CN105204225A - 一种显示面板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种显示面板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，为解决因由透射区和反射区分别射出的光的亮度不一致而导致显示装置的显示效果较差的问题。所述显示面板包括呈阵列分布的多个子像素单元，每个子像素单元包括反射区和透射区，透射区内设置有电致变色层。通过调节加载在电致变色层上的电压值，以调节电致变色层的光学属性，进而调节透射区内背光的透过率，使背光透过透射区后形成的光的亮度与外界光在反射区发生反射后再透射出的光的亮度相同，进而改善显示装置的显示效果。本发明提供的显示面板应用于显示装置中。

Description

一种显示面板及其制作方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制作方法、显示装置。

背景技术

目前，目前，依据显示装置所利用的光源类型(背光源、外界光)的不同，显示装置可分为透射式、反射式和半透半反式三种。其中，半透半反式显示装置在显示画面时，既可以利用背光源提供的背光，又可以利用外界光，兼具透射式显示装置画面可见度好和反射式显示装置能耗低的优点，能够满足外界光充足(如：室外)和外界光不足(如：室内)等情况下的使用需求。因此，半透半反式显示装置得到了广泛的关注和应用。

现有的半透半反式显示装置所使用的显示面板包括呈阵列分布的多个子像素单元，每个子像素单元包括反射区和透射区。在透射区，背光源发出的背光直接透过透射区，仅经过液晶层一次，经过彩膜层一次，在反射区，外界光在入射和反射的过程中，需要经过液晶层两次，经过彩膜层两次，背光在透射区的透过时的光损与外界光在反射区反射时的光损不一致，引起由透射区与反射区分别射出的光的亮度不一致，导致显示装置的显示效果较差。

发明内容

本发明的目的在于提供一种显示面板及其制作方法、显示装置，用于解决因由透射区和反射区分别射出的光的亮度不一致而导致显示装置的显示效果较差的技术问题。

为了实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一方面，本发明提供一种显示面板，包括呈阵列分布的多个子像素单元，每个所述子像素单元包括反射区和透射区，所述透射区内设置有电致变色层。

另一方面，本发明提供一种显示装置，所述显示装置设置有如上述技术方案所述的显示面板。

再一方面，本发明提供一种显示面板的制作方法，用于制作如上述技术方案所述的显示面板，所述显示面板的制作方法包括：

在所述显示面板的透射区内形成电致变色层。

在本发明提供的显示面板中，由于在透射区内设置有电致变色层，当使用设置有本发明提供的显示面板的显示装置时，通过调节加载在电致变色层上的电压值，以调节电致变色层的光学属性，进而调节透射区内背光的透过率，使背光透过透射区后形成的光的亮度与外界光在反射区发生反射后再透射出的光的亮度相同，进而改善显示装置的显示效果。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；

图3为本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的再一种显示面板的结构示意图；

图5为本发明实施例的显示面板的亮度曲线图；

图6为图1～图4中电致变色层的结构示意图；

图7为本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法的流程图；

图8为本发明实施例提供的另一种显示面板的制作方法的流程图；

图9为本发明实施例提供的又一种显示面板的制作方法的流程图；

图10为本发明实施例提供的再一种显示面板的制作方法的流程图。

附图标记：

10-第一基板，20-第二基板，

30-电致变色层，11-反射区，

12-透射区，13-薄膜晶体管，

14-钝化层，15-电极绝缘层，

16-像素电极层，17-反射层，

21-黑矩阵，22-彩膜层，

23-保护层，24-公共电极层，

25-隔垫物，31-导电膜，

32-电致变色膜，33-离子导体膜，

34-离子贮存膜。

具体实施方式

为了进一步说明本发明实施例提供的一种显示面板及其制作方法、显示装置，下面结合说明书附图进行详细描述。

请参阅图1，本发明实施例提供的显示面板包括呈阵列分布的多个子像素单元，每个子像素单元包括反射区11和透射区12，透射区12内设置有电致变色层30。

具体实施时，请参阅图1至图4，本发明实施例提供的显示面板包括相对设置的第一基板10和第二基板20，第一基板10与第二基板20之间具有隔垫物26，用于维持第一基板10与第二基板20之间的盒厚；第一基板10包括阵列分布的多个子像素单元，每个子像素单元对应设置有一个薄膜晶体管13，薄膜晶体管13用于控制对应的子像素单元的工作状态，即使对应的子像素单元发光或者使对应的子像素单元不发光，第一基板10朝向第二基板20的侧面上还设置有图形化的钝化层14和像素电极层16；每个子像素单元包括反射区11和透射区12，第一基板10的上方与反射区11对应的区域覆盖有反射层17，反射层17位于薄膜晶体管13上；第二基板20朝向第一基板10的侧面上依次叠加设置有图形化的黑矩阵21、彩膜层22、保护层23和公共电极层24，通过调节公共电极层24与像素电极层16之间的电压值，以使填充在第一基板10与第二基板20之间的液晶层发生偏转，实现显示装置的不同颜色的显示。在透射区12内还设置有电致变色层30，电致变色层30接通有为电致变色层30加载电压值的外部驱动电路。

