CN104765234A - 投影机 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种投影机，该投影机包含光源、数位微镜装置、第一棱柱及第二棱柱。光源发出入射光。数位微镜装置接收并反射入射光为成像光。第一棱柱置于光源及数位微镜装置间，用以接收并传递入射光。第二棱柱置于第一棱柱及数位微镜装置间。第一棱柱包含第一面、第二面、及具有反射部的中继部。第二面传递来的入射光经反射部反射再穿透第二面。第二棱柱包含第四面、第五面及第六面。入射光穿透第四面及第五面至数位微镜装置。当数位微镜装置处于关闭状态时，成像光被反射至第六面，且成像光中的漏光线在第六面反射后沿既定光路远离第一棱柱和第二棱柱。借此，以具备微型化的体积外，亦能防止漏光线的影响。

Description

投影机

技术领域

本发明描述一种投影机，尤指一种具有二轴翻转式的数位微镜装置且低漏光的投影机。

背景技术

投影机利用成像原理并藉由数位微镜装置(Digital Micro-mirror Device，DMD)，可将微小影像投影到巨幅荧幕上，并提供足够的亮度，将影像资讯分享给众人。

图1为传统投影机50的元件架构图，如图1所示，传统投影机50包含了数位微镜装置10，全反射(Total Internal Reflection，TIR)棱镜组11，反射镜12，透镜模组13，以及光导管(Light Pipe)14。为了定义视角方向，图1的右边显示了直角坐标系的3个轴向。以图1而言，X轴为由原点向右的方向，Y轴为由原点向下的方向，Z轴为指入的方向。在传统投影机50中，入射光经由光导管14穿过透镜模组13，再经由反射镜12反射至全反射棱镜组11，最后经由数位微镜装置10将成像光传至镜头而投射至荧幕上。然而，传统投影机50的数位微镜装置10因为物理特性的限制，只能接受入射光以斜射入射。因此，全反射棱镜组11相对数位微镜装置10倾斜角度设置(例如45度)，这将导致传统投影机50的体积受到限制，在追求微小化投影机的今日，传统投影机50过大的体积将导致便利性不足而逐渐失去竞争力。

此外，传统投影机50在数位微镜装置处于关闭状态时，可能会因其成像光的漏光被全反射棱镜组11反射回机身内部而发生散射(Scattering Reflection)或漫射(Diffuse Reflection)，如被棱镜的尖角处、胶合处或是透镜边缘处反射回系统内，而降低影像画面的对比度，影响成像品质。

因此，发展一种体积较小且低漏光的投影机是非常重要的。

发明内容

本发明的目的在于提供一种投影机，其利用二轴翻转式的数位微镜装置，在光路系统中引入反射透镜，并且引入了低反射区或断面结构，使得投影机除了具备微型化的体积外，亦能防止漏光线的影响，故其影像输出具有高对比度及品质。

为达上述目的，本发明提供了一种投影机，该投影机包含：

光源，用于发射入射光；

数位微镜装置，于相互垂直的第一方向及第二方向分别具有第一边及第二边，该第一边长于该第二边，该数位微镜装置用来接收并反射该入射光为成像光；

第一棱柱，设置于该光源及该数位微镜装置之间，用以接收并传递该入射光，该第一棱柱包含：

第一面，邻近该光源且用以接收该入射光；

第二面，邻接该第一面；及

中继部，邻接该第一面且具有反射部，该反射部用以反射该入射光至第二面；及

第二棱柱，设置于该第一棱柱及该数位微镜装置间，该第二棱柱包含：

第四面，平行于该第二面且用以接收该入射光并反射该成像光；

第五面，邻接该第四面且平行于该数位微镜装置，该第五面具有平行该第一边的邻接边；及

第六面，邻接该第四面及该第五面且与该投影机的镜头相对；

其中，该入射光依序穿透该第四面、该第五面且经该数位微镜装置反射为成像光至该第六面，当该数位微镜装置处于关闭状态时，该成像光中的漏光线经该第六面被反射至既定光路以远离该第一棱柱和该第二棱柱，该反射部在该既定光路外。

