CN104932147A - 一种液晶面板的制造机台及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种液晶面板的制造机台及其制造方法。该制造机台包括光源和掩膜板，其中，光源用于向液晶面板提供光照；掩膜板上设置有至少两种曝光区域，相邻的曝光区域的透光率不同，以通过调整不同的曝光区域的积光量的大小来调节液晶面板的液晶分子的预倾角的大小，从而使得不同曝光区域对应的液晶分子形成不同的预倾角。通过上述方式，本发明制程更简单，同时可以提高穿透率，还可以解决由于电荷共享电路引入造成的产品的可靠性问题。

Description

一种液晶面板的制造机台及其制造方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其是涉及一种液晶面板的制造机台及其制造方法。
背景技术
视角是液晶面板的一个非常重要的指标，现在业界也提出了很多改善视角的方法。例如现在主流的方法是将像素电极设置成多畴结构，例如4畴结构。在4畴结构的基础又发展出了8畴结构。该些多畴结构的像素电极通过电荷共享技术，形成了主电极和分支电极结构，但是这种方法由于要制造电荷共享单元，增加了制程难度，降低了开口率，降低穿透率，同时还会影响产品的可靠性。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种液晶面板的制造机台及其制造方法，能够改善液晶面板视角的效果，并且制程简单、穿透率强，同时还可以解决由于电荷共享电路引入造成的产品的可靠性问题。
为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种液晶面板的制造机台，该制造机台包括：光源，用于向液晶面板提供光照；掩膜板，设置在光源与液晶面板之间，掩膜板上设置有至少两种曝光区域，相邻的曝光区域的透光率不同，以通过调整不同的曝光区域的积光量的大小来调节液晶面板的液晶分子的预倾角的大小，从而使得不同曝光区域对应的液晶分子形成不同的预倾角。
其中，液晶面板还包括多个呈矩阵设置的像素单元；曝光区域的大小与像素单元的大小相同且与像素单元一一对应。
其中，液晶面板还包括多个呈矩阵设置的像素单元；曝光区域的大小与至少两个像素单元的大小相同且与相邻的至少两个像素单元一一对应。
其中，相邻的至少两个像素单元位于同一行或同一列中。
其中，相邻的至少两个像素单元位于不同行或不同列中。
其中，预倾角的角度范围为87度到90度。
为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种液晶面板的制造方法，该制造方法包括以下步骤：提供一液晶面板，其中，液晶面板包括液晶分子；通过一掩膜版向液晶面板提供光照，其中，掩膜版设置至少两种曝光区域，相邻的曝光区域的透光率不同，以通过调整不同的曝光区域的积光量的大小来调节液晶面板的液晶分子的预倾角的大小，从而使得不同曝光区域对应的液晶分子形成不同的预倾角。
其中，预倾角的角度范围为87度到90度。
其中，曝光区域的大小与液晶面板的像素单元的大小相同且与像素单元一一对应。
其中，曝光区域的大小与至少两个液晶面板的像素单元的大小相同且与相邻的至少两个像素单元一一对应。
本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明的液晶面板的制造机台在光源与液晶面板之间设置一掩膜板，该掩膜板设置有至少两种曝光区域，且相邻的曝光区域的透光率不同，以通过调整不同的曝光区域的积光量的大小来调节液晶面板的液晶分子的预倾角的大小，从而使得不同曝光区域对应的液晶分子形成不同的预倾角。因此，本发明只需要设置具有不同穿透率的掩膜板即可达到改善视角的效果，相对于现有技术的通过电荷共享电路来改善视角的方案相比，本发明的制程更简单，同时可以提高穿透率，还可以解决由于电荷共享电路引入造成的产品的可靠性问题。
附图说明
图1是本发明实施例提供的一种液晶面板的制造机台的结构示意图；
图2是本发明实施例的一种掩膜板的结构示意图；
图3是本发明实施例的阵列基板中的像素单元的结构示意图；
图4是本发明实施例的另一种掩膜板的结构示意图；
图5是本发明实施例的又一种掩膜板的结构示意图；
图6是本发明实施例的又一种掩膜板的结构示意图；
图7是本发明实施例的提供的一种液晶面板的制造方法的流程图；
图8是对应图7所示的制造方法的工艺制程图。
具体实施方式
请参阅图1，图1是本发明实施例提供的一种液晶面板的制造机台的结构示意图。如图1所示，本发明实施例的制造机台10包括光源11和掩膜板12。
其中，光源11用于向液晶面板100提供光照。本实施例中，光源11包括灯座15和设置在灯座15上的多个灯芯16。其中，灯芯16为发射紫外光的紫外光灯芯。
