CN105028103A - 桃类作物的日光温室槽式栽培方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了桃类作物的日光温室槽式栽培方法,包括以下步骤:1)砧木选择2)槽式定植方法3)定植后施肥方法。本发明的有益效果为:本发明提供的桃类作物的日光温室槽式栽培方法,经过2012-2014三年的试验研究表明,可以在保证日光温室高密度桃正常生长、结果的前提下,在温室建造时减少70%的“客土”土壤用量,从而达到保护当地生态环境的目的,非耕地日光温室桃槽式栽培技术定植后16个月亩产1240kg,以后亩产达到2420kg。
Description
技术领域
本发明涉及作物温室栽培方法,具体涉及桃类作物的日光温室槽式栽培方法。
背景技术
我国耕地资源紧缺,为保证国家粮食安全,科学合理开发土地资源中85%以上的非耕地资源意义重大。甘肃省有包括戈壁、沙漠等类型的未利用非耕地2.87亿亩,占全省总土地面积的42%,以戈壁为主的河西走廊地区,有着发展日光温室桃产业得天独厚的自然条件,如光照充足,日照时间长,光质好,无污染等,且广阔的荒漠利于整体规划和集中连片大规模发展。目前已初步形成甘肃省河西走廊嘉峪关-酒泉-张掖戈壁日光温室油桃产业带,对当地产业发展直到了起大支撑作用。戈壁是粗砂、砾石覆盖在硬土层上的荒漠地形,因此在戈壁非耕地发展设施桃产业,需要客土栽培,生产上一般是将温室内地面80cm深的沙砾清除,然后回填栽培基质。基质成分60%以上为土壤,这样,每座日光温室(500m2)至少需要“客土”240m3,这些土壤一般都要从周围面积有限的良田中挖取,建造一座日光温室,需要将1000m2良田下挖40cm,这严重影响到原耕地的质量,并对原本脆弱的生态环境造成严重破坏。
槽式栽培是根域限制(Rootingrestriction)栽培方法(Ferree1992;Williamsonetal.1992)的一种。
发明内容
本发明的目的就是针对上述现有技术中的缺陷,提供了桃类作物的日光温室槽式栽培方法。
为了实现上述目的,本发明提供的技术方案为:桃类作物的日光温室槽式栽培方法,包括以下步骤:
1)砧木选择:
选择山桃为砧木进行育苗;
2)槽式定植方法:
在砂石类非耕地上新建日光温室,在安装屋面钢架前,按南北行距2.0米、株距1.0米的栽培密度,沿定植行南北向,机械辅助挖宽80cm、深80cm的定植沟,底部回填20cm厚的玉米秸秆,然后填入混匀有腐熟有机肥的土壤,有机肥亩用量3-4m3,浇水沉实,温室建好后,于11月中旬到12月上旬,挖直径30cm、深度30cm的定植坑,将苗木植于定植坑中,使苗木直、根系舒展,栽植深度为以根茎交结点埋入地下5cm,灌水后,待2-3cm表土干燥后,疏松、耙平,树盘覆盖黑色地膜以提高成活率;
3)定植后管理:
定植后温度管理方法为:定植后1个月内,温室内苗木生长的温度为5℃-25℃,1个月后温度保持在10℃-30℃;
立支柱和绑缚的方法为:在每株桃树旁10cm处立支柱,支柱选用竹竿,长度为1.5~2.0m,粗度为直径大于1.5cm,支柱立在嫁接芽所在主干的另一侧,防止生长期嫁接芽与主干劈裂,当嫩梢长至30-40cm时进行第一次绑缚,之后主干每生长50cm绑缚一次;
幼树肥水管理方法为:幼树定植当年待新梢长到15cm时,开始施入速效肥进行攻树、扩冠,每隔15天-20天施肥1次,展叶后每隔10天喷1次质量百分浓度为0.3%的氮含量大于46%的尿素;
