CN105974678A - 显示设备及其液晶显示面板、液晶显示模组 - Google Patents

显示设备及其液晶显示面板、液晶显示模组 Download PDF

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Abstract

本发明提供了一种液晶显示设备及其液晶显示面板、液晶显示模组,该液晶显示模组包括彩膜基板、阵列基板以及设于彩膜基板和阵列基板之间的多个柱状隔垫物;每一柱状隔垫物均具有锥度,其大端与彩膜基板连接,小端顶持阵列基板;其中,顶持阵列基板的柱状隔垫物小端端面长度大于阵列基板光阻层上相邻子像素连接通孔之间的距离。该液晶显示模组通过将柱状隔垫物的小端端面设计成长条形或菱形等形状,在阵列基板和彩膜基板对组后,柱状隔垫物会填充至相邻的子像素连接通孔内,另一方面可以与电极信号测试接触点上绝缘层凸起处咬合接触,增加了柱状隔垫物的站立稳定性,进而降低了由于PS滑落电极信号测试接触点而造成的显示不良的风险。

Description

显示设备及其液晶显示面板、液晶显示模组
技术领域
本发明涉及液晶显示设备的技术领域,具体是涉及一种液晶显示设备及其液晶显示面板、液晶显示模组。
背景技术
现有的小尺寸LCD一般均采用双柱高PS(Post Spacer,柱状隔垫物),即CF侧的PS有两种柱高,主柱PS(Main PS)较高但是分布较稀,对于LCD起主要支撑盒厚的作用;辅柱PS(Sub PS)较低但是分布较密,用于增加面板的抗压能力。PS的高度与站立位置也会影响LCD在Cell段的液晶滴用量。
随着液晶面板市场需求,高开口率和高PPI(Pixels Per Inch也叫像素密度),成了panel(基板)设计的重要目标。随着PPI越高,Pixel size(像素尺寸)越来越小,PS由于高度的原因,不管是光配相和传统rubbing(摩擦配相)配相,其高度使其配相存在一定盲区,故而PS下面需要用BM(black matrix,矩阵块)挡住其配相不良造成液晶紊乱的暗线,这样,如要不影响开口率,PS在Pixel中的位置就很关键,如图1-图3所示,图1是液晶显示面板中柱状隔垫物与阵列基板上像素的一种省开口率对位关系(PS on Pixel)的横向切面图,图2是液晶显示面板中柱状隔垫物与阵列基板上像素的一种不省开口率对位关系(PS onPixel)的横向切面图,图3是图1中液晶显示面板结构的纵向剖视图;一般我们选择将PS站立设置在在两个TFT的中间,即图1中的两个相邻子像素连接通孔之间。图中1表示为像素电极层,2为栅极矩阵块,3为PLN(阵列基板光阻材料)孔位置,4为电极信号测试接触点外侧的绝缘层,5为层间隔离介质(ILD),6为数据线矩阵块,7为数据线,8为柱状隔垫物大端,9为柱状隔垫物小端(顶持阵列基板一端),10中虚线框表示开口率损失区域,11为电极信号测试接触点,809为柱状隔垫物,801为彩膜基板,802为阵列基板,8091为主隔垫物,8092为辅隔垫物。在省开口率的设计方案中(图1),阵列基板(TFT)和彩膜基板(CF)对组后,由于pixel size很小,容许对组精度的范围缩小,PS容易滑入左右两侧像素连接通孔8021中,造成有效PS顶持率过小,进而导致支撑力不足的现象发生。另外请一并参阅图4和图5,图4是现有技术中阵列基板和彩膜基板对组前PS站立示意图,图5是现有技术中阵列基板和彩膜基板对组偏差后PS站立示意图,很显然,现有技术中的PS设计方案容易出现滑落电极信号测试接触点,造成有效PS顶持率过小,进而导致支撑力不足的现象发生。
发明内容
本发明实施例提供一种液晶显示设备及其液晶显示面板、液晶显示模组,以解决现有技术液晶显示面板隔垫物的设计过程中存在高开口率与高支撑稳定性之间矛盾的技术问题。