掩膜板12设置在光源11与液晶面板100之间。请一并参阅图2，图2是本发明实施例的一种掩膜板12的结构示意图。如图1和图2所示，掩膜板12上设置有至少两种曝光区域120，图2只举例了两种曝光区域121和122，应理解，三种或以上的曝光区域120的结构与图2显示的两种曝光区域120的结构类似。其中，相邻的曝光区域120的透光率不同，以通过调整不同的曝光区域120的积光量的大小来调节液晶面板100的液晶分子的预倾角的大小，从而使得不同曝光区域120对应的液晶分子形成不同的预倾角。
本实施例中，具体在不同的曝光区域120设置不同穿透率的图案来实现曝光区域120的穿透率不同。例如，前文所述的两种曝光区域121和122具体为通过设置两种不同穿透率的图案来实现。
因此，本实施例设置了具有不同穿透率的掩膜板12，通过调整不同曝光区域120的光照(紫外光)的曝光量，从而调整不同的曝光区域120的积光量的大小，使得不同曝光区域120的液晶分子的预倾角的不同，即达到改善视角的效果。相对于现有技术的通过电荷共享电路来改善视角的方案相比，本实施例的方案制程更简单，同时可以提高穿透率，还可以解决由于电荷共享电路引入造成的产品的可靠性问题。
本实施例的曝光区域120的排列方式包括多种，具体介绍如下：
首先请参阅图3，液晶面板100还包括阵列基板110，其中在阵列基板110上设置有多个呈矩阵设置的像素单元101。请一起参阅图2和图3，本实施例的曝光区域120的大小与像素单元101的大小相同且与像素单元101一一对应设置。使得相邻的像素单元101对应的液晶分子具有不同的预倾角。
曝光区域120的大小还可以设置为其他，例如，曝光区域120的大小可以设置为与至少两个像素单元101的大小相同且与相邻的至少两个像素单元101一一对应。其中，在该种情况下的曝光区域120的排列方式又包括以下两种：第一种：相邻的至少两个像素单元101位于同一行或同一列中；第二种：相邻的至少两个像素单元101位于不同行或不同列中。具体仍然以前文所述的两种曝光区域121和122来介绍：
针对上述的第一种情况：请一并参阅图3和图4，图4的曝光区域120的大小与两个像素单元101的大小相同，并且相邻的两个像素单元101位于同一行中。也就是说，图4中的每一个曝光区域120是和图3所示的同一行中的两个相邻的像素单元101一一对应的。例如图4所示的曝光区域121和图3所示的位于同一行中的相邻的像素单元111和112对应；图4所示的曝光区域122和图3所示的位于同一行中的相邻的像素单元113和114对应。
应理解，曝光区域120也可以和位于同一列中相邻的两个像素单元101一一对应，其排列方式如前文所述的和位于同一行中的相邻的两个像素单元一一对应的类似，在此不再赘述。
图4显示的是一个曝光区域120的大小和两个像素单元101的大小相同的情况。实际应用中，曝光区域120的大小还可以为其他，例如请参阅图3和图5，图5所示的曝光区域120的大小与同一行的像素单元101的大小相同。不同的曝光区域120位于不同的行中。例如曝光区域121与位于第一行中的像素单元101一一对应，曝光区域122与位于第二行中的像素单元101一一对应。
同理，曝光区域120的大小还可以与同一列的像素单元101的大小相同，并且与同一列的像素单元10对应。
针对上述第二种情况：请参阅图3和图6，图6所示的与曝光区域120一一对应的相邻的像素单元101有四个，其位于不同行或列中。如曝光区域121对应图3所示的像素单元111、112、115以及116。像素单元111和112位于第一行中，像素单元115和116位于第二行中；或者理解为：像素单元111和115位于第一列中，像素单元112和116位于第二列中。曝光区域122对应图3所示的像素单元113、114、117以及118。像素单元113和114位于第一行中，像素单元117和118位于第二行中；或者理解为：像素单元113和117位于第三列中，像素单元114和118位于第四列中。
其中，与曝光区域120一一对应的相邻的像素单元为其他个数时，每一曝光区域120对应像素单元101的排列方式与前文所述的与曝光区域120一一对应的相邻的像素单元4个时的类似，在此不再赘述。
承前所述，本实施例不对曝光区域120的排列方式进行具体限定，只要实现相邻的曝光区域120的透光率不同，使得对应的液晶分子具有不同的预倾角即可。
其中，预倾角的角度范围优选为87度到90度。预倾角的大小优选通过调节不同的曝光区域120的积光量的大小而决定。
因此，本发明通过设置至少两种曝光区域120，即可达到改善视角的效果，相对于现有技术的通过电荷共享电路来改善视角的方案相比，本实施例的制程更简单，同时可以提高穿透率，还可以解决由于电荷共享电路引入造成的产品的可靠性问题。
本实施例的制造机台10还包括开关元件13以及承载台14。其中开关元件13设置在光源11和掩膜板12之间，用于控制光源11发出的光照是否照射到掩膜板12上，当开关元件13处于开启状态时，光源11发出的光照照射到掩膜板12。在开关元件13处于关闭状态时，光源11发出的光照被开关元件13遮挡。
承载台14用于承载液晶面板100，进一步的，承载台14还会向液晶面板100的上下两个基板提供电压信号。
