CN104647459A - 一种数控水刀切割机气动推送组件 - Google Patents

一种数控水刀切割机气动推送组件 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种数控水刀切割机气动推送组件,包含一进气管控制头,在所述的进气管控制头上设有一气动控制体,所述的进气管控制头和气动控制体间设有一连接件,在所述的气动控制体的顶部可伸缩地设有一推送杆,在所述的推送杆的顶部设有一推送头,所述的气动控制体为中空结构,所述的推送头的表面设有一层防滑垫片。由于本发明的数控水刀切割机气动推送组件在本体上设置了一个气动控制体,并在该气动控制体上设置了一个用气体控制的推送杆,由于气体的作用较为稳定,从而大大提高了数控水刀切割机气动推送组件的推送稳定性。

Description

一种数控水刀切割机气动推送组件
技术领域
本发明涉及一种气动推送组件,更确切地说,是一种数控水刀切割机气动推送组件。
背景技术
数控水刀切割机是一种在工业生产上应用较为广泛的切割机,具有较高的工作效率。但是,目前普遍使用的数控水刀切割机的气动推送组件推送不够稳定,容易发生偏移。
发明内容
本发明主要是解决现有技术所存在的技术问题,从而提供一种推送较为稳定的数控水刀切割机气动推送组件。
本发明的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的:
一种数控水刀切割机气动推送组件,包含一进气管控制头,在所述的进气管控制头上设有一气动控制体,所述的进气管控制头和气动控制体间设有一连接件,在所述的气动控制体的顶部可伸缩地设有一推送杆,在所述的推送杆的顶部设有一推送头。
作为本发明较佳的实施例,所述的气动控制体为中空结构。
作为本发明较佳的实施例,所述的推送头的表面设有一层防滑垫片。
由于本发明的数控水刀切割机气动推送组件在本体上设置了一个气动控制体,并在该气动控制体上设置了一个用气体控制的推送杆,由于气体的作用较为稳定,从而大大提高了数控水刀切割机气动推送组件的推送稳定性。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明的数控水刀切割机气动推送组件的立体结构示意图;
图2为图1中的数控水刀切割机气动推送组件的立体结构示意图,此时为另一视角。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的优选实施例进行详细阐述,以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
本发明提供了一种推送较为稳定的数控水刀切割机气动推送组件。
如图1、图2所示,一种数控水刀切割机气动推送组件1,包含一进气管控制头2,在所述的进气管控制头2上设有一气动控制体3,所述的进气管控制头2和气动控制体3间设有一连接件4,在所述的气动控制体3的顶部可伸缩地设有一推送杆51,在所述的推送杆51的顶部设有一推送头52。
如图1、图2所示,所述的气动控制体3为中空结构。
如图1、图2所示,所述的推送头52的表面设有一层防滑垫片。
该发明的数控水刀切割机气动推送组件在本体上设置了一个气动控制体,并在该气动控制体上设置了一个用气体控制的推送杆,由于气体的作用较为稳定,从而大大提高了数控水刀切割机气动推送组件的推送稳定性。
以上仅仅以一个实施方式来说明本发明的设计思路,在系统允许的情况下,本发明可以扩展为同时外接更多的功能模块,从而最大限度扩展其功能。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何不经过创造性劳动想到的变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。

Claims (3)

1.一种数控水刀切割机气动推送组件(1),包含一进气管控制头(2),其特征在于,在所述的进气管控制头(2)上设有一气动控制体(3),所述的进气管控制头(2)和气动控制体(3)间设有一连接件(4),在所述的气动控制体(3)的顶部可伸缩地设有一推送杆(51),在所述的推送杆(51)的顶部设有一推送头(52)。
2.根据权利要求1所述的数控水刀切割机气动推送组件,其特征在于,所述的气动控制体(3)为中空结构。
3.根据权利要求2所述的数控水刀切割机气动推送组件,其特征在于,所述的推送头(52)的表面设有一层防滑垫片。
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Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20150527