为解决上述问题,本发明实施例一方面提供了一种液晶显示模组,所述液晶显示模组包括彩膜基板、阵列基板以及设于所述彩膜基板和所述阵列基板之间的多个柱状隔垫物;每一所述柱状隔垫物均具有锥度,其大端与所述彩膜基板连接,小端顶持所述阵列基板;其中,顶持所述阵列基板的柱状隔垫物小端端面长度大于阵列基板光阻层上相邻子像素连接通孔之间的距离。
根据本发明一优选实施例,所述阵列基板光阻层上还设有多个电极信号测试接触点,每一电极信号测试接触点分别设于阵列基板光阻层上相邻子像素连接通孔之间,所述柱状隔垫物的小端分别对应顶持所述电极信号测试接触点。
根据本发明一优选实施例,所述柱状隔垫物的小端端面面积大于所述电极信号测试接触点的面积,且每一所述柱状隔垫物的小端至少对应覆盖顶持一个所述电极信号测试接触点。
根据本发明一优选实施例,每一所述电极信号测试接触点的顶部均设有一绝缘层,所述柱状隔垫物的小端对应顶持在所述绝缘层上。
根据本发明一优选实施例,所述顶持所述阵列基板的柱状隔垫物小端端面长度大于阵列基板光阻层上像素连接通孔的直径。
根据本发明一优选实施例,所述顶持所述阵列基板的柱状隔垫物小端端面呈菱形或者长条形结构。
根据本发明一优选实施例,所述柱状隔垫物为弹性材料制成,所述彩膜基板和所述阵列基板对合后所述柱状隔垫物因受压而发生弹性收缩性变。
根据本发明一优选实施例,所述液晶显示模组为低温多晶硅液晶显示模组或者内嵌式触摸液晶显示模组。
为解决上述技术问题,本发明实施例另一方面还提供一种液晶显示面板,所述液晶显示面板包括层叠设置的背光模组以及上述实施例中任一项所述的液晶显示模组。
进一步地,本发明实施例又提供一种液晶显示设备,所述液晶显示设备包括上述实施例中所述的液晶显示面板。
相对于现有技术,本发明提供的液晶显示设备及其液晶显示面板、液晶显示模组,通过将彩膜基板和阵列基板之间柱状隔垫物的小端端面设计成长条形或菱形等形状,在阵列基板和彩膜基板对组后,柱状隔垫物有一定的压缩率,柱状隔垫物一方面会填充至相邻的子像素连接通孔内,另一方面可以与电极信号测试接触点上绝缘层凸起处咬合接触,增加了柱状隔垫物(PS)的站立稳定性,进而降低了由于PS滑落电极信号测试接触点而造成的显示不良的风险;进一步地,该种结构柱状隔垫物的小端端面设计(柱状隔垫物的小端端面面积大于电极信号测试接触点的面积),使与柱状隔垫物对位的阵列基板侧呈凹陷状,还可以避免柱状隔垫物滑落电极信号测试接触点,起到限制电极信号测试接触点的对组范围的作用,进而增加了对组精度。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是液晶显示面板中柱状隔垫物与阵列基板上像素的一种省开口率对位关系(PS on Pixel)的横向切面图;
图2是液晶显示面板中柱状隔垫物与阵列基板上像素的一种不省开口率对位关系(PS on Pixel)的横向切面图;
图3是图1中液晶显示面板结构的纵向剖视图;
图4是现有技术中阵列基板和彩膜基板对组前PS站立示意图;
图5是现有技术中阵列基板和彩膜基板对组偏差后PS站立示意图;
图6是本发明液晶显示模组中阵列基板和彩膜基板对组前的结构示意图;
图7是本发明液晶显示模组中阵列基板和彩膜基板对组后的结构示意图;
图8是液晶显示模组的柱状隔垫物与阵列基板上像素的另一种对位关系的横向切面图;
图9是本发明液晶显示面板一优选实施例的结构示意简图;以及
图10是本发明液晶显示设备一优选实施例的结构示意简图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本发明作进一步的详细描述。特别指
出的是,以下实施例仅用于说明本发明,但不对本发明的范围进行限定。同样的,以下实施例仅为本发明的部分实施例而非全部实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
