CN105158946A - 一种液晶显示模组及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种液晶显示模组,包括阵列基板、柔性电路板和驱动电路,所述柔性电路板与所述驱动电路电性连接,用于将数据和信号传输到所述驱动电路,所述阵列基板包括玻璃基板和抗干扰电路,所述驱动电路位于所述玻璃基板上,所述抗干扰电路直接形成于所述玻璃基板上,且所述抗干扰电路电性连接于所述柔性电路板和所述驱动电路之间,用于对所述数据和所述信号进行去耦和滤波处理。该液晶显示模组可以减小柔性电路板的面积及厚度,有利于液晶显示模组自身的轻薄化设计要求。本发明还提供一种液晶显示模组的制备方法。
Description
技术领域
本发明涉及液晶显示领域,尤其涉及一种液晶显示模组及一种液晶显示模组的制备方法。
背景技术
液晶显示模组是液晶显示电子产品的重要组成部分,请参阅图1,图1是现有技术中液晶显示模组的结构示意图。如图1所示,液晶显示模组通常包括液晶面板10′、驱动电路20′和柔性电路板30′,所述柔性电路板30′是主板(图未示)与所述液晶面板10′之间的数据及信号的传输桥梁,其将来自主板的数据和信号传输到所述驱动电路20′,进而传输给所述液晶面板10′。为了使所传输的数据和信号不受干扰,所述柔性电路板30′上往往设置有稳压、去耦及滤波等抗干扰电路40′,而稳压、去耦及滤波等抗干扰电路40′通常包含许多电容器,在布置该电容器时,液晶显示模组生产商通常先委托印制电路板生产商将线路印制于柔性电路板30′上,再根据所需的电容量购买所对应的电容器,并将电容器邦定到该柔性电路板30′上对应的线路位置。
然而,随着人们对产品性能的要求越来越高,将稳压、去耦及滤波等抗干扰电路尤其是其中的电容器布置到柔性电路板上的难度也随之增大。此外,多个电容器布置到该柔性电路板上会占用大量的面积,使得该柔性电路板增大,尤其是电容器本身的高度和厚度,不但会增加该液晶显示器厚度,导致该液晶显示模组难以满足轻薄化的要求,而且当该液晶显示模组组装到手机或其它使用液晶显示模组的电子产品时也需要较多的空间,进而使手机或其它使用液晶显示模组的电子产品难以实现轻薄化的设计要求
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于,提供一种液晶显示模组,其通过减小柔性电路板的面积以及降低电容器的高度及厚度,从而使液晶显示模组自身整体上更符合轻薄化的设计要求。
本发明还提供一种液晶显示模组的制备方法。
为了解决上述技术问题,一方面,本发明提供一种液晶显示模组,包括:包括阵列基板、柔性电路板和驱动电路,所述柔性电路板与所述驱动电路电性连接,用于将数据和信号传输到所述驱动电路,所述阵列基板包括玻璃基板和抗干扰电路,所述驱动电路位于所述玻璃基板上,所述抗干扰电路直接形成于所述玻璃基板上,且所述抗干扰电路电性连接于所述柔性电路板和所述驱动电路之间,用于对所述数据和所述信号进行去耦和滤波处理。
其中,所述抗干扰电路包括线路和平行板电容器,所述线路将所述平行板电容器连接到所述柔性电路板和所述驱动电路,所述线路和所述平行板电容器直接形成于所述玻璃基板上。
其中,所述平行板电容器包括第一极板、第二极板以及所述第一极板和所述第二极板之间的介质层,所述第一极板和所述第二极板的正对面积及所述介质层的厚度根据所需的电容大小及公式C=εS/(4πkd)确定,其中,ε是所述介质层的介电常数,S为所述第一极板和所述第二极板的正对面积,d为所述介质层的厚度,k则是静电力常量。
其中,所述阵列基板还包括薄膜晶体管,所述玻璃基板包括显示区域及与所述显示区域邻接的非显示区域,所述平行板电容器直接形成于所述玻璃基板的所述非显示区域,所述薄膜晶体管设置于所述玻璃基板的所述显示区域,所述薄膜晶体管具有栅极和栅极绝缘层,所述第一极板和所述第二极板的材质与所述薄膜晶体管的所述栅极的材质相同,所述介质层的材质与所述栅极绝缘层的材质相同。
其中,所述第一极板、所述第二极板的材质为金属铝、钼、银、铜、铬和氧化铟锡中的至少一种,所述介质层的材质为聚乙酰亚胺、环氧树脂、硅的氧化物、硅的氮化物以及硅的氮氧化物中的至少一种。
另一方面,本发明还提供一种液晶显示模组的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
(a)提供一玻璃基板;
(b)在所述玻璃基板上沉积第一导电层,经过贴膜、曝光、显影、蚀刻和剥膜,得到抗干扰电路的一部分线路、平行板电容器的第一极板,以及薄膜晶体管的栅极;
