CN105628614A - 照射强度控制设备与方法、以及光学检验系统 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种照射强度控制设备与方法、以及光学检验系统。所述设备（10），包括用于检验物体的固态照射源（15）、及电路（20、64、68、22、43、45、50、55），所述电路用以：执行初始校准过程，所述初始校准过程选择用于施加到所述固态照射源的固定电压供应电平；以及对所述固态照射源施加具有所述所选固定电压供应电平的电压脉冲（110）的序列，由此使所述固态照射源产生固定强度照射脉冲的序列以用于检验所述物体。

Description

照射强度控制设备与方法、以及光学检验系统

技术领域

本发明大体来说涉及照射源，且具体来说涉及用于照射强度控制的方法及系统。

背景技术

现有技术中已知用于控制照射源（例如激光二极管及发光二极管（LED））的各种电路。举例来说，美国第6,323,598号专利描述各自包括至少一个发光二极管的多个照射源，所述照射源由开关电路依据所施加输入电压而串联地或并联地连接。所述美国专利的公开内容以引用方式并入本文中。当在遍历所施加输入电压的运行范围的过程中所施加输入电压跨过阈值时，所述开关电路将照射源从串联连接切换到并联连接或反之亦然。因为照射源内的发光二极管在所界定转折点处被从串联连接切换到并联连接，所以电压-亮度特性在转折点的相反侧上改变。所得的整体电压-亮度特性跨所施加输入电压的整个运行范围具有较大亮度可变性，且亮度方差并不仅限于运行范围的一部分。

美国第7,356,058号专利描述一种自适应激光二极管驱动器，所述驱动器能够驱动各种激光二极管类型以及来自同一类型的不同激光二极管，同时确保在二极管的寿命内及在其温度改变时均具有最优光学性能。所述美国专利的公开内容以引用方式并入本文中。所述驱动器自适应地改变输入数据信号的电压电平，以在极端调制条件中实现全电流切换以及短上升时间及下降时间。这是通过不断地监测激光二极管的输出信号而执行。基于所监测信号，调整调制电流，且作为响应，设定输入数据信号的低电平及高电平。根据一个实施例，所述自适应激光二极管驱动器可被集成在无源光学网络（PON）的光学线路终端（OLT）或光学网络单元（ONU）中。

美国第7,899,098号专利描述一种用于发射器或收发器的激光二极管驱动器IC，所述驱动器IC具有用于监测所述发射器或收发器的一或多个激光二极管的正向电压的电路，以使得能够实时地评定所述一或多个激光二极管的工作状况。所述美国专利的公开内容以引用方式并入本文中。

发明内容

本发明的实施例提供一种设备，其包括用于检验物体的固态照射源、及电路。所述电路用以：执行初始校准过程，所述初始校准过程选择用于施加到所述固态照射源的固定电压供应电平；以及对所述固态照射源施加具有所述所选固定电压供应电平的电压脉冲的序列，由此使所述固态照射源产生固定强度照射脉冲的序列以用于检验所述物体。

在一些实施例中，所述电路包括电容器，且用以在所述电压脉冲中的每一个之前将所述电容器充电到所述所选固定电压供应电平，并通过经由所述固态照射源使所述经充电电容器放电而产生所述电压脉冲中的每一个。在其他实施例中，所述电路在所述照射脉冲的所述序列期间不重新校准所述固定电压供应电平。

在一些实施例中，所述固态照射源是其中所述电压供应电平与所发射光学强度之间的关系在个别照射源之中变化的类型的照射源，且所述电路用以通过执行所述初始校准过程来补偿所述关系的变化。在其他实施例中，所述固态照射源包括发光二极管及开关，且所述电路包括驱动器电路，所述驱动器电路用以对所述开关施加所述电压脉冲的所述序列以便使所述发光二极管产生所述照射脉冲。

在一些实施例中，所述电路用以测量从所述被检验物体反射的光的光学强度，并依据所述所测量光学强度而选择所述固定电压供应电平。在其他实施例中，所述电路包括用以获取所述被检验物体的图像的成像检测器及用以通过处理所述图像来测量所述光学强度的处理器。在一些实施例中，所述电路包括用以直接测量所述固态照射源的所述强度的成像检测器及用以通过处理所述图像来测量所述光学强度的处理器。在替代实施例中，所述电路用以对流过所述固态照射源的电流进行数字化，并依据所述经数字化电流而选择所述固定电压供应电平。