较佳的，该数位微镜装置为二轴翻转式的数位微镜装置。

较佳的，该第六面垂直于该第五面。

较佳的，，该中继部具有第三面，该反射部为位于该第三面上的镜面涂层；或者，该中继部具有第三面，该反射部为反射面，该反射面与该第三面相对。

较佳的，，该投影机还包含透镜模组，该透镜模组设置于该光源及该第一面之间。

较佳的，该透镜模组的有效焦距在80mm-82mm之间。

较佳的，该投影机还包含光导管，该光导管设置于该光源及该透镜模组之间，用以接收并传递该入射光。

较佳的，该光导管为楔形光导管。

较佳的，该光导管、该透镜模组、该第一棱柱、该第二棱柱、该数位微镜装置组成光机系统，且该光机系统的放大倍率在1.7-1.9之间。

较佳的，该中继部具有低反射区，当该数位微镜装置处于该关闭状态时，该成像光中的漏光线经该第六面被反射至沿该既定光路被该低反射区接收以远离该第一棱柱和该第二棱柱；

或者，该中继部具有第三面，该中继部包含具有断面的反射镜，该反射镜未覆盖该第三面而具有断面，该反射镜的断面与该第三面之间构成空间，当该数位微镜装置处于该关闭状态时，该成像光中的漏光线经该第六面被反射至沿该既定光路穿过该空间以远离该第一棱柱和该第二棱柱；

或者，该中继部具有第三面，该中继部包含具有断面的反射镜，该反射镜未覆盖该第三面而具有断面，该第一棱柱具有断面，该第一棱柱的断面邻接该第二面和该第三面，该第一棱柱的断面、该第四面与该反射透镜的断面之间构成空间，当该数位微镜装置处于该关闭状态时，该成像光中的漏光线经该第六面被反射至沿该既定光路穿过该空间以远离该第一棱柱和该第二棱柱。

与现有技术相比，本发明提供的投影机采用二轴翻转式的数位微镜装置，在光路系统中引入反射透镜，并且引入了低反射区或断面结构，优化了空间配置性、缩小体积，以得投影机具备微型化的体积外，亦能防止漏光线的影响，故其影像输出具有高对比度及品质。