主干整形修剪方法为:芽苗定植后,侧枝长至25-30cm时拿枝或摘心,当苗木生长到1m时,先疏除基部20cm内的枝条,苗木生长至1.5m时,疏除基部30-40cm内的枝条,7月下旬开始限制营养生长,停止施用氮肥、减少灌水,叶面喷施磷、钾肥,喷果树促控剂PBO100倍液,间隔7-10d,连喷3-4次,冬季修剪每株留20~30个长果枝,在主干上均匀分布,分枝角度均为80°~90°,将树体高度控制在2m-2.5m,果实采后先放风7-10天,然后揭膜转向露地管理,采果后4-6天内,分两步回缩,先回缩树冠下部,待新芽萌动后,再回缩树冠上半部分,采果后的结果枝和中庸枝留3个饱满芽缩剪,长度小于30cm的新梢保留不动,缩剪后,及时抹除萌发的无效芽,双芽枝和三芽枝只留一个,直立芽抹除;
结果树肥水管理方法为:基肥在根系开始活动前施入,施肥时间为秋季桃落叶前1个月,9月下旬至10月上旬,基肥的肥料种类为有机肥,施用量为按照全年施肥量为标准,施入氮素的60%-80%、磷素的90%-100%、钾素的50%-70%,每亩施充分腐熟的有机肥3000-5000kg、硫酸钾或果树专用肥50kg、磷酸二铵50kg、尿素30kg;
花期喷500-1000倍的硼肥,提高坐果率;开花期控制灌水;新叶展开后,每隔10-15天喷施1次质量百分含量为0.1%的尿素和质量百分含量为0.1%的磷酸二氢钾混合液,连喷3-4次;幼果期每667m2追施复合肥20kg、硫酸钾10kg;开始硬核时,进行硬核期追肥,施入钾、氮肥;果实膨大期追肥,在采前20天施入,施用速效性钾肥,每667m2追施复合肥20kg、硫酸钾10kg,果实发育的第3期、采收前6-8天,根据土壤墒情适当灌水,灌水采用小水勤灌方式;果实发育期喷施质量百分比为0.3%的磷酸二氢钾和质量百分比为0.2%的光合微肥;采果缩剪后每667m2追施腐熟农家肥2000kg、硫酸钾50kg、尿素20kg;7月前保证水分供应,喷3-4次质量百分比为0.3%的尿素或磷酸二氢钾,7月中旬后,减少氮肥供应,适度控水,同时每隔10-15天喷施1次喷果树促控剂PBO100倍液;
4)灌水管理:
整个生育期中,需要在萌芽前、坐果后、果实硬核期、施基肥后、越冬前进行灌水,水需灌透,采用滴灌方式。
栽培方法中的温湿度管理、花果管理、病虫害防治等技术,均是采用现有技术文献《节能日光温室油桃栽培技术试验》(马明,王鸿,梁志宏,李宽莹,《甘肃农业科技》)。
本发明的有益效果为:本发明提供的桃类作物的日光温室槽式栽培方法,经过2012-2014三年的试验研究表明,可以在保证日光温室高密度油桃正常生长、结果的前提下,减少70%的土壤用量,从而达到保护当地生态环境的目的,非耕地日光温室桃槽式栽培技术定植后第一年结果亩产1240kg,第二年丰产达到2420kg。
具体实施方式
实施例1:
桃类作物的日光温室槽式栽培方法,包括以下步骤:
1)砧木选择:
选择山桃为砧木进行育苗;
2)槽式定植方法:
在砂石类非耕地上新建日光温室,在安装屋面钢架前,按南北行距2.0米、株距1.0米的栽培密度,沿定植行南北向,机械辅助挖宽80cm、深80cm的定植沟,底部回填20cm厚的玉米秸秆,然后填入混匀有腐熟有机肥的土壤,有机肥亩用量3-4m3,浇水沉实。温室建好后,于11月中旬到12月上旬,挖直径30cm、深度30cm的定植坑,将苗木植于定植坑中,使苗木直、根系舒展,栽植深度以根茎交结点埋入地下5cm为宜。灌水后,待2-3cm表土干燥后,疏松、耙平,树盘覆盖黑色地膜以提高成活率;
3)定植后管理:
定植后温度管理方法为:定植后1个月内,温室内苗木生长的温度为5℃-25℃,1个月后温度保持在10℃-30℃;