(c)在所述线路、所述第一极板及所述栅极上沉积一层连续的介质层,作为所述平行板电容器的介质层,同时作为栅极绝缘层;
(d)在所述栅极绝缘层上沉积第二导电层,经过贴膜、曝光、显影、蚀刻和剥膜,得到所述抗干扰电路的另一部分线路和所述平行板电容器的第二极板;
(e)将驱动电路封装到一阵列基板上,并将柔性电路板与所述驱动电路电性连接。
其中,所述第一导电层和所述第二导电层的材质为金属铝、钼、银、铜、铬和氧化铟锡中的至少一种。
其中,所述介质层的材质为聚乙酰亚胺、环氧树脂、硅的氧化物、硅的氮化物以及硅的氮氧化物中的至少一种。
其中,所述玻璃基板包括显示区域及与所述显示区域邻接的非显示区域,所述平行板电容器直接形成于所述玻璃基板的所述非显示区域,所述薄膜晶体管设置于所述玻璃基板的所述显示区域,所述第一极板和所述第二极板的材质与所述薄膜晶体管的所述栅极的材质相同,所述介质层的材质与所述栅极绝缘层的材质相同。
其中,所述第一极板和所述第二极板的正对面积及所述介质层的厚度根据所需的电容大小及公式C=εS/(4πkd)确定,其中,ε是所述介质层的介电常数,S为所述第一极板和所述第二极板的正对面积,d为所述介质层的厚度,k则是静电力常量。
与现有技术相比,本发明具有如下有益效果:(1)本发明将抗干扰电路设置于玻璃基板上,尤其将该抗干扰电路的电容器设置为平行板电容器,而且将该平行板电容器设置为直接形成于阵列基板的玻璃基板上,而并非设置于柔性电路板上,从而减小了柔性电路板的面积和厚度,有利于实现液晶显示模组的轻薄化设计要求;(2)本发明由于将抗干扰电路与阵列基板的薄膜晶体管同时形成,因而相较于现有技术无需增加另外的工序,同时省去了购买电容器器件及将其邦定到柔性电路板上等工序,节省物料及人力。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是现有技术中液晶显示模组的结构示意图;
图2是本发明第一实施例中液晶显示模组的结构示意图;
图3是本发明第一实施例中液晶显示模组的阵列基板的层叠结构示意图;
图4是本发明第二实施例中液晶显示模组的阵列基板的层叠结构示意图;
图5是本发明实施例中液晶显示模组的制备方法的流程图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚地描述。显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
此外,以下各实施例的说明是参考附加的图示,用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明中所提到的方向用语,例如,“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“内”、“外”、“侧面”等,仅是参考附加图式的方向,因此,使用的方向用语是为了更好、更清楚地说明及理解本发明,而不是指示或暗指所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
在本发明的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸地连接,或者一体地连接;可以是机械连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
此外,在本发明的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。若本说明书中出现“工序”的用语,其不仅是指独立的工序,在与其它工序无法明确区别时,只要能实现该工序所预期的作用则也包括在本用语中。另外,本说明书中用“ˉ”表示的数值范围是指将“ˉ”前后记载的数值分别作为最小值及最大值包括在内的范围。在附图中,结构相似或相同的单元用相同的标号表示。
请参阅图2,图2是本发明第一实施例中液晶显示模组的结构示意图。所述液晶显示模组包括阵列基板100、柔性电路板(FlexiblePrintedCircuit,FPC)200及驱动电路300,所述柔性电路板200用于将主板的数据和信号传输到所述驱动电路300。所述阵列基板100包括玻璃基板110和抗干扰电路120,所述玻璃基板110包括显示区域111及与所述显示区域111邻接的非显示区域112。所述抗干扰电路120电性连接于所述柔性电路板200和所述驱动电路300之间,用于对所述数据和所述信号进行去耦和滤波处理,所述抗干扰电路120直接形成于所述玻璃基板110上的非显示区域112。所述驱动电路300则通过COF(ChiponFilm,覆晶薄膜)等方式封装于所述非显示区域112。