附图说明

图1为传统投影机的元件架构图。

图2为本发明第一实施例的投影机的元件架构及当数位微镜装置处于开启状态时的光路示意图。

图3为2图实施例的投影机中两个棱柱结构的示意图。

图4为图2实施例的投影机，当数位微镜装置处于关闭状态时的光路示意图。

图5为图2实施例的投影机中，反射部及低反射区位于中继部内的相对位置的示意图。

图6为图2实施例投影机的光机系统的侧视图。

图7为本发明第二实施例的投影机的元件架构及当数位微镜装置处于开启状态时的光路示意图。

图8为图7实施例的投影机，当数位微镜装置处于关闭状态时的光路示意图。

图9为本发明第三实施例的投影机，当数位微镜装置处于关闭状态时的光路示意图。

具体实施方式

为使对本发明的目的、构造、特征、及其功能有进一步的了解，兹配合实施例详细说明如下。

图2为本发明第一实施例的投影机100的元件架构及当数位微镜装置20处于开启状态时的光路示意图，图3为投影机100中两个棱柱结构的示意图，而图4描述了当投影机100中数位微镜装置20处于关闭状态时的光路示意图。以下将依序说明本发明第一实施例的投影机100的架构，棱镜组的结构，以及投影机100在数位微镜装置20处于开启状态与关闭状态时的光路。如图2所示，投影机100包含了数位微镜装置20、透镜模组21、光导管22、光源23、镜头24、第一棱柱S1及第二棱柱S2。其中，光导管22、透镜模组21、第一棱柱S1、第二棱柱S2及数位微镜装置20构成投影机100中的光机系统(OpticalMechanical System，OMS)。光源23用来发射入射光A。数位微镜装置20为矩形的平面装置，具有复数个微镜以用来反射入射光A为成像光B，且数位微镜装置20具有相互垂直的长边C与短边D(如图6所示)。在本实施例中，数位微镜装置20为二轴翻转式的晶片组(TRP(Tilt&Roll Pixel)Pico^TMchipset)，其微镜沿二对角线各翻转12度，等效相对于长边方向(X轴向)翻转17度，用以将入射光A以约34度反射为成像光B。本实施例的数位微镜装置20将考虑开启状态(On State)及关闭状态(OffState)的操作模式。镜头24用来接收成像光B。第一棱柱S1以及第二棱柱S2设置于透镜模组21、数位微镜装置20与镜头24之间，用以接收由透镜模组21传来的入射光A，将其反射至数位微镜装置20。当数位微镜装置20处于开启状态时，成像光B将被传递至镜头24上。第一棱柱S1具有中继部R。中继部R邻接第一面P1(于图3所示)且具有反射部26。反射部26可为第一棱柱S1于第三面P3(于图3所示)上的镜面涂层。入射光A穿透光导管22及透镜模组21，沿光路L1至第一棱柱S1，并在第一棱柱S1内沿光路L2反射至反射部26。入射光A经反射部26反射后，依序沿光路L3、L4至数位微镜装置20。数位微镜装置20将入射光A反射为成像光B。在图2中，当数位微镜装置20处于开启状态时，成像光B于第二棱柱S2内沿光路L5传递并依据光路L6穿透第二棱柱S2而被镜头24接收。而在图4中，当数位微镜装置20处于关闭状态时，成像光B中的漏光线B1，即成像光B的边缘光(Marginal Ray)，经第二棱柱S2的第六面P6(于图3所示)全反射，并沿既定光路L10远离第一棱柱S1及第二棱柱S2。入射光A、成像光B及漏光线B1的传递过程的细节将于后文详述。为了定义视角方向，图2及图4的右下角显示了直角坐标系的3个轴向。在图2及图4中，X轴为指出方向，Y轴为由原点向上的方向，Z轴为由原点向左的方向。在本实施例中，第一棱柱S1与第二棱柱S2之间存在间隙，第二棱柱S2与数位微镜装置20之间存在间隙，但本发明不限于此，其它实施例中，第一棱柱S1与第二棱柱S2之间可为紧密贴合，第二棱柱S2与数位微镜装置20之间可为紧密贴合。后文将先详细说明投影机100中的第一棱柱S1与第二棱柱S2的结构(图3)，再详述其入射光A、成像光B及漏光线B1在两个棱柱间于数位微镜装置20考虑开启状态时(图2)及关闭状态时(图4)的传递过程。

图3为本发明第一实施例投影机100内第一棱柱S1及第二棱柱S2结构的示意图。在本实施例中，第一棱柱S1为三角棱柱，具有五个平面，包含第一三角型平面TP1、第二三角型平面TP2、第一面P1、第二面P2及中继部R。中继部R邻接于第一面P1且具有第三面P3。而第一面P1与第二面P2之间具有第一夹角A1，第二面P2与第三面P3之间具有第二夹角A2、第三面P3与第一面P1之间具有第三夹角A3。在本实施例中，第三夹角A3会大于第一夹角A1及第二夹角A2。举例来说，第一夹角A1为35.5度，第二夹角A2为45.0度，第三夹角A3为99.5度。第二棱柱S2亦为三角棱柱，具有五个平面，包含第三三角型平面TP3、第四三角型平面TP4、第四面P4、第五面P5及第六面P6。而第四面P4与第五面P5之间具有第五夹角A5，第四面P4与第六面P6之间具有第四夹角A4，第五面P5与第六面P6之间具有第六夹角A6。在本实施例中，第五夹角A5相等于第二夹角A2。举例来说，第五夹角A5为45.0度，第四夹角A4亦为45.0度，而第六夹角A6为90.0度。在本实施例中，第一棱柱S1与第二棱柱S2在较佳实施例中会满足以下的位置条件：第一棱柱S1的第二面P2平行于第二棱柱S2的第四面P4，第二棱柱S2的第五面P5平行于图2中的数位微镜装置20(于Z轴平行)，第二棱柱S2的第五面P5垂直于第六面P6，且第二棱柱S2的第五面P5与第六面P6的邻接边E平行于数位微镜装置20的长边(于X轴平行)。应了解的是，端视投影机100设计需求，第一棱柱S1的第一面P1平行于第二棱柱S2的第六面P6。以下将详述投影机100中入射光A、成像光B及漏光线B1在两个棱柱间于数位微镜装置20考虑开启状态时及关闭状态时的传递过程。