在一些实施例中，所述固态照射源包括一个或多个发光二极管。在其他实施例中，所述固态照射源包括一个或多个激光二极管。

在一些实施例中，所述电路用以选择所述电压供应电平及所述电压脉冲的相应持续时间两者。在其他实施例中，所述电路用以选择多个电压供应电平及多个相应类型的所述电压脉冲的持续时间。在又一些实施例中，所述电路用以选择使所述照射脉冲提供预定义照射强度的最短持续时间。

根据本发明的实施例，还提供一种方法，其包括使用于检验物体的固态照射源运行。执行初始校准过程，所述初始校准过程选择用于施加到所述固态照射源的固定电压供应电平。对所述固态照射源施加具有所述所选固定电压供应电平的电压脉冲的序列，由此使所述固态照射源产生固定强度照射脉冲的序列以用于检验所述物体。

根据本发明的实施例，还提供一种光学检验系统，其包括电路、成像检测器及固态照射源。所述固态照射源用以照射供检验的物体。所述成像检测器用以获取所述被照射物体的图像。所述电路用以：测量从所述被检验物体反射的光的光学强度；执行初始校准过程，所述初始校准过程依据所述所测量光学强度而选择施加到所述固态照射源的固定电压供应电平；以及对所述固态照射源施加具有所述所选固定电压供应电平的电压脉冲的序列以用于检验所述物体。

在一些实施例中，所述电路用以在具有已知反射率的物体的由所述成像检测器获取的至少一个图像中测量所述光学强度。在其他实施例中，所述电路用以在多个所述被检验物体的由所述成像检测器获取的图像中测量所述光学强度，并在所述多个所述物体内对所述所测量光学强度求平均。

附图说明

连同附图一起阅读以下对本发明实施例的详细说明，将更全面地理解本发明，在附图中：

图1a是框图，其示意性地例示根据本发明实施例用于控制脉冲式照射源的强度的系统；

图1b是显示其中光学装置被串联连接的脉冲式照射源的实例的示意图；

图1c是显示其中光学装置被并联连接的脉冲式照射源的实例的示意图；

图2是曲线图，其显示根据本发明实施例用于控制脉冲式照射源的强度的系统中的信号波形；以及

图3是流程图，其示意性地例示根据本发明实施例用于校准脉冲式照射源的方法。

主要元件标记说明

10：检验系统15：脉冲式固态照射源

20：照相机22：处理器

25：固态光学装置/光学二极管26：光学装置

30：电容器35：功率场效应晶体管开关

43：逻辑/定时控制电路45：可调式调节器

50：电源55：驱动器

64：滤波器68：模拟到数字转换器

110：脉冲120：标记

130：标记200～216：步骤

VHI：电压VLO：电压。

具体实施方式

概述

一些光学检验系统使用脉冲式光学照射源。在典型的检验系统中，将一系列将要检验的物体（例如，平板显示器或半导体晶片）放置在移动载台上并通过例如照相机等成像检测器对所述物体进行成像。所述物体相对于所述照相机移动，同时来自所述源的光脉冲以短脉冲间隔照射移动物体。检验系统分析所获取图像，例如，以检测制造缺陷。此种类的脉冲式成像有助于防止因物体移动而使所获取图像模糊。

在典型的检验系统中，维持对脉冲式照射源的照射强度的准确控制是重要的。一种控制照射强度的可能方式是对流过照射源的电流施加电流控制，因为在固态照射源中，所发射光学功率与电流成比例。然而，维持穿过源的固定电流通常涉及复杂且昂贵的高速电流反馈机制。

本文所述的本发明实施例提供用于照射强度控制的经改进方法及系统。所公开技术使用电压控制而非电流控制来维持恒定照射强度。虽然电压与照射强度之间的关系可在不同照射源间变化，但发明人已发现此关系在极长时间周期内保持稳定。与光学二极管装置相关联的特性电压（例如，导通拐点电压）可随着加热或随着制造变化而变化。然而，一旦电压及脉冲持续时间被首先校准，其便既在多个脉冲内又在长的脉冲序列内保持稳定。因此，这可能够避免在长的照射脉冲序列期间重新校准固定电压供应电平。

在本文所述的一些实施例中，照射源被连接到电路。在初始校准过程中，所述电路用以在评定光学输出处于使检验系统有效运行的适当功率电平之后选择将要施加到照射源的固定电压供应电平。