请同时参阅图2和图3,图3是本发明第一实施例中液晶显示模组的阵列基板100的层叠结构示意图。进一步地,在本发明第一实施例中,所述抗干扰电路120包括线路122和平行板电容器121,所述线路122和所述平行板电容器121直接形成于所述玻璃基板110的非显示区域112上。所述平行板电容器121包括第一极板1213、第二极板1211和介质层1212,所述第一极板1213和一部分所述线路122设置于所述玻璃基板110的非显示区域112上,所述介质层1212覆盖于所述第一极板1213上,所述介质层1212可以是一连续层,位于所述第一极板1213和第二极板1211之间,并且填充于所述一部分线路122的间隙,所述第二极板1211和另一部分所述线路122设置于所述介质层1212上。可以理解,所述介质层1212作为一连续层,其可延伸至所述显示区域111上。
在本发明的实施例中,由于所述介质层1212可以是一连续层,因而可以同时位于多个平行板电容器121的第一极板1213和第二极板1211之间,从而同时作为多个平行板电容器121的介质层,同时,所述介质层1212作为所述线路122之间的绝缘层。所述线路122用于将所述平行板电容器121电性连接到所述柔性电路板200和所述驱动电路300。
在本实施例中,通过将抗干扰电路设置于玻璃基板上,尤其将该抗干扰电路的电容器使用平行板电容器,而且将该平行板电容器设置为直接形成于所述玻璃基板上,而并非设置在柔性电路板上,从而减小了柔性电路板的布线面积和厚度,有利于液晶显示模组的轻薄化的整体设计要求。同时,由于直接形成于阵列基板上的玻璃基板上的平行板电容器的厚度相对于所购买的独立的电容器的厚度薄,因而对阵列基板的厚度无影响。
请同时参阅图2、图3和图4,图2是本发明第一实施例中液晶显示模组的结构示意图,图3是本发明第一实施例中液晶显示模组的阵列基板的层叠结构示意图,图4是本发明第二实施例中液晶显示模组的阵列基板的层叠结构示意图。本实施例中液晶显示模组的结构与第一实施例中液晶显示模组的结构基本相同,不同之处在于:所述阵列基板100还包括薄膜晶体管(图未示出),所述平行板电容器121直接形成于所述玻璃基板110的非显示区域112,所述薄膜晶体管设置于玻璃基板110上的显示区域111;所述薄膜晶体管具有栅极130和栅极绝缘层140,所述第一极板1213和所述第二极板1211的材质与所述薄膜晶体管的栅极130的材质相同,所述介质层1212的材质与所述栅极绝缘层140的材质相同,二者可以通过一体成型形成。
具体地,所述第一极板1213、一部分所述线路122以及栅极130设置于所述玻璃基板110上,其中,所述第一极板1213及一部分所述线路122设置于所述玻璃基板110的非显示区域112上,所述栅极130设置于该玻璃基板110的显示区域111上。所述介质层1212覆盖于所述第一极板1213、一部分所述线路122以及栅极130上,同时填充于所述一部分所述线路122的线间间隙,所述介质层1212与所述栅极绝缘层140成一体,二者材质相同,并且形成一连续层,也即是说,在工艺上,所述介质层1212与所述栅极绝缘层140在同一工序中同时形成。所述第二极板1211和另一部分所述线路122设置于所述介质层1212(亦即栅极绝缘层140)上。需要说明的是,与所述第二极板1211和另一部分所述线路122同时形成的,还可以包括薄膜晶体管的其它部件,例如,有源层、掺杂半导体层、漏极、源极、数据线和/或像素电极(图未示出)。也就是说,本实施例中,所述平行板电容器121的制作可以在薄膜晶体管的制作工序中完成。可以理解的是,所述栅极绝缘层140可以省略,所述薄膜晶体管的栅极130被覆盖于作为连续层的介质层1212内。
因此,所述抗干扰电路120的制作可以与薄膜晶体管的制作同时进行,只需在制作所述薄膜晶体管的工艺中,在光罩上增加对应于所述抗干扰电路120成形的部分,所述光罩是曝光时用于决定光通过率的菲林或其它能起同样作用的材料。因此,所述抗干扰电路120可以在现有技术中薄膜晶体管的制作工艺中同时形成,而无需增加制程工序。所述薄膜晶体管形成于所述玻璃基板110的显示区域111,而所述抗干扰电路120则形成于所述玻璃基板110的非显示区域112。
