CN104729999B - 激光测量核孔膜均匀度的方法 - Google Patents
激光测量核孔膜均匀度的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN104729999B CN104729999B CN201510126691.4A CN201510126691A CN104729999B CN 104729999 B CN104729999 B CN 104729999B CN 201510126691 A CN201510126691 A CN 201510126691A CN 104729999 B CN104729999 B CN 104729999B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- uniformity
- pore membrane
- nuclear pore
- laser
- measuring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000012528 membrane Substances 0.000 title claims abstract description 68
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 238000005259 measurement Methods 0.000 title claims description 5
- 210000004492 nuclear pore Anatomy 0.000 claims abstract description 65
- 238000013519 translation Methods 0.000 claims abstract description 29
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 19
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 5
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 238000007689 inspection Methods 0.000 abstract description 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 abstract description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012982 microporous membrane Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
本发明涉及一种核孔膜均匀度的测量装置及方法。这种方法可以应用到核探测技术以及核孔膜生产过程中在线检验和成品检验。一种激光测量核孔膜均匀度的装置，其主要特点在于包括有支架，支架包括有水平支架和竖直支架，在竖直支架的上端设有激光器，在竖直支架的中部设有二维平移台，其二维平移台的台面为透明板：在水平支架上设有光探测器；激光器与光探测器在一个中心线上。本发明的优点是：采用可调束斑大小激光可以精准探测所需要了解的位置点的信息，可以根据不同的扫描方式，来统计所关心的不同位置的信息。这种扫描的方式，可以通过计算机编程，自动的进行获取，从而迅速得到样品的均匀度信息。与其他方法相比，激光光源稳定，自动化程度高，测试更为精准。
Description
技术领域
本发明涉及一种核孔膜均匀度的测量装置及方法。这种方法可以应用到核探测技术以及核孔膜生产过程中在线检验和成品检验。
背景技术
核孔膜，又称作核微孔膜或重离子微孔膜，它是利用重离子在绝缘物质薄膜上打孔然后化学蚀刻扩孔而成。对于核孔膜的均匀度检测有着重要意义：一方面核孔膜作为固体径迹探测器，可以真实记录束流的离子数量和位置信息，常用作均匀度探测器的校准。离子在不同位置上的分布，对于束流的扫描品质有着重要意义。另一方面，核孔膜本身可以作为滤膜，加工成为产品。而滤膜产品质量一般要求核孔膜均匀度达到一定的要求，在线生产和成品检验过程中常用到核孔膜均匀度的检验。
目前，常见的方法是用光学显微镜或电子显微镜人工统计不同位置的视野下的孔数目，从而得到核孔膜均匀度。有人提出了计算机软件分析照片自动数孔的方法，但是这种方法对照片清晰度和对比度等要求较高，常统计带来较大的误差。也有人提出放射元素能谱方法，但是这种方法的位置点的探测精度、探测面积大小很难控制，而且容易受空气层的影响。因此，人们需要一种精准度更高、位置更灵敏和自动化程度更高的方法。
发明内容
本发明的目的在于避免现有技术的不足之处而提供提出一种激光测量核孔膜均匀度的装置。使得核孔膜均匀度测量精确度更高、位置更灵敏和自动化程度更高。
本发明的又一目的在于一种激光测量核孔膜均匀度的方法。
为实现上述目的，本发明采取的技术方案为：一种激光测量核孔膜均匀度的装置，其主要特点在于包括有支架，支架包括有水平支架和竖直支架，在竖直支架的上端设有激光器，在竖直支架的中部设有二维平移台，其二维平移台的台面为透明板：在水平支架上设有光探测器；激光器与光探测器在一个中心线上。
所述的激光测量核孔膜均匀度的装置，所述的二维平移台扫描方式为沿着水平两个方向扫描，或只沿着某一方向线扫描。
所述的激光测量核孔膜均匀度的装置，所述的二维平移台平移方式为手动模式或自动模式。
所述的激光测量核孔膜均匀度的装置，所述的激光器发出的激光波长范围为300-1100nm。
所述的激光测量核孔膜均匀度的装置，所述的激光束斑形状为圆形和方形，束斑面积的调整范围为1mm2-300mm2。
一种激光测量核孔膜均匀度的方法，其主要特点在于步骤为：将核孔膜放置在二维平移台的平移台面上，激光器的一束激光穿透核孔膜，光探测器测量并记录该入射位置点的光吸收率或透射率；通过不断移动二维平移台，获得核孔膜其他位置点的光吸收率或透射率；由于孔数目和光吸收率或透射率成线性关系，从而推导出不同位置点的孔数目差异，最终确定所测试核孔膜样品的均匀度。