在投影机100中，入射光A自光源23被发射后随即被光导管22接收。本实施例所用的光导管可为楔形(Wedge)的光导管22，即光导管22接收入射光A的入光端面积大于输出入射光A的出光端面积，因此可以有效提升光导管22的收光量(Coupling Efficiency)。入射光A依序穿透光导管22及透镜模组21。透镜模组21的功能为利用聚焦的物理特性集束入射光A，使入射光A照射数位微镜装置20上的微镜。实施例中的透镜模组21为至少一个以上的透镜组成，其等效焦距在80～82mm之间，然而其它实施例亦可以使用其它焦距。在本实施例中，入射光A穿过透镜模组21之后垂直入射于第一棱柱S1的第一面P1，亦即入射光A入射的方向平行于第一面P1的法向量(NormalVector)。入射光A于第一棱柱S1内沿着光路L1前进，并于第一棱柱S1的第二面P2发生全反射(Total Internal Reflection)。被第二面P2全反射后的入射光A继续沿光路L2前进至中继部R的反射部26。中继部R具有第三面P3，在本实施例中，反射部26为第三面P3上的镜面镀膜结构。反射部26反射入射光A沿光路L3至第二面P2。入射光A沿光路L3穿过第二面P2后，于第一棱柱S1与第二棱柱S2间因空气介质而发生折射，并依序穿过第二棱柱S2的第四面P4、沿光路L4前进、穿过第五面P5，最后被数位微镜装置20接收。在此，由于数位微镜装置20为矩形结构，分别于X轴及Z轴具有相互垂直的长边C及短边D(如图6所示)，而第二棱柱S2的第五面P5与第六面P6的邻接边E与数位微镜装置20的长边C平行(于X轴平行)。因此，入射光A沿光路L4入射数位微镜装置20于XZ平面上可视为入射光A朝数位微镜装置20的长边C入射，如图6所示。由于数位微镜装置20为二轴翻转式的晶片组，当数位微镜装置20处于开启状态时，其微镜沿二对角线各翻转12度。因此，在图2中，入射光A沿光路L4入射数位微镜装置20时，会被约以34度反射为成像光B。成像光B依序沿光路L5前进，穿过第五面P5而进入了第二棱柱S2中。成像光B依序沿光路L5至第四面P4，并在第四面P4被反射。被第四面P4反射后的成像光B沿光路L6穿透第六面P6至镜头24。在图2中，成像光B在第四面P4的反射为全反射，且成像光B近乎垂直入射于第二棱柱S2的第六面P6，故成像光B将直接穿透第六面P6而被镜头24接收。换言之，当数位微镜装置20处于开启状态时，成像光B于第六面P6不会发生任何反射或折射。在图4中，当数位微镜装置20处于关闭状态时，经数位微镜装置20反射后的成像光B，大部分会沿光路L7行进、经第四面P4反射，再沿着光路L8穿透第六面P6。意即，大部分的成像光B(Chief Ray)不会被镜头24接收。然而，在图4中，经由数位微镜装置20反射后的成像光B中，少部分的成像光B变成漏光线B1(即成像光B的边缘光Marginal Ray)，其能量约为4％的成像光B能量。漏光线B1将沿光路L9前进，经由第六面P6被反射，再沿既定光路L10前进被低反射区L接收。因此，在图2及图4中的投影机100，当数位微镜装置20处于开启状态时，成像光B将由镜头24接收，而当数位微镜装置20处于关闭状态时，成像光B将不会被镜头24接收，但会产生小能量的漏光线B1。然而，漏光线B1将沿着既定光路L10被低反射区L接收，相当于漏光线B1将被低反射区L吸收，或漏光线B1将直接穿透低反射区L，以使漏光线B1沿既定光路L10远离第一棱柱S1及第二棱柱S2，故不会造成漏光线B1散射(Scattering Reflection)或漫射(Diffuse Reflection)于第一棱柱S1或第二棱柱S2-而被镜头24接收，进而提升投影机100的对比度。

图5为投影机100内反射部26及低反射区L于中继部R内相对位置的示意图。在本实施例中，反射部26在既定光路L10之外，因此漏光线B1不会被反射部26反射，反射部26仅用以反射入射光A。在本实施例中，低反射区L可为透明涂层，以使漏光线B1直接穿透低反射区L。低反射区L亦可为抗反射涂层，例如BARE涂层(具有96％光线吸收率与4％光线反射率)，或是AR涂层(具有99.5％光线吸收率与0.5％光线反射率)。然而，本发明投影机100的低反射区L不限于上述的材质，其它实施例中亦可为任何高光线吸收率的材质。并且，本发明投影机100的低反射区L及反射部26的范围/位置不限于图5中的型式，亦可为任何满足反射入射光A至数位微镜装置20上且不反射漏光线B1的范围/位置。例如可适当缩小反射部26的范围并置于中继部R的中心区域，以符合入射光A使用最小反射面积反射至数位微镜装置20中，而低反射区L的范围亦可适当调整以增加抵抗漏光线B1散射或漫射的能力。