在实例性实施例中，所述电路使用检验系统的（已存在）照相机测量照射强度，并使用这些测量值来校准照射源电压电平。另外或替代地，所述电路可能在低通滤波之后对流过固态照射源的电流进行数字化，并基于经数字化电流而校准照射源电压电平。

通常，由于电压与照射强度之间的关系的长期稳定性，仅稀少地需要进行此种类的重新校准。在实例性实施方案中，在检验批次开始时执行电压校准。在校准之后，在不需要重新校准的情况下产生长的脉冲序列。长脉冲序列可用于检验多个物体。

与电流控制方案相比，所公开电压控制机制具有以下优点：实施更简单、使用更少印刷电路板面积、成本更少，且更不易于引起电磁干扰。

系统说明

图1a是框图，其示意性地例示根据本发明实施例用于控制脉冲式固态照射源（SSIS）15的强度的系统10。SSIS15包括耦合到功率场效应晶体管（FET）开关35的固态光学装置25，例如激光二极管（LD）或发光二极管（LED）。来自装置25的光学信号照射将要检验的物体（图中未显示），且被照射物体由成像检测器（例如，照相机20）成像。

在本实例中，系统10是用于在平板显示器中找出缺陷的检验系统的一部分。然而，替代地，所公开技术可用于任何其他适合应用中。

处理器22分析通过系统10进行缺陷识别的物体的且由照相机20获取的图像。在一些实施例中，如下文详细所述，处理器22测量从被成像物体反射的光强度，且此强度测量被用作对照射源强度进行的初始校准过程的一部分。在其他实施例中，系统10包括模拟到数字转换器（ADC）68，ADC68对流过SSIS15的电流进行取样及数字化。在图1的实例中，通过感测所述SSIS中的适合电阻器两端的电压来感测电流。滤波器64，通常为低通滤波器（LPF），对所感测电流进行滤波并将其提供到ADC68以进行数字化。如下文将描述，经数字化电流被反馈到处理器22且用于初始校准。

图1a的实例显示可用作用于对照射源强度进行初始校准的反馈输入的两种类型的传感器（照相机20及ADC68）。在各种实施方案中，可仅使用照相机、仅使用ADC或使用其两者来执行校准。

在一些实施例中，处理器22经由逻辑/定时控制电路43来控制照射脉冲。处理器22通常从照相机获取信息并实施下文所述的校准算法。逻辑/定时控制电路43包括从检验系统接收移动物体的位置信息的快速及实时电子器件，例如，控制器、现场可编程门阵列（FPGA）、数字信号处理器（DSP）装置。如稍后将进一步描述，逻辑/定时控制电路43还控制照相机触发及照射脉冲持续时间。

处理器22输出数字值，所述数字值经由逻辑/定时控制电路43发送到可调式调节器45。可调式调节器45的输出调节电源50的电压。此电压可给任选电容器30充电。

逻辑/定时控制电路43优选地经由驱动器55用以对FET35的栅极施加电压脉冲。所述电压脉冲对穿过光学装置25的电流进行双态导通及切断，这会产生脉冲式输出光学信号。当FET35在脉冲的开头开始传导时，电压经由光学装置25放电，从而使照射源产生照射脉冲。

FET35起电开关的作用。当所述开关断开（即，所述FET不允许电流从漏极传递到源极）且无电流流过光学二极管25时，由可调式调节器45设定的固定电压供应电平可给电容器30充电。当所述开关闭合（即，所述FET传导电流）时，电压放电且电流流过光学二极管25，从而产生光。

当FET35传导时，光学二极管25及FET35（例如，图1a中所示的光学照射源15）两端的电压的和是可调式调节器45的输出，可调式调节器45充当本文中所指代的电压控制源。在图1a中显示为FET35的电开关可由任何适合开关装置来实施且并不限于FET（例如，双极晶体管）。

对于在用于光学检验系统的脉冲式光学照射源15中所使用的典型光学二极管25，在脉冲介于从0.1μsec到1000μsec的范围内时，穿过二极管25的电流电平可介于从0.01A到20A的范围内。通常从用于检验系统的源15产生每秒10-5000个脉冲。

穿过光学二极管25的电流的脉冲间稳定性由若干个参数固定。举例来说，此类参数包括来自调节器输出的固定电压供应电平、光学二极管的电流-电压特性、FET35的栅极处的脉冲持续时间及在电流传导期间FET35两端的电压降。FET35两端的电压降主要取决于从FET35的漏极端子到源极端子的等效电阻。

发明人已发现，由源15产生的在脉冲持续时间内积分的照射功率在长时间周期内保持稳定。光学源脉冲间功率可在几周的周期内保持稳定。换句话说，对于既定电压输出及施加到开关35的电压脉冲的既定脉冲持续时间（本文中称作照射控制参数），具有极高脉冲间稳定性的电流流过光学二极管。

虽然电压及脉冲持续时间与照射强度之间的关系是稳定的，但实际关系可能在不同照射源间变化。因此，在一些实施例中，处理器22执行初始校准过程，此过程设定适当电压及脉冲持续时间。

在典型的校准过程中，处理器22通过以下操作而开始：设定低电压电平，且逐渐地增加电压供应电平直到从源15测量到用于使检验系统有效运行的预定义功率电平为止。在一些实施例中，使用照相机20来执行所述测量。在实施例中，所述系统包括多个照相机，且所述校准过程对于确保使所有多个照相机中的照射水平相同来说是重要的。另外或替代地，可使用滤波器64及ADC68来执行所述测量。

处理器22经由逻辑/定时控制电路43、使用可调式调节器45的“电压控制”输入（例如，所选固定电压供应电平）及驱动器55的“脉冲持续时间控制”输入在稳态系统10处施加所选驱动条件。接着，在一个或多个连续光学检验场次中使用这些参数直到出现脉冲式功率电平输出的漂移为止。接着，重新校准所述驱动条件。在其他实施例中，处理器22监测长时间间隔内的平均照射功率，并在检测到照射功率改变的情况下修改输出电压。

图1a所示系统10的配置是实例性配置，所述实例性配置仅是为使概念清晰起见而并非是以限制本发明实施例的方式描绘的。替代地，可使用任何适合元件配置来执行本文所述系统10的功能。实例性配置中的源15并不限于光学装置25及开关35，而是可包括电元件及/或光学元件的任何适合组合。用于校准及控制源15的照射强度的各种组件（包括处理器22、电路43、照相机20、可调式调节器45、驱动器55、滤波器64、ADC68及相关联组件）在本文中统称作电路。在替代实施例中，可使用任何其他适合电路配置。

在一些实施例中，图1a所示电路可用于同时驱动一个或多个光学照射源15，例如，被串联连接且设置在小印刷电路板（PCB）上的源。在其他实施例中，一个或多个源各自被以单独电路分别地进行驱动，所述一个或多个源中的每一个被以其相应稳态驱动条件来分别地校准。

系统10的元件的全部或任何部分可在印刷电路板或任何适合衬底上用单独元件以硬件形式来实施、或者可以一个或多个专用集成电路（ASIC）或现场可编程门阵列（FPGA）来实施。另外或替代地，系统10的一些元件可使用软件、或者硬件或软件的任何适合组合来实施。

在又一些实施例中，举例来说，可在系统10的任何部分中使用处理器22来执行或协调本文所述系统10的功能中的任一个，例如用于分析所获取图像。处理器22通常包括被以软件形式编程为执行本文所述功能的通用计算机。可例如经由网络以电子形式将软件下载到计算机，或者替代地或另外，可在非暂时性有形媒体（例如，磁性存储器、光学存储器或电子存储器）上提供及/或存储软件。

图1b显示其中照射固态源26被串联连接的固态照射源（SSIS）15的实例。可串联地连接数个照射源。在此实例中，穿过所有不同固态源的电流均相等。

图1c显示其中照射固态源26被并联连接的固态照射源（SSIS）15的实例。可并联地连接数个照射源。在此实例中，穿过所有不同固态源的电压均相等。

图2是曲线图，其示意性地例示根据本发明实施例用于控制脉冲式照射源15的强度的系统10中的信号波形。

此实例中显示了四个脉冲110。即，经由驱动器55施加到FET35（图1中的电开关）的栅极的脉冲串。所示的TTL电平是从VHI（开关断开）到VLO（开关闭合），其中VHI及VLO是任何适合的TTL电压。从标记120到标记130的脉冲宽度描述导通脉冲且可具有从0.1μSec到1mSec及更高的典型值。脉冲之间的时间间隔可取决于脉冲持续时间而变动，且提供如图2所示的脉冲工作循环。

检验系统校准方案

图3是流程图，其示意性地例示根据本发明实施例用于校准系统10中的脉冲式照射源15的方法。以下说明以遇到新类型的供检验的物体开始，这需要设定新的检验方案（且具体来说是新的脉冲电压电平）。