本发明实施例还提供了一种液晶面板的制造方法，该制造方法通过前文所述的液晶面板的制造机台10完成。具体请参阅图7和图8所示，图7是本发明实施例的制造方法的流程图，图8是对应图7所示的制造方法的工艺制程图。本实施例的制造方法包括以下步骤：
步骤S1：提供一液晶面板100，其中，液晶面板包括液晶分子。
在步骤S1之前通过ODF(one drop fill，液晶滴下)的方式在彩膜基板150和阵列基板110之间滴入液晶分子106，以形成液晶面板100。其中，在进行ODF的时候进一步添加一定量的在紫外光照射下可发生聚合反应的单体，简称可聚合单体(Reactive Monomer，RM)，如图8所示的可聚合单体108。
本步骤还包括将液晶面板100放入液晶面板的制造机台中，制造机台为如前文所述制造机台10。
步骤S2：通过一掩膜版12向液晶面板100提供光照，其中，掩膜版12设置至少两种曝光区域120，相邻的曝光区域120的透光率不同，以通过调整不同的曝光区域120的积光量的大小来调节液晶面板100的液晶分子106的预倾角的大小，从而使得不同曝光区域对应的液晶分子形成不同的预倾角。
本步骤是在第一次UV(紫外的)光照下进行。具体还包括通过制造机台10的光源11向掩膜板12照射光照，优选为紫外光光照。通过调整不同曝光区域120的光照(紫外光)的曝光量，从而调整不同的曝光区域120的积光量的大小，使得不同曝光区域120的液晶分子的预倾角的不同，即达到改善视角的效果。相对于现有技术的通过电荷共享电路来改善视角的方案相比，本实施例的制程更简单，同时可以提高穿透率，还可以解决由于电荷共享电路引入造成的产品的可靠性问题。
本实施例的预倾角的角度范围为87度到90度。其由不同的曝光区域120的积光量的大小而决定。
可选的，液晶面板100的阵列基板110包括多个像素单元101，如图3所示。曝光区域120的大小与液晶面板100的像素单元101的大小相同且与像素单元一一对应。曝光区域120具体的排列方式如前文所述，在此不再赘述。
可选的，曝光区域120的大小与至少两个液晶面板的像素单元的大小相同且与相邻的至少两个像素单元一一对应。其中，相邻的至少两个像素单元101位于同一行或同一列中，或者相邻的至少两个像素单元101位于不同行或不同列中。曝光区域120具体排列方式如前文所述，在此不再赘述。
本步骤中，还进一步向液晶面板100的上下基板150和110提供一电压信号。
本发明实施例在进行了第一次UV光照后，进一步进行第二次UV光照。具体为通过光源11发射的紫外光照射液晶面板100，使可聚合单体108聚合形成高分子沉积于液晶面板的彩膜基板150和阵列基板110表面上，该聚合形成的高分子可以使液晶分子106在未加电压的情况下具有一定的预倾角，由此加快液晶分子的响应速度。
最后对液晶面板100进行切割、偏贴、模组绑定(Bonding)等步骤。
以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种液晶面板的制造机台，其特征在于，所述制造机台包括：
光源，用于向所述液晶面板提供所述光照；
掩膜板，设置在所述光源与所述液晶面板之间，所述掩膜板上设置有至少两种曝光区域，相邻的所述曝光区域的透光率不同，以通过调整不同的所述曝光区域的积光量的大小来调节所述液晶面板的液晶分子的预倾角的大小，从而使得不同曝光区域对应的液晶分子形成不同的预倾角。
2.根据权利要求1所述的制造机台，其特征在于，所述液晶面板还包括多个呈矩阵设置的像素单元；
所述曝光区域的大小与所述像素单元的大小相同且与所述像素单元一一对应。
3.根据权利要求1所述的制造机台，其特征在于，所述液晶面板还包括多个呈矩阵设置的像素单元；
所述曝光区域的大小与至少两个所述像素单元的大小相同且与相邻的至少两个像素单元一一对应。
4.根据权利要求3所述的制造机台，其特征在于，所述相邻的至少两个像素单元位于同一行或同一列中。
5.根据权利要求3所述的制造机台，其特征在于，所述相邻的至少两个像素单元位于不同行或不同列中。
6.根据权利要求1所述的制造机台，其特征在于，所述预倾角的角度范围为87度到90度。
7.一种液晶面板的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括以下步骤：
提供一液晶面板，其中，所述液晶面板包括液晶分子；
通过一掩膜版向所述液晶面板提供光照，其中，所述掩膜版设置至少两种曝光区域，相邻的所述曝光区域的透光率不同，以通过调整不同的所述曝光区域的积光量的大小来调节所述液晶面板的液晶分子的预倾角的大小，从而使得不同曝光区域对应的液晶分子形成不同的预倾角。
8.根据权利要求7所述的制造方法，其特征在于，所述预倾角的角度范围为87度到90度。
9.根据权利要求7所述的制造方法，其特征在于，所述曝光区域的大小与所述液晶面板的像素单元的大小相同且与所述像素单元一一对应。
10.根据权利要求7所述的制造方法，其特征在于，所述曝光区域的大小与至少两个所述液晶面板的像素单元的大小相同且与相邻的至少两个像素单元一一对应。
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