CN104813193A - 利用补偿井信息的先行电阻率的系统和方法 - Google Patents
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Abstract
本文中描述了用于获得深电阻率测量的系统和方法。该方法可包括从形成层内的第一钻孔获得第一形成层数据。该方法可进一步包括从被设置在第二钻孔中的钻探组件获得第二形成层数据。在某些实施例中，钻探组件可包括钻头以及随钻测量(MWD)或随钻测井(LWD)组件，并且可主动地钻探第二钻孔。第二形成层数据可对应于在钻头的前面和周围的形成层的一部分。可使第一形成层数据和第二形成层数据相关联，以标识形成层特性。该方法可进一步包括至少部分地基于形成层特性来改变钻探组件的操作条件。
Description
背景
本公开一般涉及钻井操作并且尤其涉及利用补偿井信息的先行(lookahead)电阻率的系统和方法。
现代钻井操作需要精确的操纵控制和操作以使钻孔着陆在油气(hydrocarbon)形成层中，同时避免危险的或在其它方面不期望的形成层地层。这样的操纵操作可能需要钻孔在大体垂直的轨迹上开始并且在其靠近特定形成层地层边界时过渡到水平轨迹以便着陆在期望的形成层地层中。生成电磁波的工具可被用于探测地层边界的周围的形成层，但在长距离处，归因于典型的形成层中的多层的存在以及远离钻孔的较低工具灵敏度，这些工具在标识形成层边界方面具有有限的有效性。给定在每100英尺10°的数量级上的大多数钻探操作的有限的折线(dog leg)能力，准确的深形成层测量的缺乏使得难以足够早地标识形成层边界以用于钻孔有效地着陆在期望的形成层地层中。
附图
通过部分地参考以下描述和所附附图可理解本公开的某些具体的示例性实施例。
图1A-1C示出了根据本公开的各方面的示例钻探系统。
图2示出了根据本公开的各方面的示例钻探组件。
图3示出了根据本公开的各方面的示例信息处理系统。
图4示出了根据本公开的各方面的示例反演方法。
图5示出了根据本公开的各方面的示例反演方法。
图6示出了根据本公开的各方面的作为井的深度的函数的补偿井和当前井的示例电阻率分布。
图7示出了根据本公开的各方面的来自当前井和补偿井的原始测量数据。
图8示出了根据本公开的各方面的作为钻头位置的函数的组合的先行和环行(look around)反演的分布。
虽然已经参考本公开的示例性实施例描绘、描述并限定了本公开内容的实施例，但这样的参考不意味着对本公开的限制，且不推断这样的限制。所公开的主题在形式和功能上存在相当多的修改、变更和等价方案，如本领域普通技术人员在获知本公开的益处后所能想到。所描绘和描述的本公开的诸实施例仅仅是示例，且不是对本公开范围的穷举。
详细描述
本公开一般涉及钻井操作并且尤其涉及用于利用补偿井信息的先行电阻率的系统和方法。
在本文中详细地描述了本公开的说明性实施例。为清楚起见，可能未在此说明书中描述实际实现方式的所有特征。当然将理解，在任一此类实际实施例的开发中，必须作出许多实现专属的决定以实现特定的实现目标，这些特定的实现目标将对于各实现而彼此不同。此外，将理解，此类开发努力可能是复杂而且耗时的，但对于获得本公开内容的益处的本领域普通技术人员而言仍会是例行任务。
为便于更好地理解本公开，给出了某些实施例的以下示例。以下示例绝不应理解为限制或限定本公开的范围。本公开的实施例可适用于任意类型的地层中的水平的、垂直的、偏离的、多边的、u形管连接、交叉、旁路(在中间深度的“被卡的落物(stuck fish)”周围钻探并返回到下面的井中)或在其它方面的非线性井眼。实施例可适用于注入井以及生产井，包括自然资源生产井(诸如硫化氢、油气或地热井)；以及用于河流交叉隧穿的钻孔施工和出于近表面施工目的的其它此类隧穿钻孔或用于诸如油气之类的流体的运输的钻孔u形管管道。下面相对于一种实现方式进行描述的实施例不旨在是限制性的。
