CN105134032A - 半导体设备的门 - Google Patents

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CN105134032A
CN105134032A CN201410235834.0A CN201410235834A CN105134032A CN 105134032 A CN105134032 A CN 105134032A CN 201410235834 A CN201410235834 A CN 201410235834A CN 105134032 A CN105134032 A CN 105134032A
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CN
China
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door
semiconductor equipment
semiconductor device
extended cavity
clean room
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CN201410235834.0A
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雷强
代迎伟
张怀东
王坚
王晖
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ACM (SHANGHAI) Inc
ACM Research Shanghai Inc
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Abstract

本发明揭示了一种半导体设备的门,半导体设备置于净化室内,门安装在半导体设备的一个侧面上,门的底部高于地面,门包括:门板和扩展腔,扩展腔由门板向外突出。本发明的半导体设备的门充分利用了净化室内的立体空间,利用扩展腔来扩大半导体设备的内部空间,但又不增加半导体设备的占地面积。同时,通过对扩展腔形状的设计,使得操作人员在净化室内的走动和操作都更加方便和安全。

Description

半导体设备的门
技术领域
本发明涉及半导体设备领域,更具体地说,涉及一种用于半导体设备上的门。
背景技术
半导体工艺中,对生产的环境要求极高。为了获得这种极高要求的生产环境,通常半导体设备会被放置在净化室中。净化室的生产成本和维护成本都非常高,并且净化室的生产成本和维护成本直接与净化室的面积成正比,因此在日常的应用中,净化室的面积会被尽可能地缩小以降低其使用成本。
当半导体设备被置于净化室中,半导体设备会占据净化室中的绝大多数占地面积。出于成本的考虑,净化室的面积会尽量与半导体设备的大小相匹配,这样造成的结果就是在放置了半导体设备之后,净化室中留下的空间很小,使得操作人员在其中走动和操作都很不方便。
如果缩小半导体设备的体积,又会使得半导体设备的内部容纳空间减小,影响各种半导体部件的安装。因此如何在半导体设备的占地面积和净化室的面积之间取得平衡,是半导体设备的设计者面临的难题。
发明内容
本发明旨在提出一种半导体设备的门,适用于净化室内的半导体设备,能提高净化室内空间的使用效率。
根据本发明的一实施例,提出一种半导体设备的门,半导体设备置于净化室内,门安装在半导体设备的一个侧面上,门的底部高于地面,门包括:门板和扩展腔,扩展腔由门板向外突出。
在一个实施例中,扩展腔呈半圆柱形。
在一个实施例中,扩展腔是经变形的半圆柱形,半圆柱形的底部向上形成斜面。
在一个实施例中,门安装在半导体设备的侧面的上端。
在一个实施例中,门的底部距离地面1.6~1.9米。
在一个实施例中,门还包括把手和锁,把手和锁安装在门板上。
本发明的半导体设备的门充分利用了净化室内的立体空间,利用扩展腔来扩大半导体设备的内部空间,但又不增加半导体设备的占地面积。同时,通过对扩展腔形状的设计,使得操作人员在净化室内的走动和操作都更加方便和安全。
附图说明
本发明上述的以及其他的特征、性质和优势将通过下面结合附图和实施例的描述而变的更加明显,在附图中相同的附图标记始终表示相同的特征,其中:
图1a、1b和1c揭示了根据本发明的一实施例的半导体设备的门的结构图。
图2a、2b和2c揭示了根据本发明的一实施例的半导体设备的门的安装位置示意图。
具体实施方式
首先参考图1a、1b和1c所示,揭示了根据本发明的一实施例的半导体设备的门的结构图,其中图1a是正面视图、图1b是侧面视图而图1c是立体视图。
如图所示,该门100包括:门板102和扩展腔104,扩展腔104由门板102向外突出。在一个实施例中,扩展腔104呈半圆柱形。在图示的实施例中,扩展腔104是经变形的半圆柱形,半圆柱形的底部向上形成斜面。在图示的实施例中,门100还包括把手106和锁108,把手106和锁108安装在门板102上。
参考图2a、2b和2c所示,揭示了根据本发明的一实施例的半导体设备的门的安装示意图。其中图2a是正面视图、图2b是侧面视图而图2c是立体视图。如图所示,门100安装在半导体设备200的一个侧面上,半导体设备200是放置在净化室内的半导体设备。门100的底部高于地面,在图示的实施例中,门100安装在半导体设备200的侧面的上端,门100的底部距离地面1.6~1.9米。如此设计,门100的扩展腔104利用了净化室中上部的空间,而半导体设备200的占地面积没有变化。将门的底部设计为距离地面1.6~1.9米是为了净化室中的操作人员留出走动和操作的空间,因多数人的身高在1.6~1.9米的范围内,因此将门100设计在这个位置,既给操作人员留出空间,又充分利用了这部分立体空间。将扩展腔104的底部设计为向上形成斜面也是为了操作人员的安全考虑,由于扩展腔的位置基本是按照人的身高设计在1.6~1.9米的范围内,为了尽量降低可能对操作人员造成的伤害,扩展腔104的底部被削除以形成向上斜面,降低碰撞的可能性。
本发明的半导体设备的门充分利用了净化室内的立体空间,利用扩展腔来扩大半导体设备的内部空间,但又不增加半导体设备的占地面积。同时,通过对扩展腔形状的设计,使得操作人员在净化室内的走动和操作都更加方便和安全。
上述实施例是提供给熟悉本领域内的人员来实现或使用本发明的,熟悉本领域的人员可对上述实施例做出种种修改或变化而不脱离本发明的发明思想,因而本发明的保护范围并不被上述实施例所限,而应该是符合权利要求书提到的创新性特征的最大范围。

Claims (6)

1.一种半导体设备的门,其特征在于,所述半导体设备置于净化室内,所述门安装在半导体设备的一个侧面上,所述门的底部高于地面,所述门包括:门板和扩展腔,所述扩展腔由门板向外突出。
2.如权利要求1所述的半导体设备的门,其特征在于,所述扩展腔呈半圆柱形。
3.如权利要求2所述的半导体设备的门,其特征在于,所述扩展腔是经变形的半圆柱形,半圆柱形的底部向上形成斜面。
4.如权利要求3所述的半导体设备的门,其特征在于,所述门安装在半导体设备的侧面的上端。
5.如权利要求4所述的半导体设备的门,其特征在于,所述门的底部距离地面1.6~1.9米。
6.如权利要求1所述的半导体设备的门,其特征在于,所述门还包括把手和锁,把手和锁安装在门板上。
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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RJ01 Rejection of invention patent application after publication
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