图6为投影机100的光机系统OMS的侧视图。在图6中，投影机100的光机系统OMS的视角定义为：X轴为由原点向下的方向，Y轴为指出方向，Z轴为由原点向左的方向。因此，图2及图4中的入射光A穿过光导管22、透镜模组21、全反射棱镜组25(包含第一棱柱S1及第二棱柱S2)而到达数位微镜装置20的光路方向，如图6中的视角所示，入射光A为直线前进(图2及图4中入射光A的光路变化于YZ平面，因此，如图6的XZ平面所示，光路为直线方向)。由于在图6中，入射光A朝数位微镜装置20的长边C入射，且全反射棱镜组25与数位微镜装置20之间并无倾斜角度，因此本发明的投影机100的体积相较于传统投影机将具备更优化的空间配置性。

图7为本发明第二实施例的投影机200的元件架构及当数位微镜装置20处于开启状态时的光路示意图，而图8描述了投影机200中当数位微镜装置20处于关闭状态时的光路示意图。如图7及图8所示，投影机200的结构与投影机100类似，包含光源23、光导管22、透镜模组21、数位微镜装置20、第一棱柱S1、第二棱柱S2及镜头24。而图7及图8的视角方向与图2及图4相同，故不再赘述。投影机200与投影机100的差异点在于，在投影机200中，其光机系统OMS的等效焦距可为透镜模组21与中继部R内具有断面的反射透镜27匹配而成，而投影机100的等效焦距即为透镜模组21的焦距。换言之，投影机200可用更短的光路距离达成光机系统OMS的等效焦距。因此，入射光A的光路距离将被缩短，空间配置性能获得更进一步的优化。在图7中，当数位微镜装置20处于开启状态时，成像光B即如图2的投影机100所述，最后沿光路L6传出而被镜头24接收。在图8中，当数位微镜装置20处于关闭状态时，漏光线B1的传输方式如图4所述，由光路L9前进，被第六面P6全反射，再经由既定光路L10依序穿透第四面P4、第二面P2及第三面P3。在此，由于投影机200所用的反射透镜27未覆盖第三面P3而具有断面28，断面28与第三面P3之间构成空间，且此空间恰位于漏光线B1的既定光路L10上。因此，漏光线B1穿过第三面P3后，将沿既定光路L10继续穿过此空间而远离第一棱柱S1及第二棱柱S2。故在投影机200中，当数位微镜装置20处于关闭状态时，漏光线B1不会发生散射或漫射的现象。

图9为本发明第三实施例的投影机300的元件架构及当数位微镜装置20处于关闭状态时的光路示意图。投影机300的元件架构及数位微镜装置20处于开启状态时的光路与投影机200相似，因此不再赘述。投影机300与投影机200的相异点在于投影机300内的第一棱柱S1包含一个断面29，且此断面29邻接于第二面P2及第三面P3。因此，在图9中，第一棱柱S1的断面29、第四面P4、与反射透镜27的断面28之间构成空间，而此空间恰位于漏光线B1的既定光路L10上。因此，当数位微镜装置20处于关闭状态时，漏光线B1的传输方式类似图4所述，由光路L9前进，被第六面P6全反射，再经由既定光路L10穿透第四面P4。然而，漏光线B1穿过第四面P4后，将沿着既定光路L10继续穿过此空间而远离第一棱柱S1及第二棱柱S2。故在投影机300中，当数位微镜装置20处于关闭状态时，漏光线B1不会发生散射或漫射的现象。

本发明的投影机100、200及300中，数位微镜装置20的微镜反射区与光导管22的出光端面积比值约为1.7～1.9倍，等效于光机系统OMS放大倍率约为1.7～1.9倍。而用于接收成像光的镜头24，其光圈大小为F1.7的光圈值。然而，本发明所用的放大倍率和光圈大小却不以此为限，在其它实施例中可以使用任何放大倍率，以及任何光圈值(例如更大的F1.5光圈)来实现投影机100、200及300。