根据本公开的各方面，本文中描述了用于获得深电阻率测量的系统和方法。该方法可包括从形成层内的第一钻孔获得第一原始测量。第一钻孔可包括例如用于勘测形成层的补偿井。该方法可进一步包括从被设置在第二钻孔中的钻探组件获得第二原始测量。在某些实施例中，钻探组件可包括钻头以及随钻测量(MWD)或随钻测井(LWD)组件，并且可以是主动地钻探第二钻孔。第二原始测量可从MWD/LWD组件或如以下将描述的另一类似工具中获得。显著地，如以下还将描述的，第二原始测量可对应于在钻头前面和周围的形成层的一部分。可处理第一原始测量和第二原始测量，并且可使第一经处理的原始测量和第二经处理的原始测量相关联以标识形成层特性。如以下将描述的，例如，通过使第二经处理的原始测量和第一经处理的原始测量相关联(其可包括勘测数据)，可增加深测量的准确度，提供更多的前置(lead)时间以操纵钻探组件。该方法可进一步包括至少部分地基于形成层特性来改变钻探组件的操作条件。如以下将描述的，改变操作条件可包括使钻探组件的轨迹偏离垂直，或者使钻探组件停止以避免穿透不期望的形成层边界。
根据本公开的各方面，本文中描述了用于获得深电阻率测量的另一种方法。该方法可包括从形成层内的第一钻孔获得第一原始测量。第一钻孔可包括例如用于勘测形成层的补偿井。该方法可进一步包括从被设置在第二钻孔中的钻探组件获得第二原始测量。在某些实施例中，钻探组件可包括钻头以及随钻测量(MWD)或随钻测井(LWD)组件，并且可主动地钻探第二钻孔。第二原始测量可从MWD/LWD组件或如以下将描述的另一类似工具中获得。显著地，如以下还将描述的，第二原始测量可对应于在钻头前面和周围的形成层的一部分。第二原始测量可被处理并反演以形成第二组反演的参数。第二组反演的参数随后可与可对应于第一原始测量的第一组反演的参数相关联以标识形成层特性。如以下将描述的，使用第一和第二组反演的参数，可增加深测量的准确度，提供更多的前置时间以操纵钻探组件。该方法可进一步包括至少部分地基于形成层特性来改变钻探组件的操作条件。
图1A-1C示出了根据本公开的各方面的示例钻探系统100。钻探系统100包括被安装在表面103处并且被置于地层(subterranean formation)104内的钻孔109上方的钻机101。包括钻柱110和井底组件(“BHA”)111的钻探组件190可被连接至钻机101，该钻机101被设置在钻孔109内并且主动地钻探。BHA 111可包括例如钻头112和包含多个测量或测井设备的测量或测井部分113以及以下将描述的其它机械元件，诸如钻探电机。测量或测井设备可包括具有多个发射器和接收器的电阻率测量工具，该多个发射器和接收器将电磁场114/115感应到形成层104中以确定形成层电阻率。电磁场114/115的部分114可在钻头112的前面被感应，并且电磁场114/115的部分115可在钻头112的周围被径向地(radially)感应。电磁场和系统的灵敏度可在BHA和钻头112的周围径向地以及在钻头112的前面轴向地延伸到还没有被钻探组件190刺穿的形成层104的一部分中。
钻探系统100可进一步包括钻孔105。钻孔105可包括例如，用于勘测和测井操作的补偿井、先前被用于确定对应于形成层104的形成层数据的生产井、或者当前正被钻探并且具有BHA的钻柱被设置在其中的钻孔。井下工具107可经由钢缆106或者经由类似于被设置在钻孔109中的190的钻探组件被设置在钻孔105中。井下工具107可包括将电磁场108感应到形成层104中以确定形成层电阻率的电阻率工具。在某些实施例中，可类似于钻探组件190中的测量或测井部分113配置井下工具107。由两者所感应的电磁场108和114/115在频率和分辨率上可以是类似的，从而使得由两者所获得的测量数据可被直接地进行比较，而不是必须被反演(inverted)，如以下将描述的。