当使用设置有本发明实施例提供的显示面板的显示装置时，外界光依次经过第二基板20、彩膜层22以及液晶层入射至反射区11内的反射层17，并在反射区11内的反射层17上发生反射，形成反射光，反射光透过液晶层、彩膜层22以及第二基板20，并从第二基板20射出；背光源提供的背光透过第一基板10、液晶层、彩膜层22、电致变色层30以及第二基板20后射出，通过调节加载在电致变色层30上的电压值，以调节电致变色层30的光学属性，进而调节透射区12内背光的透过率，使透射区12内背光透过透射区12后形成的光的强度与外界光在反射区11内发生反射后透射出的光的强度相匹配，实现对显示装置的显示效果的改善。如图5所示，实线代表由反射区11射出的光的强度曲线，虚线代表由透射区12射出的光的强度曲线，可以看出，在本发明实施例提供的显示面板中，由反射区11射出的光的强度曲线与由透射区12射出的光的强度曲线几乎重合，即表示在同一电压下驱动时，由反射区11射出的光的强度与由透射区12射出的光的强度几近相同。

由上述可知，在本发明实施例提供的显示面板中，由于在透射区12内设置有电致变色层30，当使用时，通过调节加载在电致变色层30上的电压值，以调节电致变色层30的光学属性，进而调节透射区12内背光的透过率，使背光透过透射区12后形成的光的亮度与外界光在反射区11发生反射后再透射出的光的亮度相同，进而改善显示装置的显示效果。

上述实施例中，电致变色层30设置在透射区12内，在实际应用中，电致变色层30可以设置在第一基板10与透射区12对应的区域内，也可以设置在第二基板20与透射区12对应的区域内。在本发明实施例中，示例性列举了以下几种方式：

方式一，请参阅图1，显示面板包括相对设置的第一基板10和第二基板20，第一基板10朝向第二基板20的侧面上依次叠加设置有图形化的薄膜晶体管13、钝化层14和像素电极层16，电致变色层30位于钝化层14与像素电极层16之间，电致变色层30与像素电极层16之间设置有电极绝缘层15，电致变色层30分别与钝化层14和电极绝缘层15接触。

由于第一基板10与反射区11对应的区域内设置有反射层17，第一基板10上与反射区11对应的区域内的功能层的厚度比第一基板10上与透射区12对应的区域没的功能层的厚度大，因而将电致变色层30设置在第一基板10与透射区12对应的区域内，可以对第一基板10上与透射区12对应的区域内的功能层的厚度，使第一基板10上与反射区11对应的区域内的功能层的厚度和第一基板10上与透射区12对应的区域没的功能层的厚度相匹配，从而进一步改善显示装置的显示效果。另外，在电致变色层30与像素电极层16之间设置电极绝缘层15，可以使电致变色层30与像素电极层16之间绝缘，防止电致变色层30上的电子移动对像素电极层16产生干扰，从而可以改善显示装置的显示效果。

值得一提的是，在方式一中，电致变色层30设置在第一基板10与透射区12对应的区域内，且电致变色层30位于钝化层14与像素电极层16之间，电致变色层30与像素电极层16之间设置有电极绝缘层15，在实际应用中，电致变色层30的设置位置包括但不限于上述方式一列举的设置位置，还可以设置在第一基板10与栅极绝缘层之间，或者栅极绝缘层与钝化层14之间。当电致变色层30与能够导电的功能层例如栅极层、有源层、源漏极层等的形成顺序相邻时，电致变色层30与能够导电的功能层之间应设置绝缘层。

方式二，请参阅图2，显示面板包括相对设置的第一基板10和第二基板20，电致变色层30位于第二基板20背离第一基板10的侧面上。具体实施时，如图2，第一基板10位于第二基板20的下方，电致变色层30位于第二基板20在图2中的上表面上，且电致变色层30位于第二基板20与透射区12对应的区域内。