立支柱和绑缚的方法为:在每株桃树旁10cm处立支柱,支柱选用竹竿,长度为1.5~2.0m,粗度为直径大于1.5cm,支柱立在嫁接芽所在主干的另一侧,防止生长期嫁接芽与主干劈裂,当嫩梢长至30-40cm时进行第一次绑缚,之后主干每生长50cm绑缚一次;
幼树肥水管理方法为:幼树定植当年待新梢长到15cm时,开始施入速效肥进行攻树、扩冠,每隔15天-20天施肥1次,展叶后每隔10天喷1次质量百分浓度为0.3%的氮含量大于46%的尿素;
主干整形修剪方法为:芽苗定植后,侧枝长至25-30cm时拿枝或摘心,当苗木生长到1m时,先疏除基部20cm内的枝条,苗木生长至1.5m时,疏除基部30-40cm内的枝条,7月下旬开始限制营养生长,停止施用氮肥、减少灌水,叶面喷施磷、钾肥,喷果树促控剂PBO100倍液,间隔7-10d,连喷3-4次。冬季修剪每株留20~30个长果枝,在主干上均匀分布,分枝角度均为80°~90°,将树体高度控制在2m-2.5m。果实采后先放风7-10天,然后揭膜转向露地管理,采果后4-6天内,分两步回缩,先回缩树冠下部,待新芽萌动后,再回缩树冠上半部分,采果后的结果枝和中庸枝留3个饱满芽缩剪,长度小于30cm的新梢保留不动。缩剪后,及时抹除萌发的无效芽,双芽枝和三芽枝只留一个,直立芽抹除;
结果树肥水管理方法为:基肥在根系开始活动前施入,施肥时间为秋季桃落叶前1个月,9月下旬至10月上旬,基肥的肥料种类为有机肥,施用量为按照全年施肥量为标准,施入氮素的60%-80%、磷素的90%-100%、钾素的50%-70%,每亩施充分腐熟的有机肥3000-5000kg、硫酸钾或果树专用肥50kg、磷酸二铵50kg、尿素30kg;
花期喷500-1000倍的硼肥,提高坐果率。开花期控制灌水。新叶展开后,每隔10-15天喷施1次质量百分含量为0.1%的尿素和质量百分含量为0.1%的磷酸二氢钾混合液,连喷3-4次;幼果期每667m2追施复合肥20kg、硫酸钾10kg;开始硬核时,进行硬核期追肥,施入钾、氮肥;果实膨大期追肥,在采前20天施入,施用速效性钾肥,每667m2追施复合肥20kg、硫酸钾10kg,果实发育的第3期、采收前6-8天,根据土壤墒情适当灌水,灌水采用小水勤灌方式;果实发育期喷施质量百分比为0.3%的磷酸二氢钾和质量百分比为0.2%的光合微肥;采果缩剪后每667m2追施腐熟农家肥2000kg、硫酸钾50kg、尿素20kg;7月前保证水分供应,喷3-4次质量百分比为0.3%的尿素或磷酸二氢钾,7月中旬后,减少氮肥供应,适度控水,同时每隔10-15天喷施1次喷果树促控剂PBO100倍液;
4)灌水管理:
整个生育期中,需要在萌芽前、坐果后、果实硬核期、施基肥后、越冬前进行灌水,水需灌透,采用滴灌方式。
栽培方法中的温湿度管理、花果管理、病虫害防治等技术,均是采用现有技术文献《节能日光温室油桃栽培技术试验》(马明,王鸿,梁志宏,李宽莹,《甘肃农业科技》)。
以上所述仅为本发明的优选实施例,并不用于限制本发明,尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,对于本领域的技术人员,依然可以对前述实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (1)
1.桃类作物的日光温室槽式栽培方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)砧木选择:
选择山桃为砧木进行育苗;
2)槽式定植方法:
在砂石类非耕地上新建日光温室,在安装屋面钢架前,按南北行距2.0米、株距1.0米的栽培密度,沿定植行南北向,机械辅助挖宽80cm、深80cm的定植沟,底部回填20cm厚的玉米秸秆,然后填入混匀有腐熟有机肥的土壤,有机肥亩用量3-4m3,浇水沉实,温室建好后,于11月中旬到12月上旬,挖直径30cm、深度30cm的定植坑,将苗木植于定植坑中,使苗木直、根系舒展,栽植深度为根茎交结点埋入地下5cm,灌水后,待2-3cm表土干燥后,疏松、耙平,树盘覆盖黑色地膜以提高成活率;
3)定植后管理:
定植后温度管理方法为:定植后1个月内,温室内苗木生长的温度为5℃-25℃,1个月后温度保持在10℃-30℃;
立支柱和绑缚的方法为:在每株桃树旁10cm处立支柱,支柱选用竹竿,长度为1.5~2.0m,粗度为直径大于1.5cm,支柱立在嫁接芽所在主干的另一侧,防止生长期嫁接芽与主干劈裂,当嫩梢长至30-40cm时进行第一次绑缚,之后主干每生长50cm绑缚一次;
幼树肥水管理方法为:幼树定植当年待新梢长到15cm时,开始施入速效肥进行攻树、扩冠,每隔15天-20天施肥1次,展叶后每隔10天喷1次质量百分浓度为0.3%的氮含量大于46%的尿素;
主干整形修剪方法为:芽苗定植后,侧枝长至25-30cm时拿枝或摘心,当苗木生长到1m时,先疏除基部20cm内的枝条,苗木生长至1.5m时,疏除基部30-40cm内的枝条,7月下旬开始限制营养生长,停止施用氮肥、减少灌水,叶面喷施磷、钾肥,喷果树促控剂PBO100倍液,间隔7-10d,连喷3-4次,冬季修剪每株留20~30个长果枝,在主干上均匀分布,分枝角度均为80°~90°,将树体高度控制在2m-2.5m,果实采后先放风7-10天,然后揭膜转向露地管理,采果后4-6天内,分两步回缩,先回缩树冠下部,待新芽萌动后,再回缩树冠上半部分,采果后的结果枝和中庸枝留3个饱满芽缩剪,长度小于30cm的新梢保留不动,缩剪后,及时抹除萌发的无效芽,双芽枝和三芽枝只留一个,直立芽抹除;
结果树肥水管理方法为:基肥在根系开始活动前施入,施肥时间为秋季桃落叶前1个月,9月下旬至10月上旬,基肥的肥料种类为有机肥,施用量为按照全年施肥量为标准,施入氮素的60%-80%、磷素的90%-100%、钾素的50%-70%,每亩施充分腐熟的有机肥3000-5000kg、硫酸钾或果树专用肥50kg、磷酸二铵50kg、尿素30kg;
花期喷500-1000倍的硼肥,提高坐果率;开花期控制灌水;新叶展开后,每隔10-15天喷施1次质量百分含量为0.1%的尿素和质量百分含量为0.1%的磷酸二氢钾混合液,连喷3-4次;幼果期每667m2追施复合肥20kg、硫酸钾10kg;开始硬核时,进行硬核期追肥,施入钾、氮肥;果实膨大期追肥,在采前20天施入,施用速效性钾肥,每667m2追施复合肥20kg、硫酸钾10kg,果实发育的第3期、采收前6-8天,根据土壤墒情适当灌水,灌水采用小水勤灌方式;果实发育期喷施质量百分比为0.3%的磷酸二氢钾和质量百分比为0.2%的光合微肥;采果缩剪后每667m2追施腐熟农家肥2000kg、硫酸钾50kg、尿素20kg;7月前保证水分供应,喷3-4次质量百分比为0.3%的尿素或磷酸二氢钾,7月中旬后,减少氮肥供应,适度控水,同时每隔10-15天喷施1次喷果树促控剂PBO100倍液;
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20151111 |