在某些实施例中，可从钻孔105和钻孔109两者中获得原始测量。来自钻孔105的原始测量可包括形成层对所感应的电磁场108的电压响应。来自钻孔109的原始测量可包括形成层对所感应的电磁场114/115的电压响应。一般地，原始测量可包括电压、振幅或相位响应或从井下工具/钻探组件中直接获得而不是数据的反演的这些的任意线性函数中的至少一个，如以下将讨论的。在某些实施例中，原始测量可从被设置在钻孔105中的井下工具(诸如井下工具107)中获得。井下工具107可采取各种不同配置。例如，在某些实施例中，如可在图1B中看到的，井下工具107可以是被设置在钻孔105中的深读取(deep-reading)工具。由井下工具107所感应的电磁场108可由大的探测(investigation)深度进行表征并藉此提供有关周围的形成层104的最多信息，但可能未准确地解析薄的形成层。在某些实施例中，如可在图1B中看到的，可类似于被设置在钻孔109中的钻探组件190上的测量或测井部分113配置井下工具107。显著地，井下工具107可具有与测量或测井部分113类似的传感器配置和分辨率，允许原始测量在没有反演的情况下进行相关联以增加深读取准确度，藉此减小深读取解读的计算强度。
在某些实施例中，如可在图1C中看到的，井下工具107可包括浅读取工具，其中所感应的电磁场108由小于深读取工具的探测深度的探测深度进行表征，增加了薄的形成层的分辨率。在某些实施例中，可使用具有多个传感器布置的单个工具进行深测量和浅测量。在某些其它实施例中，可使用多个井下工具。显著地，如果传感器配置和分辨率与在钻孔109中的钻探组件190的测量或测井部分113中的不同，则来自钻孔105的原始测量可遵循以下将描述的反演过程与来自钻孔109的原始测量相关联。显著地，通过利用反演过程，浅读取测量和深读取测量两者均可被结合到原始测量中并且被用于增加先行确定的准确度而不论测量设备158的配置。
返回至图1A，从钻孔109获得的原始测量可包括形成层104对所感应的电磁场114/115的电压响应。如上所述，由于电磁场114/115的一部分114是在钻头112的周围径向地感应的并且电磁场114/115的一部分115是在钻头112的前面感应的，因而第二原始测量可对应于在钻头112的前面和周围的形成层的一部分。在某些实施例中，钻探组件190可包括一测量设备，至少一个发射器和至少一个接收器耦合到该测量设备，该测量设备位于测量或测井部分113内的工具上或与部分113分开，以将电磁场114/115感应到形成层中并从形成层中获得原始测量。
钻探组件190可将原始测量发送到置于表面130上的控制单元102。可例如经由遥测系统或有线的通信路径来发送原始测量。同样地，来自井下工具107的原始测量可被直接发送到控制单元102，或者可在测量初始形成层数据/勘测数据之后的某个时间点上在控制单元102处获得。控制单元102可包括信息处理系统。
钻孔105和钻孔109可穿透形成层104，该形成层104可包括地层150-153。地层150-153中的每一个可分别具有取决于形成层的组分的不同的电阻率值R1、R2、R3和R4。地层152可以是油气层，其中需要操纵钻孔109。在某些实施例中，钻孔109可能需要沿着路径116进行钻探，并且在地层152内结束。为了使钻探组件着陆在地层152内，需要尽可能早地知道地层151和152之间的边界170的精确位置以考虑在每100英尺10°的数量级上的钻探组件的有限的折线能力。在某些实施例中，来自井下工具107的原始测量可被用作先验信息源。例如，原始测量可被用于在钻探之前创建形成层模型，或者可被诸如控制单元102之类的信息处理系统反演并且被用于在钻头接近感兴趣的形成层之前标识特定形成层特性。形成层特性可包括但不限于，总的形成层电阻率、水平的形成层电阻率、垂直的形成层电阻率、形成层地层位置、形成层地层宽度以及形成层地层倾角。同样地，形成层数据可包括关于形成层104的一般勘测数据，包括形成层密度、音速测量、伽马射线测量等。