与现有技术相比,在本实施例中,通过将所述抗干扰电路120尤其是该抗干扰电路120的平行板电容器121设置为直接形成于所述阵列基板100的所述玻璃基板110上,而并非设置于所述柔性电路板200上,从而减小了柔性电路板200的面积和厚度,有利于液晶显示模组的轻薄化整体设计要求。同时,由于将该抗干扰电路120与所述阵列基板100上的薄膜晶体管同时形成,因而相较于现有技术,制作本发明所述的液晶显示模组无需增加另外的工序,工艺简单,同时省去了购买独立的电容器器件及将其邦定到柔性电路板等工序,节省物料及人力。
在本发明的液晶显示模组的实施例中,所述平行板电容器121的第一极板1213和第二极板1211的正对面积及所述介质层1212的厚度根据所需要的电容值及公式C=εS/(4πkd)确定,其中,ε是所述介质层的介电常数,S为所述第一极板1213和所述第二极板1211的正对面积,d为所述介质层1212的厚度,k则是静电力常量。
在本发明的液晶显示模组的实施例中,所述第一极板1213、所述第二极板1211及所述栅极130的材质可为金属铝、钼、银、铜、铬和氧化铟锡中的至少一种,也即是说,所述第一极板1213、所述第二极板1211及所述栅极130的材质可以是单一材质铝、钼、银、铜、铬或氧化铟锡,也可以是它们之中的两种或两种以上的合金或混合物。
在本发明的液晶显示模组的实施例中,所述介质层1212及栅极绝缘层140的材质可为聚乙酰亚胺、硅的氧化物、硅的氮化物或硅的氮氧化物,以及它们之中的两种或两种以上的混合物。
请参阅图5,图5是本发明实施例中液晶显示模组的制备方法的流程图。如图5所示,在本发明的实施例中,所述制备方法至少包括如下步骤:
(a)提供一玻璃基板;
在本实施例中,所述玻璃基板是经过处理的钢化玻璃,所述玻璃基板表面可以溅镀一层硅氧化物、硅氮化物或聚乙酰亚胺,用以增加玻璃的附着性或增加玻璃强度;所述玻璃基板还可以根据需要,设置相应的附属层;
(b)在所述玻璃基板上沉积第一导电层,经过贴膜、曝光、显影、蚀刻和剥膜,得到抗干扰电路的一部分线路、平行板电容器的第一极板,以及薄膜晶体管的栅极;
在本实施例中,所述干扰电路包括线路和平行板电容器,所述线路用于将所述平行板电容器电性连接到柔性电路板和驱动电路;
在所述玻璃基板上沉积的第一导电层可以是金属铝、钼、银、铜、铬或氧化铟锡,或它们所组合的混合物;也可以是其它能达到相同目的的导电物,例如聚合导电物、石墨烯、导电石墨等;在所述玻璃基板上沉积了所述第一导电层后,涂覆感光油墨或粘贴感光干膜,配合光罩进行曝光,再经过显影、蚀刻和剥膜等工序,最后得到所述抗干扰电路的一部分线路、所述平行板电容器的第一极板,以及所述薄膜晶体管的栅极;
(c)在所述线路、所述第一极板及所述栅极上设置一层连续的介质层,作为所述平行板电容器的介质层,同时作为栅极绝缘层;
在本实施例中,所述介质层的材质为环氧树脂、聚乙酰亚胺、硅的氧化物、硅的氮化物或硅的氮氧化物,或者它们中的两种或两种以上所组合的混合物;
(d)在所述介质层上沉积第二导电层,经过贴膜、曝光、显影、蚀刻和剥膜,得到所述抗干扰电路的另一部分所述线路和所述平行板电容器的第二极板;
在本实施例中,在所述玻璃基板上沉积的第二导电层可以是金属铝、钼、银、铜、铬、氧化铟锡、石墨烯或掺硅导体,或它们所组合的混合物;也可以是其它能达到相同目的的导电物,例如聚合导电物、石墨烯、导电石墨等;在所述玻璃基板上沉积了所述第二导电层后,涂覆感光油墨或粘贴感光干膜,配合光罩进行曝光,再经过显影、蚀刻和剥膜等工序,最后得到所述抗干扰电路的另一部分所述线路和所述平行板电容器的第二极板;
(e)将驱动电路封装到一阵列基板上,并将柔性电路板与所述驱动电路电性连接;
在本实施例中,所述驱动电路封装到所述阵列基板上的非显示区域,并与所述阵列基板电性连接;将柔性电路板与所述驱动电路电性连接,所述柔性电路板将来自主板的数据和信号传输到所述驱动电路,所述抗干扰电路电性连接于所述柔性电路板和所述驱动电路之间,用于对所述数据和所述信号进行去耦和滤波。
本实施例中,在步骤(d)和步骤(e)之间,还包括制作完成所述薄膜晶体管的其它部件的步骤,其可参照现有技术,不在此处赘述。
在本发明的实施例中,所述第一极板和所述第二极板的正对面积及所述介质层的厚度根据所需的电容大小及公式C=εS/(4πkd)确定,其中,ε是所述介质层的介电常数,S为所述第一极板和所述第二极板的正对面积,d为所述介质层的厚度,k则是静电力常量。