所述的激光测量核孔膜均匀度的方法，所述的核孔膜的材料包括PC、PET和PI。
本发明的有益效果是：采用可调束斑大小激光可以精准探测所需要了解的位置点的信息，可以根据不同的扫描方式，来统计所关心的不同位置的信息。这种扫描的方式，可以通过计算机编程，自动的进行获取，从而迅速得到样品的均匀度信息。与其他方法相比，激光光源稳定，自动化程度高，测试更为精准。
附图说明：
图1激光测量核孔膜均匀度示意图。
具体实施方式
以下结合实施例对本发明的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本发明，并非用于限定本发明的范围。下面以具体事例，对本发明的内容进行详细的说明。
实施例1：见图1，一种激光测量核孔膜均匀度的装置，包括有支架1，支架1包括有水平支架1-1和竖直支架1-2，在竖直支架1-2的上端设有激光器2，在竖直支架1-2的中部设有二维平移台3，其二维平移台3的位移台面为透明板：在水平支架1-1上设有光探测器4；激光器2与光探测器4在一个中心线上。
所述的二维平移台3扫描方式为沿着水平两个方向扫描，或只沿着某一方向线扫描。
二维平移台3平移方式为手动模式或自动模式。
所述的激光器2发出的激光波长范围为300-1100nm。
所述的激光束斑形状为圆形和方形，束斑面积的调整范围为1mm2-300mm2。
实施例2：一种激光测量核孔膜均匀度的方法，其步骤为：将核孔膜5放置在二维平移台3的位移台面上，激光器2的一束激光穿透核孔膜5，光探测器4测量并记录该入射位置点的光吸收率或透射率；再通过不断移动二维平移台3，获得核孔膜5其他位置点的光吸收率或透射率；由于孔数目和光吸收率或透射率成一定的线性关系，从而推导出不同位置点的孔数目差异，最终确定所测试核孔膜5样品的均匀度。
所述的核孔膜的材料包括PC、PET和PI。
实施例3：将核孔膜PET放置在二维水平移动的位移台上。利用一束束斑为圆形的激光从一侧穿透核孔膜，激光波长308nm，束斑大小1mm2，通过另一侧放置光探测器测量并记录该入射位置点的光透射率；通过二维平移台沿着水平两个方向进行区域扫描，逐个得到不同位置点的透射率。通过软件计算获取分析得到所测试核孔膜样品所测试面积的均匀度。
实施例4：将核孔膜PC放置在二维水平移动的位移台上。利用一束束斑为方形的激光从一侧穿透核孔膜，激光波长633nm，束斑大小30mm2，通过另一侧放置光探测器测量并记录该入射位置点的光透射率；通过二维平移台沿着水平某个方向进行线扫描，逐个得到不同位置点的透射率。通过软件计算获取分析得到所测试核孔膜样品在某一方向的均匀度。
实施例5：将核孔膜PI放置在二维水平移动的位移台上。利用一束束斑为方形的激光从一侧穿透核孔膜，激光波长970nm，束斑大小30mm2，通过另一侧放置光探测器测量并记录该入射位置点的光透射率；通过手动移动二维平移台到另一个点，记录该点的光透射率。逐个手动移动不同位置点的获取样品透射率。通过软件计算获取分析得到所测试核孔膜样品不同测试点的均匀度。
实施例6：将核孔膜PET放置在二维水平移动的位移台上。利用一束束斑为圆形的激光从一侧穿透核孔膜，激光波长1064nm，束斑大小300mm2，通过另一侧放置光探测器测量并记录该入射位置点的光透射率；通过手动移动二维平移台到另一个点，记录该点的光透射率。逐个手动移动不同位置点的获取样品透射率。通过软件计算获取分析得到所测试核孔膜样品不同测试点的均匀度。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种激光测量核孔膜均匀度的装置测量核孔膜均匀度的方法，其特征在于步骤为：将核孔膜放置在二维平移台的平移台面上，激光器的一束激光穿透核孔膜，光探测器测量并记录该入射位置点的光吸收率或透射率；通过不断移动二维平移台，获得核孔膜其他位置点的光吸收率或透射率；由于孔数目和光吸收率或透射率成线性关系，从而推导出不同位置点的孔数目差异，最终确定所测试核孔膜样品的均匀度；
激光测量核孔膜均匀度的装置包括有支架，支架包括有水平支架和竖直支架，在竖直支架的上端设有激光器，在竖直支架的中部设有二维平移台，其二维平移台的台面为透明板：在水平支架上设有光探测器；激光器与光探测器在一个中心线上。
2.如权利要求1所述的激光测量核孔膜均匀度的装置测量核孔膜均匀度的方法，其特征在于所述的二维平移台扫描方式为沿着水平两个方向扫描，或只沿着某一方向线扫描。
3.如权利要求1所述的激光测量核孔膜均匀度的装置测量核孔膜均匀度的方法，其特征在于所述的二维平移台平移方式为手动模式或自动模式。
4.如权利要求1所述的激光测量核孔膜均匀度的装置测量核孔膜均匀度的方法，其特征在于所述的激光器发出的激光波长范围为300-1100nm。
5.如权利要求1所述的激光测量核孔膜均匀度的装置测量核孔膜均匀度的方法，其特征在于所述的激光束斑形状为圆形和方形，束斑面积的调整范围为1mm2-300mm2。
6.如权利要求1所述的激光测量核孔膜均匀度的装置测量核孔膜均匀度的方法，其特征在于所述的核孔膜的材料包括PC、PET和ＰＩ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201510126691.4A CN104729999B (zh) | 2015-03-20 | 2015-03-20 | 激光测量核孔膜均匀度的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201510126691.4A CN104729999B (zh) | 2015-03-20 | 2015-03-20 | 激光测量核孔膜均匀度的方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN104729999A CN104729999A (zh) | 2015-06-24 |