请一并参阅图6和图7,图6是本发明液晶显示模组中阵列基板和彩膜基板对组前的结构示意图,图7是本发明液晶显示模组中阵列基板和彩膜基板对组后的结构示意图。需要说明的是,本实施例中的液晶显示模组为低温多晶硅液晶显示模组(LTPS-LCD,Low TemperaturePoly-silicon)或者内嵌式触摸液晶显示模组(In-cell Touch)。
该液晶显示模组包括但不限于以下结构单元:彩膜基板100、阵列基板200以及设于彩膜基板100和阵列基板200之间的多个柱状隔垫物300。
具体而言,每一柱状隔垫物300均具有锥度,其大端与彩膜基板100连接,小端顶持阵列基板200;优选地,顶持阵列基板200的柱状隔垫物300小端端面呈菱形或者长条形等结构,且柱状隔垫物小端端面长度大于阵列基板200光阻层上相邻子像素连接通孔210之间的距离H以及像素连接通孔210的孔径D。进一步优选地,柱状隔垫物300为弹性材料制成,彩膜基板100和阵列基板200对合后,柱状隔垫物300因受压而发生弹性收缩性变,会填充至像素连接通孔210内。
在该实施例中,阵列基板200光阻层201(PLN)上还设有多个电极信号测试接触点(M3)220,每一电极信号测试接触点220分别设于阵列基板光阻层201上相邻子像素连接通孔210之间,每一柱状隔垫物300的小端分别对应顶持至少一个电极信号测试接触点220。
优选地,柱状隔垫物300的小端端面面积大于电极信号测试接触点220的面积,且每一柱状隔垫物300的小端至少对应覆盖顶持一个电极信号测试接触点220。进一步地,每一电极信号测试接触点220的顶部均设有一绝缘层(PV)221,该柱状隔垫物300的小端对应顶持在绝缘层221上。
在该实施例的对位结构中,柱状隔垫物300(PS)对位阵列基板200侧电极信号测试接触点220上绝缘层221凸起处,通过对组时柱状隔垫物300在高度方向的压缩,增加对组后的彩膜基板100和阵列基板200对组稳定性,也可降低In-cell Touch技术中PS滑落电极信号测试接触点220而造成显示不良的风险。另一方面,柱状隔垫物300因受压而发生弹性收缩性变,还会填充至像素连接通孔210内,进一步增强了彩膜基板100和阵列基板200的对组稳定性。
请参阅图8,图8是液晶显示模组的柱状隔垫物与阵列基板上像素的另一种对位关系的横向切面图,图中310表示柱状隔垫物300小端面的端面形状及位置的结构,该对位关系的实施例与图6和图7不同是,图6和图7实施例中是一个柱状隔垫物300横跨对应两个像素连接通孔210,而图8中对位关系为一个柱状隔垫物300横跨顶持两个电极信号测试接触点220,但其两种对位关系的作用和目的都是相同的,即增强彩膜基板100和阵列基板200的对组稳定性。
本实施例中,彩膜基板100包括彩膜玻璃基板(Color Filter Glass)110,设于彩膜玻璃基板110上的BM(black matrix,矩阵块)120,滤光膜130以及最外侧的保护层(overcoat,简称OC)140;其中,柱状隔垫物(PS)300的大端与保护层140连接。另外图7中GI为栅极电极层,ITO1为第一纳米铟锡金属氧化物(Indium Tin Oxides)层,即源极层;ITO2为第二纳米铟锡金属氧化物(Indium Tin Oxides)层,即漏极层;TP-IL为电极信号测试接触点220与ITO1和ITO2之间的介电层,SD表示为栅极层;ILD为层间隔离介质。
相对于现有技术,本发明提供的液晶显示模组,通过将彩膜基板和阵列基板之间柱状隔垫物的小端端面设计成长条形或菱形等形状,在阵列基板和彩膜基板对组后,柱状隔垫物有一定的压缩率,柱状隔垫物一方面会填充至相邻的子像素连接通孔内,另一方面可以与电极信号测试接触点上绝缘层凸起处咬合接触,增加了柱状隔垫物(PS)的站立稳定性,进而降低了由于PS滑落电极信号测试接触点而造成的显示不良的风险;进一步地,该种结构柱状隔垫物的小端端面设计(柱状隔垫物的小端端面面积大于电极信号测试接触点的面积),使与柱状隔垫物对位的阵列基板侧呈凹陷状,还可以避免柱状隔垫物滑落电极信号测试接触点,起到限制电极信号测试接触点的对组范围的作用,进而增加了对组精度。
进一步地,本发明实施例还提供一种液晶显示面板,请参阅图9,图9是本发明液晶显示面板一优选实施例的结构示意简图。该液晶显示面板包括但不限于层叠设置的背光模组91以及的液晶显示模组92。其中,背光模组91的结构在本领域技术人员的理解范围内,此处不再详述。而该液晶显示模组92的结构组成如下。
请一并参阅图6和图7,图6是本发明液晶显示模组中阵列基板和彩膜基板对组前的结构示意图,图7是本发明液晶显示模组中阵列基板和彩膜基板对组后的结构示意图。需要说明的是,本实施例中的液晶显示模组为低温多晶硅液晶显示模组(LTPS-LCD,Low TemperaturePoly-silicon)或者内嵌式触摸液晶显示模组(In-cell Touch)。
该液晶显示模组包括但不限于以下结构单元:彩膜基板100、阵列基板200以及设于彩膜基板100和阵列基板200之间的多个柱状隔垫物300。
具体而言,每一柱状隔垫物300均具有锥度,其大端与彩膜基板100连接,小端顶持阵列基板200;优选地,顶持阵列基板200的柱状隔垫物300小端端面呈菱形或者长条形等结构,且柱状隔垫物小端端面长度大于阵列基板200光阻层上相邻子像素连接通孔210之间的距离H以及像素连接通孔210的孔径D。进一步优选地,柱状隔垫物300为弹性材料制成,彩膜基板100和阵列基板200对合后,柱状隔垫物300因受压而发生弹性收缩性变,会填充至像素连接通孔210内。
在该实施例中,阵列基板200光阻层201(PLN)上还设有多个电极信号测试接触点(M3)220,每一电极信号测试接触点220分别设于阵列基板光阻层201上相邻子像素连接通孔210之间,每一柱状隔垫物300的小端分别对应顶持至少一个电极信号测试接触点220。
优选地,柱状隔垫物300的小端端面面积大于电极信号测试接触点220的面积,且每一柱状隔垫物300的小端至少对应覆盖顶持一个电极信号测试接触点220。进一步地,每一电极信号测试接触点220的顶部均设有一绝缘层(PV)221,该柱状隔垫物300的小端对应顶持在绝缘层221上。
在该实施例的对位结构中,柱状隔垫物300(PS)对位阵列基板200侧电极信号测试接触点220上绝缘层221凸起处,通过对组时柱状隔垫物300在高度方向的压缩,增加对组后的彩膜基板100和阵列基板200对组稳定性,也可降低In-cell Touch技术中PS滑落电极信号测试接触点220而造成显示不良的风险。另一方面,柱状隔垫物300因受压而发生弹性收缩性变,还会填充至像素连接通孔210内,进一步增强了彩膜基板100和阵列基板200的对组稳定性。
请参阅图8,图8是液晶显示模组的柱状隔垫物与阵列基板上像素的另一种对位关系的横向切面图,图中310表示柱状隔垫物300小端面的端面形状及位置的结构,该对位关系的实施例与图6和图7不同是,图6和图7实施例中是一个柱状隔垫物300横跨对应两个像素连接通孔210,而图8中对位关系为一个柱状隔垫物300横跨顶持两个电极信号测试接触点220,但其两种对位关系的作用和目的都是相同的,即增强彩膜基板100和阵列基板200的对组稳定性。
本实施例中,彩膜基板100包括彩膜玻璃基板(Color Filter Glass)110,设于彩膜玻璃基板110上的BM(black matrix,矩阵块)120,滤光膜130以及最外侧的保护层(overcoat,简称OC)140;其中,柱状隔垫物(PS)300的大端与保护层140连接。另外图7中GI为栅极电极层,ITO1为第一纳米铟锡金属氧化物(Indium Tin Oxides)层,即源极层;ITO2为第二纳米铟锡金属氧化物(Indium Tin Oxides)层,即漏极层;TP-IL为电极信号测试接触点220与ITO1和ITO2之间的介电层,SD表示为栅极层;ILD为层间隔离介质。
