CN105462544A - 一种去苯稀释剂 - Google Patents

Abstract

一种去苯稀释剂。本发明包括：甲苯：20-35%、四氢呋喃：15-30%、对苯二酚：15-28%、甲乙酮：10-15%，余量为不可避免的杂质。本发明的优点：本发明的使用效果好。

Description

一种去苯稀释剂

技术领域：本发明属于材料技术领域，特别涉及一种去苯稀释剂。

背景技术：

目前，现有的稀释剂，杂质比较多，使用效果不好，功能性差。

发明内容：

为了解决现有技术的不足，本发明提供一种去苯稀释剂。

本发明包括：甲苯：20-35%、四氢呋喃：15-30%、,对苯二酚：15-28%、甲乙酮：10-15%，余量为不可避免的杂质。

本发明的优点：本发明的使用效果好。

具体实施方式

实施例1

本发明包括：甲苯：20%、四氢呋喃：30%、,对苯二酚：28%、甲乙酮：15%，余量为不可避免的杂质。

实施例2

本发明包括：甲苯：35%、四氢呋喃：15%、,对苯二酚：15%、甲乙酮：10%，余量为不可避免的杂质。

实施例3

本发明包括：甲苯：25%、四氢呋喃：20%、,对苯二酚：20%、甲乙酮：7%，余量为不可避免的杂质。

Claims (1)

1.一种去苯稀释剂，其特征在于：本发明包括：甲苯：20-35%、四氢呋喃：15-30%、,对苯二酚：15-28%、甲乙酮：10-15%，余量为不可避免的杂质。