| CN104729999B true CN104729999B (zh) | 2016-05-11 |
Family
ID=53454094
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201510126691.4A Active CN104729999B (zh) | 2015-03-20 | 2015-03-20 | 激光测量核孔膜均匀度的方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN104729999B (zh) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102122063A (zh) * | 2011-03-09 | 2011-07-13 | 北京工业大学 | 倒置式数字全息显微镜 |
| CN103175847A (zh) * | 2013-03-19 | 2013-06-26 | 哈尔滨理工大学 | 光栅表面缺陷检测装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102169050B (zh) * | 2010-12-17 | 2012-08-08 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种反射率综合测量方法 |
-
2015
- 2015-03-20 CN CN201510126691.4A patent/CN104729999B/zh active Active
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102122063A (zh) * | 2011-03-09 | 2011-07-13 | 北京工业大学 | 倒置式数字全息显微镜 |
| CN103175847A (zh) * | 2013-03-19 | 2013-06-26 | 哈尔滨理工大学 | 光栅表面缺陷检测装置 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 《α能谱法测量核孔膜孔隙率》;林雯等;《原子能科学技术》;20130430;696-699 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN104729999A (zh) | 2015-06-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN103925892B (zh) | 利用激光测量墙面或地面平整度的装置 | |
| US20130215258A1 (en) | Device for Noncontact Determination of Edge Profile at a Thin Disk-Shaped Object | |
| CN104181131B (zh) | 红外调制光致发光二维成像光路自动定位校准装置 | |
| CN108717062A (zh) | 一种大口径超精密表面的暗场缺陷检测装置及其测量方法 | |
| CN102818523B (zh) | 小工件视觉测量方法及测量系统 | |
| CN107345893A (zh) | 一种粒子散射相函数测量装置及测量方法 | |
| CN204731151U (zh) | 激光测量核孔膜均匀度的装置 | |
| TW201602563A (zh) | 用於彈性基板上的粒子檢測之方法 | |
| KR101530631B1 (ko) | ３차원 스캐너를 이용한 밀도 측정 장치 및 방법 | |
| EP3087374A1 (en) | Non-imaging coherent line scanner systems and methods for optical inspection | |
| KR20180114608A (ko) | 버 검사 시스템 및 방법 | |
| CN109297986B (zh) | 激光陀螺高反射镜表面疵病参数表征装置和检测方法 | |
| CN104729999B (zh) | 激光测量核孔膜均匀度的方法 | |
| JP2014035316A (ja) | ダブルレシピ処理機能を有する表面検査装置及びその方法 | |
| JP2017525945A (ja) | サンプル及び／又はサンプル表面に形成された少なくとも１つのフィルムの特性及び／又はパラメータを測定するためのアレンジメント | |
| CN206248012U (zh) | 管材、棒材表面缺陷深度检测装置 | |
| CN105158207B (zh) | 一种透明材料上高深径比微孔重铸层的测量装置及方法 | |
| TW201447956A (zh) | 氣體中掃描型電子顯微鏡 | |
| TWI545315B (zh) | 由摻鈦石英玻璃製造極紫外線平版印刷所用鏡基板胚件之方法，以及胚件缺陷之定位系統 | |
| US20180005364A1 (en) | Dual mode inspector | |
| TW201435301A (zh) | Ｘ射線非破壞檢查裝置 | |
| CN214201178U (zh) | 一种基于线激光的液体折射率测量装置 | |
| CN204228607U (zh) | 一种红外调制光致发光二维成像光路自动定位校准装置 | |
| US20110293151A1 (en) | Method and device for quantifying surface particulate contaminants by improved analysis | |
| CN209559744U (zh) | 一种用于土壤属性测定的信息采集装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant |