CN105723996A - 一种温室樱桃萝卜栽培方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种温室樱桃萝卜栽培方法，属于农业种植领域。它包括步骤：品种选择、整地施肥、播种和田间管理；所述品种选择为选择日本樱桃萝卜种植，该品种丰产、抗病、易管理；所述整地施肥为种植地块每亩施4000公斤充分腐熟的厩肥作基肥，用5-8公斤过磷酸钙作种肥然后整地；对地块深翻、细耙、搂平，翻耙深度25厘米;最后地面喷洒1000倍多菌灵或甲基托布津药液灭菌。采用上述栽培方法能够节省种植成本，同时种植步骤简洁明了，有利于菜农增收。
Description
技术领域
本发明涉及农业种植领域，尤其是一种樱桃萝卜栽培方法。
背景技术
樱桃萝卜适应性强，生育期短，生长迅速，一年四季皆可种植。其营养丰富，而且质地细嫩爽脆，是人们喜爱的一种生食蔬菜。尤其在春节期间，由于人们食用大量油腻的鸡、鸭、鱼、肉，更喜欢吃一些应季的新鲜蔬菜，此时上市的温室樱桃萝卜便成为家家餐桌上的最爱。
发明内容
本发明的发明目的在于：针对上述存在的问题，提供一种节约成本，种植步骤简洁明了，有利菜农增收的温室樱桃栽培方法。
本发明采用的技术方案如下：一种温室樱桃萝卜栽培方法包括步骤：品种选择、整地施肥、播种和田间管理；
所述品种选择为选择日本樱桃萝卜种植，该品种丰产、抗病、易管理；球根色泽艳丽，肉质甜润爽脆、口感好，叶片嫩绿，商品性好，因而深受广大菜农和消费者喜爱。
所述整地施肥为种植地块每亩施4000公斤充分腐熟的厩肥作基肥，用5-8公斤过磷酸钙作种肥然后整地；对地块深翻、细耙、搂平，翻耙深度25厘米;最后地面喷洒1000倍多菌灵或甲基托布津药液灭菌。若耕翻太浅或心土坚实，萝卜肉质根会生长不良，易发生变形根。
优选的，所述播种为采用精量指点播种法，株行距为4×10厘米，播后覆土，厚1厘米，然后轻轻镇压，保证种子拱土有劲、出苗齐而壮。
精量指点播种法：用三钩在畦内划出浅沟，然后用食指粘1粒种子(种子用清水过一下，便于粘在手指上)精量点播。播种后浇水，要浇透浇足。精量指点播种法虽然麻烦一些，但可以精准控制株距，节约种子，降低生产成本，后期不用间苗，是一项值得在生产中推广应用的新技术。
优选的，所述田间管理包括温度管理和水肥管理；
温度管理：苗期白天控制温度在20～25℃，植株生长期白天控制温度在15～20℃，夜温保持在10℃；日出2-3小时后对温室进行卷帘，日落前3-5小时对温室进行放帘；温室内温度超过25℃时立即放风降温；
水肥管理：浇水均匀，保持土壤含水量65%～85%；收获前5～6天停止浇水；在施足基肥的基础上，在植株生长中后期结合浇水随水冲施氮、磷、钾三元复合肥2次，每亩用量10公斤。
综上所述，由于采用了上述技术方案，本发明的有益效果是：采用上述栽培方法能够节省种植成本，同时种植步骤简洁明了，有利于菜农增收。
具体实施方式
本说明书中公开的所有特征，或公开的所有方法或过程中的步骤，除了互相排斥的特征和/或步骤以外，均可以以任何方式组合。
本说明书（包括任何附加权利要求、摘要）中公开的任一特征，除非特别叙述，均可被其他等效或具有类似目的的替代特征加以替换。即，除非特别叙述，每个特征只是一系列等效或类似特征中的一个例子而已。
实施例1
一种温室樱桃萝卜栽培方法包括步骤：品种选择、整地施肥、播种和田间管理；
所述品种选择为选择日本樱桃萝卜种植，该品种丰产、抗病、易管理；
所述整地施肥为种植地块每亩施4000公斤充分腐熟的厩肥作基肥，用5公斤过磷酸钙作种肥然后整地；对地块深翻、细耙、搂平，翻耙深度25厘米;最后地面喷洒1000倍多菌灵药液灭菌。
优选的，所述播种为采用精量指点播种法，株行距为4×10厘米，播后覆土，厚1厘米，然后轻轻镇压，保证种子拱土有劲、出苗齐而壮。
优选的，所述田间管理包括温度管理和水肥管理；
温度管理：苗期白天控制温度在20℃，植株生长期白天控制温度在15℃，夜温保持在10℃；日出2小时后对温室进行卷帘，日落前3小时对温室进行放帘；温室内温度超过25℃时立即放风降温；
水肥管理：浇水均匀，保持土壤含水量65%；收获前5天停止浇水；在施足基肥的基础上，在植株生长中后期结合浇水随水冲施氮、磷、钾三元复合肥2次，每亩用量10公斤。
实施例2
一种温室樱桃萝卜栽培方法包括步骤：品种选择、整地施肥、播种和田间管理；
所述品种选择为选择日本樱桃萝卜种植，该品种丰产、抗病、易管理；
所述整地施肥为种植地块每亩施4000公斤充分腐熟的厩肥作基肥，用8公斤过磷酸钙作种肥然后整地；对地块深翻、细耙、搂平，翻耙深度25厘米;最后地面喷洒1000倍甲基托布津药液灭菌。
优选的，所述播种为采用精量指点播种法，株行距为4×10厘米，播后覆土，厚1厘米，然后轻轻镇压，保证种子拱土有劲、出苗齐而壮。
优选的，所述田间管理包括温度管理和水肥管理；
温度管理：苗期白天控制温度在25℃，植株生长期白天控制温度在20℃，夜温保持在10℃；日出3小时后对温室进行卷帘，日落前5小时对温室进行放帘；温室内温度超过25℃时立即放风降温；
水肥管理：浇水均匀，保持土壤含水量85%；收获前6天停止浇水；在施足基肥的基础上，在植株生长中后期结合浇水随水冲施氮、磷、钾三元复合肥2次，每亩用量10公斤。
实施例3
一种温室樱桃萝卜栽培方法包括步骤：品种选择、整地施肥、播种和田间管理；
所述品种选择为选择日本樱桃萝卜种植，该品种丰产、抗病、易管理；
所述整地施肥为种植地块每亩施4000公斤充分腐熟的厩肥作基肥，用7公斤过磷酸钙作种肥然后整地；对地块深翻、细耙、搂平，翻耙深度25厘米;最后地面喷洒1000倍多菌灵药液灭菌。
优选的，所述播种为采用精量指点播种法，株行距为4×10厘米，播后覆土，厚1厘米，然后轻轻镇压，保证种子拱土有劲、出苗齐而壮。
优选的，所述田间管理包括温度管理和水肥管理；
温度管理：苗期白天控制温度在23℃，植株生长期白天控制温度在17℃，夜温保持在10℃；日出2.5小时后对温室进行卷帘，日落前4小时对温室进行放帘；温室内温度超过25℃时立即放风降温；
水肥管理：浇水均匀，保持土壤含水量75%；收获前5天停止浇水；在施足基肥的基础上，在植株生长中后期结合浇水随水冲施氮、磷、钾三元复合肥2次，每亩用量10公斤。
本发明并不局限于前述的具体实施方式。本发明扩展到任何在本说明书中披露的新特征或任何新的组合，以及披露的任一新的方法或过程的步骤或任何新的组合。
Claims (3)
1.一种温室樱桃萝卜栽培方法，其特征在于包括步骤：品种选择、整地施肥、播种和田间管理；
所述品种选择为选择日本樱桃萝卜种植，该品种丰产、抗病、易管理；
所述整地施肥为种植地块每亩施4000公斤充分腐熟的厩肥作基肥，用5-8公斤过磷酸钙作种肥然后整地；对地块深翻、细耙、搂平，翻耙深度25厘米；最后地面喷洒1000倍多菌灵或甲基托布津药液灭菌。
2.如权利要求1所述的温室樱桃萝卜栽培方法，其特征在于：所述播种为采用精量指点播种法，株行距为4×10厘米，播后覆土，厚1厘米，然后轻轻镇压，保证种子拱土有劲、出苗齐而壮。
3.如权利要求1所述的温室樱桃萝卜栽培方法，其特征在于：所述田间管理包括温度管理和水肥管理；
温度管理：苗期白天控制温度在20～25℃，植株生长期白天控制温度在15～20℃，夜温保持在10℃；日出2-3小时后对温室进行卷帘，日落前3-5小时对温室进行放帘；温室内温度超过25℃时立即放风降温；
水肥管理：浇水均匀，保持土壤含水量65％～85％；收获前5～6天停止浇水；在施足基肥的基础上，在植株生长中后期结合浇水随水冲施氮、磷、钾三元复合肥2次，每亩用量10公斤。
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| CN (1) | CN105723996A (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107432181A (zh) * | 2017-08-23 | 2017-12-05 | 广西桂平市蒙圩镇柱强种养专业合作社 | 一种富硒樱桃萝卜盆栽方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102379198A (zh) * | 2010-09-03 | 2012-03-21 | 耿志国 | 樱桃萝卜的春季露地栽培方法 |
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2014
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| CN102379198A (zh) * | 2010-09-03 | 2012-03-21 | 耿志国 | 樱桃萝卜的春季露地栽培方法 |
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