图2示出了示例钻探组件200。钻探组件200可对应于钻探组件190，并且表示根据所呈现的公开的各方面的一个示例钻探组件配置。钻探组件200包括钻头203以及以发射器阵列201和接收器阵列202为形式的至少一个发射器和至少一个接收器。为了增加测量的深度，发射器201和接收器202可被分开在10-200英尺的数量级的径向距离，因为检测的深度近似是双倍的径向距离。在某些实施例中，发射器201和接收器202可包括天线或电极。为了最大化在钻头203前面的测量的深度，发射器201或接收器202中的至少一个可尽可能可行地靠近钻头203进行放置。这可包括将发射器201或接收器202中的至少一个置于钻探电机204上，该钻探电机204通常位于钻头203附近。对于感应测量，发射器201和接收器202可以是被缠绕在钻探组件200中的一个或多个槽中的倾斜的线圈天线，从而形成磁偶极子。例如，可使线圈倾斜以使电磁场聚焦在钻探组件200的周围或者聚焦在钻头203的前面。
图3中所示的是示例信息处理系统300的框图。类似于信息处理系统300的信息处理器系统可被用作来自图1A的控制单元102。信息处理系统300的处理器或CPU 301可被通信地耦合至存储器控制器中枢或北桥302。存储器控制器中枢302可被耦合至RAM 303和图形处理单元304。存储器控制器中枢302还可被耦合至I/O控制器中枢或南桥305。I/O中枢305可被耦合至计算机系统的存储元件，包括存储元件306，该存储元件可包括包含计算机系统的BIOS的闪存ROM。I/O中枢305还被耦合至计算机系统的硬盘驱动器307。硬盘驱动器307可被表征为有形计算机可读介质，该有形计算机可读介质包含当由处理器301执行时，使信息处理系统300执行预先确定的一组操作的一组指令。例如，根据本公开的特定实施例并且如下面将进行讨论的，硬盘驱动器307可包含指令，当被执行时，该指令使CPU 301获得第一和第二原始测量并且对原始测量执行复杂计算，包括使原始测量相关联以确定形成层特性。该指令可进一步使CPU 301改变钻探组件的操作条件。
在某些实施例中，I/O中枢305还可被耦合至超级I/O芯片308，该超级I/O芯片308自身被耦合至计算机系统的I/O端口中的几个，包括键盘309、鼠标310以及一个或多个并行端口。超级I/O芯片308可进一步被耦合至网络接口卡(NIC)311。信息处理系统300可通过NIC 311接收第一和第二形成层数据以用于在本地存储设备(诸如硬盘驱动器207)上的处理或存储。在某些实施例中，第一和第二原始测量可在处理器处被获得并且被保存在专用的大容量存储设备(未示出)处。
图4示出了可将来自钻孔105的先验信息与由钻探组件190进行的来自钻孔109的测量一起使用以改进“先行”测量的深度和准确度的示例处理方案。处理方案400可在信息处理系统中实现，该信息处理系统可包括当由信息处理系统的处理器执行时使信息处理系统执行这些步骤中的一些或全部的一组指令。步骤401可包括从形成层内的第一钻孔(诸如图1中的钻孔105)接收第一原始测量。步骤402可包括从被设置在第二钻孔中的钻探组件(诸如图1中的钻孔109中的钻探组件190)接收第二原始测量。在某些实施例中，在任何数据关联发生之前，可分别在步骤403和404处处理第一原始测量和第二原始测量。例如，处理可包括：从钻孔接收原始测量；合成信号以说明传感器类型和布置；针对各种噪声和误差条件进行过滤；将信号转换成极或实/虚形式、振幅/相位形式；以及归一化这些信号。