相对于现有技术,本发明提供的液晶显示面板,其液晶显示模组通过将彩膜基板和阵列基板之间柱状隔垫物的小端端面设计成长条形或菱形等形状,在阵列基板和彩膜基板对组后,柱状隔垫物有一定的压缩率,柱状隔垫物一方面会填充至相邻的子像素连接通孔内,另一方面可以与电极信号测试接触点上绝缘层凸起处咬合接触,增加了柱状隔垫物(PS)的站立稳定性,进而降低了由于PS滑落电极信号测试接触点而造成的显示不良的风险;进一步地,该种结构柱状隔垫物的小端端面设计(柱状隔垫物的小端端面面积大于电极信号测试接触点的面积),使与柱状隔垫物对位的阵列基板侧呈凹陷状,还可以避免柱状隔垫物滑落电极信号测试接触点,起到限制电极信号测试接触点的对组范围的作用,进而增加了对组精度。
本发明实施例还提供一种液晶显示设备,请参阅图10,图10是本发明液晶显示设备一优选实施例的结构示意简图,该液晶显示设备包括壳体88以及设于壳体88内的液晶显示面板99。其中,该液晶显示设备可以为手机、平板电脑、监视器等的显示触控集设备。对于液晶显示设备的结构特征中,本领域技术人员熟知的部分,此处不再详述,现只对本发明涉及发明点的部分做描述。
该液晶显示面板99包括但不限于层叠设置的背光模组91以及的液晶显示模组92。其中,背光模组91的结构在本领域技术人员的理解范围内,此处不再详述。而该液晶显示模组92的结构组成如下。
请一并参阅图6和图7,图6是本发明液晶显示模组中阵列基板和彩膜基板对组前的结构示意图,图7是本发明液晶显示模组中阵列基板和彩膜基板对组后的结构示意图。需要说明的是,本实施例中的液晶显示模组为低温多晶硅液晶显示模组(LTPS-LCD,Low TemperaturePoly-silicon)或者内嵌式触摸液晶显示模组(In-cell Touch)。
该液晶显示模组包括但不限于以下结构单元:彩膜基板100、阵列基板200以及设于彩膜基板100和阵列基板200之间的多个柱状隔垫物300。
具体而言,每一柱状隔垫物300均具有锥度,其大端与彩膜基板100连接,小端顶持阵列基板200;优选地,顶持阵列基板200的柱状隔垫物300小端端面呈菱形或者长条形等结构,且柱状隔垫物小端端面长度大于阵列基板200光阻层上相邻子像素连接通孔210之间的距离H以及像素连接通孔210的孔径D。进一步优选地,柱状隔垫物300为弹性材料制成,彩膜基板100和阵列基板200对合后,柱状隔垫物300因受压而发生弹性收缩性变,会填充至像素连接通孔210内。
在该实施例中,阵列基板200光阻层201(PLN)上还设有多个电极信号测试接触点(M3)220,每一电极信号测试接触点220分别设于阵列基板光阻层201上相邻子像素连接通孔210之间,每一柱状隔垫物300的小端分别对应顶持至少一个电极信号测试接触点220。
优选地,柱状隔垫物300的小端端面面积大于电极信号测试接触点220的面积,且每一柱状隔垫物300的小端至少对应覆盖顶持一个电极信号测试接触点220。进一步地,每一电极信号测试接触点220的顶部均设有一绝缘层(PV)221,该柱状隔垫物300的小端对应顶持在绝缘层221上。
在该实施例的对位结构中,柱状隔垫物300(PS)对位阵列基板200侧电极信号测试接触点220上绝缘层221凸起处,通过对组时柱状隔垫物300在高度方向的压缩,增加对组后的彩膜基板100和阵列基板200对组稳定性,也可降低In-cell Touch技术中PS滑落电极信号测试接触点220而造成显示不良的风险。另一方面,柱状隔垫物300因受压而发生弹性收缩性变,还会填充至像素连接通孔210内,进一步增强了彩膜基板100和阵列基板200的对组稳定性。
请参阅图8,图8是液晶显示模组的柱状隔垫物与阵列基板上像素的另一种对位关系的横向切面图,图中310表示柱状隔垫物300小端面的端面形状及位置的结构,该对位关系的实施例与图6和图7不同是,图6和图7实施例中是一个柱状隔垫物300横跨对应两个像素连接通孔210,而图8中对位关系为一个柱状隔垫物300横跨顶持两个电极信号测试接触点220,但其两种对位关系的作用和目的都是相同的,即增强彩膜基板100和阵列基板200的对组稳定性。