综上所述，本发明揭露一种投影机，其设计观念为利用二轴翻转式的数位微镜装置以缩小体积，相较于传统投影机，其元件的空间配置性可以获得进一步的优化。并且，本发明的投影机在光机系统中也引入了反射透镜，因此能缩短光路距离，并进一步优化投影机内的空间配置性和体积。此外，本发明的投影机引入了低反射区或断面的结构，使数位微镜装置在关闭状态时，漏光线能被低反射区吸收或直接穿透断面对应的空间而远离投影机。因此，本发明的投影机，除了具备微型化的体积外，亦能防止漏光线的影响，故其影像输出具有高对比度及品质。

本发明已由上述相关实施例加以描述，然而上述实施例仅为实施本发明的范例。必需指出的是，已揭露的实施例并未限制本发明的范围。相反地，在不脱离本发明的精神和范围内所作的更动与润饰，均属本发明的专利保护范围。

Claims (10)

1.一种投影机，其特征在于，包含：

光源，用于发射入射光；

数位微镜装置，于相互垂直的第一方向及第二方向分别具有第一边及第二边，该第一边长于该第二边，该数位微镜装置用来接收并反射该入射光为成像光；

第一棱柱，设置于该光源及该数位微镜装置之间，用以接收并传递该入射光，该第一棱柱包含：

第一面，邻近该光源且用以接收该入射光；

第二面，邻接该第一面；及

中继部，邻接该第一面且具有反射部，该反射部用以反射该入射光至第二面；及

第二棱柱，设置于该第一棱柱及该数位微镜装置之间，该第二棱柱包含：

第四面，平行于该第二面且用以接收该入射光并反射该成像光；

第五面，邻接该第四面且平行于该数位微镜装置，该第五面具有平行该第一边的邻接边；及

第六面，邻接该第四面及该第五面且与该投影机的镜头相对；

其中，该入射光依序穿透该第四面、该第五面且经该数位微镜装置反射为该成像光至该第六面，当该数位微镜装置处于关闭状态时，该成像光中的漏光线经该第六面被反射至既定光路以远离该第一棱柱和该第二棱柱，该反射部在该既定光路外。

2.如权利要求1所述的投影机，其特征在于，该数位微镜装置为二轴翻转式的数位微镜装置。

3.如权利要求1所述的投影机，其特征在于，该第六面垂直于该第五面。

4.如权利要求1所述的投影机，其特征在于，该中继部具有第三面，该反射部为位于该第三面上的镜面涂层；或者，该中继部具有第三面，该反射部为反射面，该反射面与该第三面相对。

5.如权利要求1所述的投影机，其特征在于，该投影机还包含：

透镜模组，设置于该光源及该第一面之间。

6.如权利要求5所述的投影机，其特征在于，该透镜模组的有效焦距在80mm-82mm之间。

7.如权利要求5所述的投影机，其特征在于，该投影机还包含：

光导管，设置于该光源及该透镜模组之间，用以接收并传递该入射光。

8.如权利要求7所述的投影机，其特征在于，该光导管为楔形光导管。

9.如权利要求7所述的投影机，其特征在于，该光导管、该透镜模组、该第一棱柱、该第二棱柱、该数位微镜装置组成光机系统，且该光机系统的放大倍率在1.7-1.9之间。

10.如权利要求1所述的投影机，其特征在于，

该中继部具有低反射区，当该数位微镜装置处于该关闭状态时，该成像光中的漏光线经该第六面被反射至沿该既定光路被该低反射区接收以远离该第一棱柱和该第二棱柱；

或者，该中继部具有第三面，该中继部包含具有断面的反射镜，该反射镜未覆盖该第三面而具有断面，该反射镜的断面与该第三面之间构成空间，当该数位微镜装置处于该关闭状态时，该成像光中的漏光线经该第六面被反射至沿该既定光路穿过该空间以远离该第一棱柱和该第二棱柱；

或者，该中继部具有第三面，该中继部包含具有断面的反射镜，该反射镜未覆盖该第三面而具有断面，该第一棱柱具有断面，该第一棱柱的断面邻接该第二面和该第三面，该第一棱柱的断面、该第四面与该反射透镜的断面之间构成空间，当该数位微镜装置处于该关闭状态时，该成像光中的漏光线经该第六面被反射至沿该既定光路穿过该空间以远离该第一棱柱和该第二棱柱。