CN105077795A - 正反交错提花防辐射、抗菌、除臭面料 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种正反交错提花防辐射、抗菌、除臭面料，包括基布（1），基布（1）的正反两面均设有提花层（2），提花层（2）包括若干个提花区域（21）和非提花区域（22），所述提花区域（21）和非提花区域（22）均呈块状且交错排列，所述基布（1）由织物制成，所述织物由一层银纤维面料与一层竹炭纤维面料紧密复合而成。正反交错提花防辐射、抗菌、除臭面料的正反面均设置交错分布的提花区域和非提花区域，增强了面料的层次感。
Description
技术领域
本发明涉及一种面料，尤其涉及一种制作服装、玩具的面料，属于纺织面料领域。
背景技术
提花面料手感柔软舒适，透气性能好，颇受人们的喜爱。现有的提花面料多为单面提花或双面提花，层次感不强。且不具有防辐射、抗菌、除臭功能。
发明内容
本发明的目的在于克服上述不足，提供一种层次感强的正反交错提花防辐射、抗菌、除臭面料。
本发明的目的是这样实现的：一种正反交错提花防辐射、抗菌、除臭面料，包括基布，所述基布的正反两面均设有提花层，所述提花层包括若干个提花区域和非提花区域，所述提花区域呈块状，所述提花区域和非提花区域交错排列，位于正反两面的提花区域和非提花区域交错对称分布，所述基布由织物制成，所述织物由一层银纤维面料与一层竹炭纤维面料紧密复合而成。织物下设置透气面料，透气面料包括贴面柔软耐磨层、中间吸湿层和网状透气层复合而成，所述的贴面柔软耐磨层附在中间吸湿层的内表面，所述的网状透气层附在中间吸湿层的外表面，所述的贴面柔软耐磨层为聚氨酯弹性纤维、粘胶纤维和聚乙烯醇缩甲醛纤维混纺而成，所述的中间吸湿层为聚乙烯醇缩甲醛纤维纺织而成，所述的网状透气层为涤纶纤维制成。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
1、正反交错提花防辐射、抗菌、除臭面料的正反面均设置交错分布的提花区域和非提花区域，增强了面料的层次感。
2、银纤维面料具有防辐射、抗菌、除臭、透气性好以及保健等功能；竹炭纤维面料具有保暖、调温、抗菌、调湿、抗过敏以及释放负离子等功效。
附图说明
图1为本发明正反交错提花防辐射、抗菌、除臭面料的平面示意图。
图2为图1的A-A剖视图。
其中：基布1、提花层2、提花区域21、非提花区域22。
具体实施方式
参见图1和图2，本发明涉及一种正反交错提花防辐射、抗菌、除臭面料，包括基布1，所述基布1的正反两面均设有提花层2。所述提花层2包括若干个提花区域21和非提花区域22，所述提花区域21和非提花区域22均呈块状且交错排列。位于正反两面的提花区域21和非提花区域22交错对称分布。
所述基布1由织物制成，所述织物由一层银纤维面料与一层竹炭纤维面料紧密复合而成。织物下设置透气面料，透气面料包括贴面柔软耐磨层、中间吸湿层和网状透气层复合而成，所述的贴面柔软耐磨层附在中间吸湿层的内表面，所述的网状透气层附在中间吸湿层的外表面，所述的贴面柔软耐磨层为聚氨酯弹性纤维、粘胶纤维和聚乙烯醇缩甲醛纤维混纺而成，所述的中间吸湿层为聚乙烯醇缩甲醛纤维纺织而成，所述的网状透气层为涤纶纤维制成。
Claims (1)
1.一种正反交错提花防辐射、抗菌、除臭面料，包括基布（1），所述基布（1）的正反两面均设有提花层（2），其特征在于：所述提花层（2）包括若干个提花区域（21）和非提花区域（22），所述提花区域（21）和非提花区域（22）均呈块状且交错排列，位于正反两面的提花区域（21）和非提花区域（22）交错对称分布，所述基布（1）由织物制成，所述织物由一层银纤维面料与一层竹炭纤维面料紧密复合而成，织物下设置透气面料，透气面料包括贴面柔软耐磨层、中间吸湿层和网状透气层复合而成，所述的贴面柔软耐磨层附在中间吸湿层的内表面，所述的网状透气层附在中间吸湿层的外表面，所述的贴面柔软耐磨层为聚氨酯弹性纤维、粘胶纤维和聚乙烯醇缩甲醛纤维混纺而成，所述的中间吸湿层为聚乙烯醇缩甲醛纤维纺织而成，所述的网状透气层为涤纶纤维制成。
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Publications (1)
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Country Status (1)
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2015
- 2015-08-10 CN CN201510481412.6A patent/CN105077795A/zh active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20151125 |