在典型的实施例中，检验过程涉及检验多种类型的物体（且因此涉及多个方案）。在此种情况中，对每一物体类型重复图3的方法。所述物体可包括正被检验的实际样本（例如，平板显示器、印刷电路板、晶片）中的区域、或者具有已知反射率的目标。

所述方法以系统10（通常为处理器22或控制电路43）在电压调整步骤200处将电压脉冲电平设定到某一初始值而开始。通过控制可调式调节器45来设定所述电压电平。

接着，在测量步骤208处，系统10测量从物体反射的脉冲的照射强度。如上所述，可通过使用照相机20获取一个或多个图像并由处理器22处理所述图像以便估计照射强度来执行强度测量。另外或替代地，可通过使用ADC68对流过ISIS15的电流进行数字化并将经数字化电流反馈到处理器22来执行所述测量。

接着，在检查步骤212处，系统检查目前的照射强度是否充足。如果不充足，则方法循环回到以上步骤200，在此步骤中，系统按需要调整脉冲电压电平（即，如果所测量强度过低，则增加脉冲电压电平，且反之亦然）。

如果所测量照射强度适合，则系统继续进行到在检验步骤216处检验所讨论类型的物体。通常，在检验阶段期间，系统不时地重新评估照射强度（例如，通过分支到步骤208）。如果有必要，则系统调整脉冲电压电平以维持适合照射强度。

在一些实施例中，检验系统10中的电路可用以校准并使用两个或两个以上照射强度（即，两个或两个以上脉冲长度与电压对）。举例来说，系统10可在同一扫描中对被检验物体上数个不同类型的区域进行成像，使得每一类型的区域是使用不同照射强度（不同脉冲长度/电压对）被成像。

在一些实施例中，系统10的电路控制电压及脉冲持续时间两者。此种双重控制使得能够设定各种性能折衷。

在使用照相机20的输出作为照射强度指示的实施例中，处理器22可以各种方式来确定照射强度。在一些实施例中，系统10可在校准过程期间对具有已知反射率的专用被检验物体（“目标”）进行成像。替代地，可对将要检验的实际物体执行校准。替代地，如图1a中所见，照相机可直视照射源的输出、或照射源的输出的一部分（例如，经由局部分束器）。

虽然本文中所述的实施例主要论及光学检验系统中的脉冲式照射控制，但本文所述的方法及系统也可用于其中使用脉冲式照射源的其他应用中，例如用于激光材料处理中。

因此，将了解，上文所述的实施例仅是以举例方式引述，且本发明并不限于上文中已具体显示及描述的内容。而是，本发明的范围包括上文中所述各种特征的组合及子组合两者、以及所属领域的技术人员在阅读上述说明后将会联想到且在现有技术中未公开的变化形式及修改形式。以引用方式并入本专利申请中的文件应被视为本申请的整体部分，只不过在任何术语在这些所并入文件中是以与本说明书中所明确或暗含地做出的定义相冲突的方式被定义时，应仅考虑本说明书中的定义。

Claims (30)

1.一种照射强度控制设备，其特征在于，包括：

固态照射源，用于检验物体；以及

电路，用以：执行初始校准过程，所述初始校准过程选择用于施加到所述固态照射源的固定电压供应电平；以及对所述固态照射源施加具有所述所选固定电压供应电平的电压脉冲的序列，由此使所述固态照射源产生固定强度照射脉冲的序列以用于检验所述物体。

2.如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述电路包括电容器，且用以在所述电压脉冲中的每一个之前将所述电容器充电到所述所选固定电压供应电平，并通过经由所述固态照射源使所述经充电电容器放电而产生所述电压脉冲中的每一个。

3.如权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述电路在所述照射脉冲的所述序列期间不重新校准所述固定电压供应电平。

4.如权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述固态照射源是其中所述电压供应电平与所发射光学强度之间的关系在个别照射源之中变化的类型的照射源，且其中所述电路用以通过执行所述初始校准过程来补偿所述关系的变化。

5.如权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述固态照射源包括发光二极管及开关，且所述电路包括驱动器电路，所述驱动器电路用以对所述开关施加所述电压脉冲的所述序列以便使所述发光二极管产生所述照射脉冲。

6.如权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述电路用以测量从所述被检验物体反射的光的光学强度，并依据所述所测量光学强度而选择所述固定电压供应电平。