方式三，请参阅图3，显示面板包括相对设置的第一基板10和第二基板20，第二基板20朝向第一基板10的侧面上依次叠加设置有图形化的黑矩阵21、彩膜层22、保护层23和公共电极层24，电致变色层30位于第二基板20与彩膜层22之间，且电致变色层30分别与第二基板20与彩膜层22接触。

方式四，请参阅图4，显示面板包括相对设置的第一基板10和第二基板20，第二基板20朝向第一基板10的侧面上依次叠加设置有图形化的黑矩阵21、彩膜层22、保护层23和公共电极层24，电致变色层30位于彩膜层22与保护层23之间，电致变色层30分别与彩膜层22和保护层23接触。

在上述实施例中，电致变色层30的设置方式均以在TN型显示面板中的设置方式为例进行具体说明，但本发明实施例并不只是适用于TN型显示面板，也适用于ADS型显示面板、IPS型显示面板等。

请参阅图5，电致变色层30包括层叠设置的电致变色膜32、离子导体膜33、离子贮存膜34和两个导电膜31，离子导体膜33位于电致变色膜32与离子贮存膜34之间，且电致变色膜32、离子导体膜33和离子贮存膜34位于两个导电膜31之间，其中，两个导电膜31分别与驱动电路连接，使用时，与离子贮存膜34贴合的导电膜31的电压比与电致变色膜32贴合的导电膜31的电压高。当在电致变色层30上加载一定电压后，由于与离子贮存膜34贴合的导电膜31的电压比与电致变色膜32贴合的导电膜31的电压高，即图5中位于下方的导电膜31连接驱动电路的正极，图5中位于上方的导电膜31连接驱动电路的负极，则电子由图5中上方的导电膜31传递至图5中下方的导电膜31，通过调节加载在电致变色层30上的电压值，以调节两个导电膜31之间的电压值，改变两个导电膜31之间电子传递的数量和速度，进而改变电致变色膜32的光学属性，从而调节透过电致变色层30的背光的透过率。导电膜31可以为铟锡氧化物导电膜(ITO导电膜)，电致变色膜32可以为氧化钨电致变色膜(WO_x电致变色膜)或者有机电致变色膜，离子导体膜33可以为高氯酸锂离子导体膜或者高氯酸钠离子导体膜，离子贮存膜34可以为氧化钒离子贮存膜(V₂O₅离子贮存膜)或氧化铱离子贮存膜(IrO₂离子贮存膜)。

值得一提的是，在透射区12内形成电致变色层30时，可以是直接将具有两个导电膜31、电致变色膜32、离子导体膜33和离子贮存膜34的结构的电致变色层30设置在透射区12内，也可以是按照顺序将电致变色层30的每一层膜形成在透射区12内，以构成具有两个导电膜31、电致变色膜32、离子导体膜33和离子贮存膜34的结构的电致变色层30。

本发明实施例还提供一种显示装置，所述显示装置设置有如上述实施例提供的显示面板。所述显示装置与上述显示面板相对于现有技术所具有的优势相同，在此不再赘述。

本发明实施例还提供一种显示面板的制作方法，用于制作上述实施例提供的显示面板，所述显示面板的制作方法包括：

在显示面板的透射区内形成电致变色层。

本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，各个实施例之间相同或相似的部分互相参见即可，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处。尤其，对于方法实施例而言，由于其基本相似于产品实施例，所以描述得比较简单，相关之处参见产品实施例的部分说明即可。

请参阅图6，显示面板包括相对设置的第一基板和第二基板，所述显示面板的制作方法包括：

步骤101、提供第一基板和第二基板；

步骤102、在第一基板朝向第二基板的侧面上依次叠加形成图形化的薄膜晶体管和钝化层；

步骤103、在钝化层上与透射区对应的区域内形成电致变色层；

步骤104、在电致变色层上依次叠加形成图形化的电极绝缘层和像素电极层。

请参阅图7，显示面板包括相对设置的第一基板和第二基板，所述显示面板的制作方法包括：

步骤201、提供第一基板和第二基板；

步骤202、在第二基板背离第一基板的侧面上、与透射区对应的区域内形成电致变色层。

请参阅图8，显示面板包括相对设置的第一基板和第二基板，所述显示面板的制作方法包括：

步骤301、提供第一基板和第二基板；

步骤302、在第二基板朝向第一基板的侧面上、与透射区对应的区域内形成电致变色层；

步骤303、在电致变色层上依次叠加形成图形化的黑矩阵、彩膜层、保护层和公共电极层。

值得一提的是，电致变色层设置在第二基板朝向第一基板的侧面上，且电致变色层分别与第二基板和彩膜层接触时，电致变色层和黑矩阵的形成顺序可以根据需要选择，可以先形成图形化的电致变色层，然后形成图形化的黑矩阵，也可以是先形成图形化的黑矩阵，然后形成电致变色层。