在步骤405处，可匹配第一经处理的原始测量和第二经处理的原始测量。可使用两个钻井记录(log)(诸如深度、电阻率、分辨率、层宽度和/或倾角)之间的差异来匹配这些测量。可通过对准电阻率或相对于深度的任何其它钻井记录中的相似图案来执行深度匹配。可通过首先标识这两个钻井记录中的公共层边界并且然后调节一个钻井记录中的每一个边界中的电阻率以匹配另一个钻井记录中的电阻率来执行电阻率匹配。可通过首先从钻井记录之一中获得电阻率分布并且然后执行建模以产生利用另一个钻井记录中的测量工具的结果来执行分辨率匹配或倾角匹配。还可通过应用被调节以匹配钻井记录的垂直分辨率或探测深度的过滤器来执行分辨率匹配。通过以来自另一个钻井记录的相应层的宽度代替一个钻井记录中的层宽度同时保持电阻率相同来执行层宽度匹配。同样地，匹配可包括组合上述匹配方案中的一些或全部。在特定实施例中，出于匹配的目的，可在补偿井中运行深读取工具，其可提供更可靠的参考以用于跟踪操作。然而，如果井下工具和钻探组件在配置、深度、电阻率、分辨率、层宽度和/或倾角方面不同，则第一形成层数据可与第二形成层数据进行匹配。
在步骤406处，可连同来自其它源的一般形成层勘测数据一起使第一和第二经处理的原始测量相关联。步骤406还可包括在捕获第一形成层数据时将内插应用于经关联的数据以标识补偿井眼中的井下工具(诸如钻孔105中的工具107)的位置407。步骤408可包括将内插应用于第一原始测量或第一经处理的原始测量的数值反演409以及井下工具的经标识的位置407以产生预测的形成层特性410。在某些实施例中，来自反演计算的经预测的形成层特性可包括但不限于：真实的电阻率、水平电阻率、垂直电阻率、形成层地层位置以及形成层地层倾角。在特定实施例中，第一原始测量或第一经处理的原始测量的数值反演409可包括类似于经预测的形成层特性410的值，但数值反演409值可仅仅基于第一原始测量。在确定经预测的形成层特性410之后，可至少部分地基于形成层特性中的至少一个来改变钻探组件的操作条件。在某些实施例中，改变操作条件可包括：对井进行地质导向，诸如使钻探组件偏离垂直轨迹；使井着陆在期望的地层内；将井保持在距附近的层指定的距离内；以及在钻探组件刺穿非期望的地层之前使该钻探组件停止。
图5示出了根据本公开的各方面的另一个示例处理方案。类似图4中所示的处理方案，图5中的处理方案可在信息处理系统中实现，该信息处理系统可包括当由信息处理系统的处理器执行时，使信息处理系统执行这些步骤中的一些或全部的一组指令。有别于其中第二原始测量未被反演作为处理方案的一部分的图4，将现有的勘测数据的程式库(library)数据库503以及形成层的正演(forward)模型504考虑进去，图5在框502处反演第二原始测量(其可在反演之前进行处理)501。如可见的，反演502可产生第二组反演的参数505。第二组反演的参数505可包括对应于在钻探组件周围的那部分形成层的参数以及对应于在钻探组件前面的那部分形成层的参数，包括诸如总的形成层电阻率、水平的形成层电阻率、垂直的形成层电阻率、形成层地层位置、形成层地层宽度以及形成层地层倾角之类的值。反演502还可生成钻孔或井眼轨迹参数506，其可被反馈到反演算法中以改善结果。
第二组反演的参数505随后可在框508处与对应于来自补偿井的第一原始测量的第一组反演的参数507进行关联和内插。可结合深度、电阻率、分辨率、层宽度和/或倾角尺寸来执行关联。在某些实施例中，第二组反演的参数505和第一组反演的参数507可包括针对相同的形成层特性：总的电阻率、水平电阻率、垂直电阻率、形成层地层位置以及形成层地层倾角的不同的确定。在框508处的关联和内插可产生预测的形成层特性值510，该预测的形成层特性值510随后可被用于改变钻探组件的操作条件，并且作为反演算法的输入以提高反演准确度。在某些实施例中，即使预期产生较小的探测深度、较小的范围以及潜在较低的分辨率，第二组反演的参数505也可被用于改变钻探组件的操作条件。