7.如权利要求6所述的设备，其特征在于，所述电路包括用以获取所述被检验物体的图像的成像检测器及用以通过处理所述图像来测量所述光学强度的处理器。

8.如权利要求6所述的设备，其特征在于，所述电路包括用以直接测量所述固态照射源的所述强度的成像检测器及用以通过处理所述图像来测量所述光学强度的处理器。

9.如权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述电路用以对流过所述固态照射源的电流进行数字化，并依据所述经数字化电流而选择所述固定电压供应电平。

10.如权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述固态照射源包括一个或多个发光二极管。

11.如权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述固态照射源包括一个或多个激光二极管。

12.如权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述电路用以选择所述电压供应电平及所述电压脉冲的相应持续时间两者。

13.如权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述电路用以选择多个电压供应电平及多个相应类型的所述电压脉冲的持续时间。

14.如权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述电路用以选择使所述照射脉冲提供预定义照射强度的最短持续时间。

15.一种照射强度控制方法，其特征在于，包括：

运行使用于检验物体的固态照射源；

执行初始校准过程，所述初始校准过程选择用于施加到所述固态照射源的固定电压供应电平；以及

对所述固态照射源施加具有所述所选固定电压供应电平的电压脉冲的序列，由此使所述固态照射源产生固定强度照射脉冲的序列以用于检验所述物体。

16.如权利要求15所述的方法，其特征在于，施加所述电压脉冲的所述序列的步骤包括在所述电压脉冲中的每一个之前将电容器充电到所述所选固定电压供应电平，并通过经由所述固态照射源使所述经充电电容器放电而产生所述电压脉冲中的每一个。

17.如权利要求15或16所述的方法，其特征在于，包括在所述照射脉冲的所述序列期间避免重新校准所述固定电压供应电平。

18.如权利要求15或16所述的方法，其特征在于，所述固态照射源是其中所述电压供应电平与所发射光学强度之间的关系在个别照射源之中变化的类型的照射源，且其中执行所述初始校准过程的步骤包括补偿所述关系的变化。

19.如权利要求15或16所述的方法，其特征在于，所述固态照射源包括发光二极管及开关，且施加所述电压脉冲的所述序列的步骤包括对所述开关施加所述电压脉冲的所述序列以便使所述发光二极管产生所述照射脉冲。

20.如权利要求15或16所述的方法，其特征在于，执行所述初始校准过程的步骤包括测量从所述被检验物体反射的光的光学强度，并依据所述所测量光学强度而选择所述固定电压供应电平。

21.如权利要求20所述的方法，其特征在于，测量所述光学强度的步骤包括处理由对所述被检验物体进行成像的成像检测器获取的图像。

22.如权利要求15或16所述的方法，其特征在于，执行所述初始校准过程的步骤包括对流过所述固态照射源的电流进行数字化，并依据所述经数字化电流而选择所述固定电压供应电平。

23.如权利要求15或16所述的方法，其特征在于，所述固态照射源包括一个或多个发光二极管。

24.如权利要求15或16所述的方法，其特征在于，所述固态照射源包括一个或多个激光二极管。

25.如权利要求15或16所述的方法，其特征在于，执行所述初始校准过程的步骤包括选择所述电压供应电平及所述电压脉冲的相应持续时间两者。

26.如权利要求15或16所述的方法，其特征在于，执行所述初始校准过程的步骤包括选择多个电压供应电平及多个相应类型的所述电压脉冲的持续时间。

27.如权利要求15或16所述的方法，其特征在于，执行所述初始校准过程的步骤包括选择使所述照射脉冲提供预定义照射强度的最短持续时间。

28.一种光学检验系统，其特征在于，包括：

固态照射源，用以照射供检验的物体；

成像检测器，用以获取所述被照射物体的图像；以及

电路，用以：测量从所述被检验物体反射的光的光学强度；执行初始校准过程，所述初始校准过程依据所述所测量光学强度而选择施加到所述固态照射源的固定电压供应电平；以及对所述固态照射源施加具有所述所选固定电压供应电平的电压脉冲的序列以用于检验所述物体。

29.如权利要求28所述的光学检验系统，其特征在于，所述电路用以在具有已知反射率的物体的由所述成像检测器获取的至少一个图像中测量所述光学强度。

30.如权利要求28所述的光学检验系统，其特征在于，所述电路用以在多个所述被检验物体的由所述成像检测器获取的图像中测量所述光学强度，并在所述多个所述物体内对所述所测量光学强度求平均。