本发明的实施例中,在液晶显示模组的制备方法中,由于将抗干扰电路与阵列基板上的薄膜晶体管同时形成,因而相较于现有技术,制作本发明所述的液晶显示模组无需增加另外的工序,工艺简单,同时省去了购买独立的电容器器件及将其邦定到柔性电路板等工序,节省物料及人力。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
以上所述的实施方式,并不构成对该技术方案保护范围的限定。任何在上述实施方式的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等,均应包含在该技术方案的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种液晶显示模组,包括阵列基板、柔性电路板和驱动电路,所述柔性电路板与所述驱动电路电性连接,用于将数据和信号传输到所述驱动电路,其特征在于,所述阵列基板包括玻璃基板和抗干扰电路,所述驱动电路位于所述玻璃基板上,所述抗干扰电路直接形成于所述玻璃基板上,且所述抗干扰电路电性连接于所述柔性电路板和所述驱动电路之间,用于对所述数据和所述信号进行去耦和滤波处理。
2.根据权利要求1所述的液晶显示模组,其特征在于,所述抗干扰电路包括线路和平行板电容器,所述线路将所述平行板电容器连接到所述柔性电路板和所述驱动电路,所述线路和所述平行板电容器直接形成于所述玻璃基板上。
3.根据权利要求2所述的液晶显示模组,其特征在于,所述平行板电容器包括第一极板、第二极板以及所述第一极板和所述第二极板之间的介质层,所述第一极板和所述第二极板的正对面积及所述介质层的厚度根据所需的电容大小及公式C=εS/(4πkd)确定,其中,ε是所述介质层的介电常数,S为所述第一极板和所述第二极板的正对面积,d为所述介质层的厚度,k则是静电力常量。
4.根据权利要求3所述的液晶显示模组,其特征在于,所述阵列基板还包括薄膜晶体管,所述玻璃基板包括显示区域及与所述显示区域邻接的非显示区域,所述平行板电容器直接形成于所述玻璃基板的所述非显示区域,所述薄膜晶体管设置于所述玻璃基板的所述显示区域,所述薄膜晶体管具有栅极和栅极绝缘层,所述第一极板和所述第二极板的材质与所述薄膜晶体管的所述栅极的材质相同,所述介质层的材质与所述栅极绝缘层的材质相同。
5.根据权利要求3或4所述的液晶显示模组,其特征在于,所述第一极板、所述第二极板的材质为金属铝、钼、银、铜、铬和氧化铟锡中的至少一种,所述介质层的材质为聚乙酰亚胺、环氧树脂、硅的氧化物、硅的氮化物以及硅的氮氧化物中的至少一种。
6.一种液晶显示模组的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
(a)提供一玻璃基板;
(b)在所述玻璃基板上沉积第一导电层,经过贴膜、曝光、显影、蚀刻和剥膜,得到抗干扰电路的一部分线路、平行板电容器的第一极板,以及薄膜晶体管的栅极;
(c)在所述线路、所述第一极板及所述栅极上沉积一层连续的介质层,作为所述平行板电容器的介质层,同时作为栅极绝缘层;
(d)在所述栅极绝缘层上沉积第二导电层,经过贴膜、曝光、显影、蚀刻和剥膜,得到所述抗干扰电路的另一部分线路和所述平行板电容器的第二极板;
(e)将驱动电路封装到一阵列基板上,并将柔性电路板与所述驱动电路电性连接。
7.根据权利要求6中所述的制备方法,其特征在于,所述第一导电层和所述第二导电层的材质为金属铝、钼、银、铜、铬和氧化铟锡中的至少一种。
8.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述介质层的材质为聚乙酰亚胺、环氧树脂、硅的氧化物、硅的氮化物以及硅的氮氧化物中的至少一种。
9.根据权利要求6至8任一项所述的制备方法,其特征在于,所述玻璃基板包括显示区域及与所述显示区域邻接的非显示区域,所述平行板电容器直接形成于所述玻璃基板的所述非显示区域,所述薄膜晶体管设置于所述玻璃基板的所述显示区域,所述第一极板和所述第二极板的材质与所述薄膜晶体管的所述栅极的材质相同,所述介质层的材质与所述栅极绝缘层的材质相同。
10.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,所述第一极板和所述第二极板的正对面积及所述介质层的厚度根据所需的电容大小及公式C=εS/(4πkd)确定,其中,ε是所述介质层的介电常数,S为所述第一极板和所述第二极板的正对面积,d为所述介质层的厚度,k则是静电力常量。
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