图6示出了在1到20Ωm过渡的情况下作为井的深度的函数的补偿井(a)和当前井(b)的示例电阻率分布。电阻率分布可以是基于如图7中所示的来自补偿井和当前井的原始测量。显著地，以具有实和虚的电压响应分量的对数形式示出了原始测量。如可在图中看出的，在每一层中发现相同的电阻率值，但层厚度改变了，类似于图1中所示的地层。深和浅读取工具两者已经被用在补偿井中。所示的Z坐标指示发射器的深度/位置，该发射器处于钻头的紧密邻近处。图8示出了作为钻头位置(x-轴)的函数的先行和环行(look around)反演的分布(y-轴)，并且示出了补偿井的结合以更好地限定形成层的倾角、深度和电阻率。
因此，本公开良好适应于达到所述以及原来固有的目的和优势。以上公开的特定实施例仅仅是说明性的，因为本公开可按不同但等效的方式来修改和实施，这对于受益于本文教导的本领域技术人员而言是显而易见的。另外，除非在所附权利要求书中有具体的说明，否则本公开不限于本文所示的具体结构或设计。因此，显然，上述公开的特定说明性实施例可被修改或修正，并且所有这些变型都被认为落在本公开的范围和精神内。再者，除非本专利权人另有明确和清晰地说明，权利要求中的术语有其普遍的、通常的含义。本文定义的权利要求中使用的不定冠词“一个”或“一种”指其介绍的一种或多于一种的元素。
Claims (20)
1.一种用于获得深电阻率测量的方法，包括：
从形成层内的第一钻孔获得第一原始测量；
从被设置在所述形成层内的第二钻孔中的钻探组件获得第二原始测量，其中所述钻探组件包括钻头，并且其中所述第二原始测量对应于在所述钻头的前面和周围的所述形成层的一部分；
处理所述第一原始测量和所述第二原始测量；
使第一经处理的原始测量与第二经处理的原始测量相关联，以标识在所述钻头的前面的预测的形成层特性；
至少部分地基于所预测的形成层特性来改变所述钻探组件的操作条件。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，处理所述第一原始测量和所述第二原始测量包括下列中的至少一个：
合成所述第一原始测量和所述第二原始测量以说明传感器类型和布置；
针对各种噪声和误差条件过滤所述第一原始测量和所述第二原始测量；
将所述第一原始测量和所述第二原始测量转换成极或实/虚形式；以及
归一化所述第一原始测量和所述第二原始测量。
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，进一步包括：如果用于从所述第一钻孔获得所述第一原始测量的井下工具在传感器配置、深度、电阻率、分辨率、层宽度和/或倾角中的至少一个方面与所述钻探组件不同，则匹配所述第一经处理的原始测量和所述第二经处理的原始测量。
4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，改变所述钻探组件的操作条件包括偏离所述钻探组件的垂直轨迹、着陆到形成层、维持距所述形成层的特定距离、或使所述钻探组件停止中的至少一个。
5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所预测的形成层特性包括真实的形成层电阻率、水平的形成层电阻率、垂直的形成层电阻率、形成层地层位置和形成层地层倾角中的至少一个。
6.如权利要求2所述的方法，其特征在于，使第一经处理的原始测量与第二经处理的原始测量相关联以标识在所述钻头的前面的预测的形成层特性包括：
至少部分地基于所关联的第一和第二经处理的原始测量来确定在所述第一钻孔内的井下工具的位置；以及
利用所述位置和第一经处理的原始测量的数值反演来标识所预测的形成层特性。
7.如前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，所述钻探组件包括耦合到它的至少一个发射器和至少一个接收器。