本实施例中,彩膜基板100包括彩膜玻璃基板(Color Filter Glass)110,设于彩膜玻璃基板110上的BM(black matrix,矩阵块)120,滤光膜130以及最外侧的保护层(overcoat,简称OC)140;其中,柱状隔垫物(PS)300的大端与保护层140连接。另外图7中GI为栅极电极层,ITO1为第一纳米铟锡金属氧化物(Indium Tin Oxides)层,即源极层;ITO2为第二纳米铟锡金属氧化物(Indium Tin Oxides)层,即漏极层;TP-IL为电极信号测试接触点220与ITO1和ITO2之间的介电层,SD表示为栅极层;ILD为层间隔离介质。
相对于现有技术,本发明提供的液晶显示设备,其液晶显示模组通过将彩膜基板和阵列基板之间柱状隔垫物的小端端面设计成长条形或菱形等形状,在阵列基板和彩膜基板对组后,柱状隔垫物有一定的压缩率,柱状隔垫物一方面会填充至相邻的子像素连接通孔内,另一方面可以与电极信号测试接触点上绝缘层凸起处咬合接触,增加了柱状隔垫物(PS)的站立稳定性,进而降低了由于PS滑落电极信号测试接触点而造成的显示不良的风险;进一步地,该种结构柱状隔垫物的小端端面设计(柱状隔垫物的小端端面面积大于电极信号测试接触点的面积),使与柱状隔垫物对位的阵列基板侧呈凹陷状,还可以避免柱状隔垫物滑落电极信号测试接触点,起到限制电极信号测试接触点的对组范围的作用,进而增加了对组精度。
以上所述仅为本发明的部分实施例,并非因此限制本发明的保护范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效装置或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种液晶显示模组,其特征在于,所述液晶显示模组包括彩膜基板、阵列基板以及设于所述彩膜基板和所述阵列基板之间的多个柱状隔垫物;每一所述柱状隔垫物均具有锥度,其大端与所述彩膜基板连接,小端顶持所述阵列基板;其中,顶持所述阵列基板的柱状隔垫物小端端面长度大于阵列基板光阻层上相邻子像素连接通孔之间的距离。
2.根据权利要求1所述的液晶显示模组,其特征在于,所述阵列基板光阻层上还设有多个电极信号测试接触点,每一电极信号测试接触点分别设于阵列基板光阻层上相邻子像素连接通孔之间,所述柱状隔垫物的小端分别对应顶持所述电极信号测试接触点。
3.根据权利要求2所述的液晶显示模组,其特征在于,所述柱状隔垫物的小端端面面积大于所述电极信号测试接触点的面积,且每一所述柱状隔垫物的小端至少对应覆盖顶持一个所述电极信号测试接触点。
4.根据权利要求2所述的液晶显示模组,其特征在于,每一所述电极信号测试接触点的顶部均设有一绝缘层,所述柱状隔垫物的小端对应顶持在所述绝缘层上。
5.根据权利要求1所述的液晶显示模组,其特征在于,所述顶持所述阵列基板的柱状隔垫物小端端面长度大于阵列基板光阻层上像素连接通孔的直径。
6.根据权利要求1所述的液晶显示模组,其特征在于,所述顶持所述阵列基板的柱状隔垫物小端端面呈菱形或者长条形结构。
7.根据权利要求1所述的液晶显示模组,其特征在于,所述柱状隔垫物为弹性材料制成,所述彩膜基板和所述阵列基板对合后所述柱状隔垫物因受压而发生弹性收缩性变。
8.根据权利要求1所述的液晶显示模组,其特征在于,所述液晶显示模组为低温多晶硅液晶显示模组或者内嵌式触摸液晶显示模组。
9.一种液晶显示面板,其特征在于,所述液晶显示面板包括层叠设置的背光模组以及权利要求1-8任一项所述的液晶显示模组。
10.一种液晶显示设备,其特征在于,所述液晶显示设备包括权利要求9所述的液晶显示面板。
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