请参阅图9，显示面板包括相对设置的第一基板和第二基板，所述显示面板的制作方法包括：

步骤401、提供第一基板和第二基板；

步骤402、在第二基板朝向第一基板的侧面上依次叠加形成图形化的黑矩阵和彩膜层；

步骤403、在彩膜层上与透射区对应的区域内形成电致变色层；

步骤404、在电致变色层上依次叠加形成图形化的保护层和公共电极层。

在上述实施方式的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (12)

1.一种显示面板，包括呈阵列分布的多个子像素单元，每个所述子像素单元包括反射区和透射区，其特征在于，所述透射区内设置有电致变色层。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括相对设置的第一基板和第二基板，所述第一基板朝向所述第二基板的侧面上依次叠加设置有图形化的薄膜晶体管、钝化层和像素电极层，所述电致变色层位于所述钝化层与所述像素电极层之间，所述电致变色层与所述像素电极层之间设置有电极绝缘层，所述电致变色层分别与所述钝化层和所述电极绝缘层接触。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括相对设置的第一基板和第二基板，所述电致变色层位于所述第二基板背离所述第一基板的侧面上。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括相对设置的第一基板和第二基板，所述第二基板朝向所述第一基板的侧面上依次叠加设置有图形化的黑矩阵、彩膜层、保护层和公共电极层，所述电致变色层位于所述第二基板与所述彩膜层之间，且所述电致变色层分别与所述第二基板与所述彩膜层接触。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括相对设置的第一基板和第二基板，所述第二基板朝向所述第一基板的侧面上依次叠加设置有图形化的黑矩阵、彩膜层、保护层和公共电极层，所述电致变色层位于所述彩膜层与所述保护层之间，且所述电致变色层分别与所述彩膜层和所述保护层接触。

6.根据权利要求1-5任一所述的显示面板，其特征在于，所述电致变色层包括层叠设置的电致变色膜、离子导体膜、离子贮存膜和两个导电膜，所述离子导体膜位于所述电致变色膜与所述离子贮存膜之间，且所述电致变色膜、所述离子导体膜和所述离子贮存膜位于两个所述导电膜之间，其中，两个所述导电膜分别与驱动电路连接，当使用，与所述离子贮存膜贴合的所述导电膜的电压比与所述电致变色膜贴合的所述导电膜的电压高。

7.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置设置有如权利要求1-6任一所述的显示面板。

8.一种显示面板的制作方法，用于制作如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板的制作方法包括：

在所述显示面板的透射区内形成电致变色层。

9.根据权利要求8所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述显示面板包括相对设置的第一基板和第二基板，所述显示面板的制作方法包括：

提供所述第一基板和所述第二基板；

在所述第一基板朝向所述第二基板的侧面上依次叠加形成图形化的薄膜晶体管和钝化层；

在所述钝化层上与所述透射区对应的区域内形成所述电致变色层；

在所述电致变色层上依次叠加形成图形化的所述电极绝缘层和像素电极层。

10.根据权利要求8所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述显示面板包括相对设置的第一基板和第二基板，所述显示面板的制作方法包括：

提供所述第一基板和所述第二基板；

在所述第二基板背离所述第一基板的侧面上、与所述透射区对应的区域内形成所述电致变色层。

11.根据权利要求8所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述显示面板包括相对设置的第一基板和第二基板，所述显示面板的制作方法包括：

提供所述第一基板和所述第二基板；

在所述第二基板朝向所述第一基板的侧面上、与所述透射区对应的区域内形成所述电致变色层；

在所述电致变色层上依次叠加形成图形化的黑矩阵、所述彩膜层、保护层和公共电极层。

12.根据权利要求8所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述显示面板包括相对设置的第一基板和第二基板，所述显示面板的制作方法包括：

提供所述第一基板和所述第二基板；

在所述第二基板朝向所述第一基板的侧面上依次叠加形成图形化的黑矩阵和彩膜层；

在所述彩膜层上与所述透射区对应的区域内形成所述电致变色层；

在所述电致变色层上依次叠加形成图形化的所述保护层和公共电极层。