8.如权利要求1-6中任一项所述的方法，其特征在于，所述第一原始测量和所述第二原始测量分别包括第一和第二电压响应。
9.一种用于获得深电阻率测量的方法，包括：
从形成层内的第一钻孔获得第一原始测量；
从被设置在所述形成层内的第二钻孔中的钻探组件获得第二原始测量，其中所述钻探组件包括钻头，并且其中所述第二原始测量对应于在所述钻头的前面和周围的所述形成层的一部分；
处理所述第二原始测量；
反演第一经处理的原始测量以形成第一组反演的参数
反演第二经处理的原始测量以形成第二组反演的参数；
使所述第二组反演的参数与所述第一组反演的参数相关联，以标识在所述钻头的前面的预测的形成层特性；
至少部分地基于所预测的形成层特性来改变所述钻探组件的操作条件。
10.如权利要求9所述的方法，其特征在于，处理所述第二原始测量包括下列中的至少一个：
合成所述第二原始测量以说明传感器类型和布置；
针对噪声和误差条件过滤所述第二原始测量；
将所述第二原始测量转换成极或实/虚形式；以及
归一化所述第二原始测量。
11.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述第一原始测量包括来自第一探测深度和比所述第一探测深度浅的第二探测深度的值。
12.如权利要求9所述的方法，其特征在于，改变所述钻探组件的操作条件包括偏离所述钻探组件的垂直轨迹、着陆到形成层、维持距形成层的特定距离或使所述钻探组件停止中的至少一个。
13.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所预测的形成层特性包括真实的形成层电阻率、水平的形成层电阻率、垂直的形成层电阻率、形成层地层位置和形成层地层倾角中的至少一个。
14.如权利要求9所述的方法，其特征在于，反演所述第二经处理的原始测量以形成第二组反演的参数包括：
接收所述第二经处理的原始测量；以及
至少部分地基于程式库数据库和正演建模来反演所述第二经处理的原始测量。
15.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述第二组反演的参数包括在所述钻头的前面的形成层的电阻率值。
16.如前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，所述第一原始测量和所述第二原始测量分别包括第一和第二电压响应。
17.一种用于优化深电阻率测量的系统，包括：
处理器；
存储设备，耦合至所述处理器；
其中所述存储设备包含一组指令，所述指令在由所述处理器执行时使所述处理器：
从形成层内的第一钻孔接收第一原始测量；
从被设置在所述形成层内的第二钻孔中的钻探组件接收第二原始测量，其中所述钻探组件包括钻头，并且其中第二形成层数据对应于在所述钻头的前面和周围的所述形成层的一部分；
处理所述第一原始测量和所述第二原始测量；
使第一经处理的原始测量与第二经处理的原始测量相关联，以标识在所述钻头的前面的预测的形成层特性；
至少部分地基于所预测的形成层特性来改变所述钻探组件的操作条件。
18.如权利要求17所述的系统，其特征在于，所述一组指令在由所述处理器执行时进一步使所述处理器在用于从所述第一钻孔获得所述第一原始测量的井下工具在传感器配置、深度、电阻率、分辨率、层宽度和/或倾角中的至少一个方面与所述钻探组件不同的情况下匹配所述第一经处理的原始测量和所述第二经处理的原始测量。
19.如权利要求17或权利要求18所述的系统，其特征在于，所述第一原始测量和所述第二原始测量分别包括第一和第二电压响应。
20.如权利要求17或权利要求18所述的系统，其特征在于，所预测的形成层特性包括真实的形成层电阻率、水平的形成层电阻率、垂直的形成层电阻率、形成层地层位置和形成层地层倾角中的至少一个。
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