 一种层流等离子发生器阴极罩保护结构
CN104284503A (zh) * 2014-10-31 2015-01-14 四川大学 一种用于孔道内壁处理的层流等离子体枪体
CN104853514A (zh) * 2015-05-12 2015-08-19 四川大学 层流等离子体发生器
CN206181524U (zh) * 2016-09-29 2017-05-17 成都真火科技有限公司 一种用于大功率层流电弧等离子体束发生器的密封结构

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
向勇等: "直流纯氮层流等离子体射流特性的实验研究", 《强激光与粒子束》 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109803478A (zh) * 2019-03-28 2019-05-24 成都金创立科技有限责任公司 等离子发生器水冷阳极
CN113133174A (zh) * 2021-05-24 2021-07-16 中国科学院合肥物质科学研究院 一种螺旋波-离子回旋共振耦合放电系统

Also Published As

Publication number Publication date
CN106304599B (zh) 2022-09-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Jeong et al. Theoretical/numerical study of electrohydrodynamic pumping through conduction phenomenon
CN206181524U (zh) 一种用于大功率层流电弧等离子体束发生器的密封结构
Saifutdinov et al. Numerical simulation of temperature fields in a direct-current plasma torch
CN106304599A (zh) 一种用于大功率层流电弧等离子体束发生器的密封结构
CN104602430A (zh) 输入功率可调的电弧加热等离子体喷枪
Wang et al. Chemical nonequilibrium modelling of a free-burning nitrogen arc
Xiuquan et al. Design and characteristics of a new type laminar plasma torch for materials processing
CN105764227B (zh) 一种高束流直流空心阴极等离子体源
Zhang et al. Three-dimensional non-equilibrium modeling of a DC multi-cathode arc plasma torch
Shang et al. Effect of turbulence modulation on three-dimensional trajectories of powder particles in a plasma spray process
Takali et al. 3-D flow modeling of a three-phase AC plasma torch working with air using a stationary source domain with gas radiation
CN106304590B (zh) 一种大功率层流电弧等离子体束发生器
CN206181508U (zh) 一种大功率层流电弧等离子体束发生器
CN109743832B (zh) 一种大功率长寿命等离子体炬复合冷却装置及设计方法
Kai et al. Numerical and experimental investigation of plasma plume deflection with MHD flow control
CN206181520U (zh) 一种层流等离子发生器
CN206181515U (zh) 一种层流等离子发生器阴极结构
CN106304592B (zh) 一种层流等离子发生器阴极结构
CN206181529U (zh) 一种等离子焰流发生器
CN206181525U (zh) 一种层流等离子发生器枪体
CN206181526U (zh) 一种层流等离子发生器阴极保护罩
CN106304594A (zh) 一种层流等离子发生器
CN206181513U (zh) 一种便携式层流等离子发生器
CN106304601A (zh) 一种等离子焰流发生器
Colombo et al. 2-D and 3-D fluidynamic and plasma characterization of DC transferred arc plasma torches for metal cutting

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant