CN104597331A - 一种紧缩场天线测量同步反射点位置识别方法 - Google Patents
一种紧缩场天线测量同步反射点位置识别方法 Download PDFInfo
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Abstract
本发明公开一种紧缩场天线测量同步反射点位置识别方法,包括在紧缩场暗室中建立三维直角坐标系;在三维直角坐标系中确定紧缩场馈源所在位置;根据紧缩场馈源的位置和测试区的位置确定紧缩场反射面所在位置;以紧缩场馈源所在位置和处于测试区内的待测天线所在位置为焦点,以紧缩场馈源经紧缩场反射面到到处于测试区任意位置的待测天线的传播路径长为长轴长度,在紧缩场暗室中构建一个椭球面;椭球面与紧缩场暗室各面及紧缩场暗室内部空间物体的交汇处即为同步反射点位置。该方法快速的找到紧缩场内反射信号与直射波信号同时到达接收天线的同步反射点位置。
Description
技术领域
本发明涉及反射点位置识别方法,特别是涉及一种紧缩场天线测量同步反射点位置识别方法。
背景技术
随着天线测量技术的发展,对天线电磁特性的测量精度要求越来越高。紧缩场可以在近距离内提供天线测量所需要的平面波环境,已成为天线测量常用的一种方式。紧缩场天线测量系统布局示意图如图1所示,紧缩场馈源发出球面波,照射到紧缩场反射面,经反射后转换为平面波,处于测试区中的待测天线接收该平面波。测试区是紧缩场平面波质量最好的一个区域,紧缩场馈源发射电磁波,待测天线接收平面波形式的电磁波。上述测量可以获得待测天线方向图主瓣、旁瓣以及后瓣的分布等电磁特性。
当前在紧缩场内测量天线特性时,常用的一种数据处理方式是采用扫频测量模式,然后将扫频结果变换到时域,通过加时域窗,剔除其它时间反射到待测天线的反射信号。如图2所示,图中测试曲线有多个峰值,如峰值<1>、峰值<2>、峰值<3>、峰值<4>等,图2中峰值<3>即代表待测天线的接收信号,其它峰值代表为紧缩场内某些部位的较大反射信号,对测试信号峰值<3>加合适的时域窗函数,就可以把不需要的其它反射信号(如峰值<1>、峰值<2>、峰值<4>等)剔除,这些较大的峰值信号均具有明确的物理含义,与紧缩场暗室的几何布局及紧缩场暗室内部摆放物品相关。由于这些反射信号被待测天线接收的时间与待测天线接收的直射平面波信号时间不同,所以均可以通过时间门剔除,仅得到矩形框内的待测天线接收信号。但这种处理方式无法剔除紧缩场内紧缩场馈源发射波经紧缩场内反射点反射到达待测天线的反射信号与紧缩场馈源发射波经紧缩场反射面转换后发出的再到待测天线的直射平面波信号时间相同的有干扰作用的反射信号,即如果反射信号与直射波信号时间同步,则通过现有的时域加门方式,无法剔除。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种紧缩场天线测量同步反射点位置识别方法,以快速找到紧缩场内反射信号与直射波信号同时到达待测天线的同步反射点位置。
为解决上述技术问题,本发明采用下述技术方案:
一种紧缩场天线测量同步反射点位置识别方法,该方法包括如下步骤:
在紧缩场暗室中建立三维直角坐标系;
在三维直角坐标系中确定紧缩场馈源所在位置T;
根据所述紧缩场馈源的位置和测试区的位置确定紧缩场反射面所在位置;
以所述紧缩场馈源所在位置T和处于测试区内的待测天线所在位置A为焦点,以所述紧缩场馈源所在位置T经所述紧缩场反射面到达处于测试区内待测天线所在位置A的平面波传播距离为长轴长度,在所述紧缩场暗室中构建一个椭球面;
所述椭球面与所述紧缩场暗室各面及紧缩场暗室内部空间物体的交汇处即为所述紧缩场天线测量同步反射点位置。
优选地,所述三维直角坐标系以所述紧缩场暗室任意一墙角为坐标系原点O,以长度方向为X轴,以宽度方向为Y轴,以高度方向为Z轴。
所述在三维直角坐标系中确定紧缩场馈源所在位置T;根据所述紧缩场馈源的位置和测试区的位置确定紧缩场反射面所在位置的步骤包括:
确定所述紧缩场馈源所在位置T在三维直角坐标系中的三维坐标,所述紧缩场馈源所在位置T的三维坐标为(XT,YT,ZT);
确定测试区待测天线所在位置A的三维坐标,所述待测天线所在位置A的三维坐标为(XA,YA,ZA);
根据所述紧缩场馈源的位置和测试区的位置确定所述紧缩场反射面上反射点P的三维坐标,以所述待测目标所在位置A为基准,与地面平行的水平线与所述紧缩场反射面的交点即为反射点P,所述紧缩场反射面上反射点P的三维坐标为(XP,YP,ZP)。
所述以所述紧缩场馈源所在位置T和处于测试区内的待测天线所在位置A为焦点,以所述紧缩场馈源所在位置T经所述紧缩场反射面到达处于测试区内待测天线所在位置A的平面波传播距离为长轴长度,在所述紧缩场暗室中构建一个椭球面的步骤包括:
计算所述紧缩场馈源所在位置T至所述紧缩场反射面反射点P的距离TP;
计算所述紧缩场反射面上反射点P至所述待测天线所在位置A的距离PA;
以所述紧缩场馈源所在位置T和所述待测天线所在位置A为焦点,以(TP+PA)作为椭圆的长轴长度,在所述紧缩场暗室中构建一个椭球面。
优选地,所述椭球面与所述紧缩场暗室的各面及紧缩场暗室内部空间物体相交的所有交汇点则为所述待测天线位于测试区当前位置时经所述紧缩场馈源到反射点再到达所述待测天线的信号与所述紧缩场馈源经所述紧缩场反射面再到达所述待测天线的直射波信号时间相同的所述紧缩场天线测量同步反射点位置。
优选地,所述紧缩场天线测量同步反射点位置位于所述椭球面与所述紧缩场暗室的侧墙、紧缩场暗室的地面、紧缩场暗室的屋顶、紧缩场的暗室前后墙或在紧缩场暗室内部空间存在的物体的交汇处。
优选地,该方法的步骤进一步包括在所述紧缩场天线测量同步反射点位置放置吸波材料或移走位于同步反射点的物体。
在本发明中,紧缩场天线测量同步反射点位置简称为同步反射点位置。
本发明的有益效果如下:
现有紧缩场天线测量信号处理方式无法剔除紧缩场内紧缩场馈源发射波经紧缩场内反射点反射到达待测天线的反射信号与紧缩场馈源发射波经紧缩场反射面转换后发出的再到待测天线的直射波信号时间相同的有干扰作用的反射信号,如果紧缩场各墙及地面屋顶或紧缩场暗室内存在某些物体,这些部位上反射点的反射信号到达待测天线的时间与待测天线接收的直射波信号的时间相等,则这些不需要的反射信号也将落入图2中的矩形框内,与直射波信号同时到达,则通过简单加时域门的方式将难以剔除。本发明紧缩场天线测量同步反射点位置识别方法可有效地解决以上不足,通过本发明方法可快速找到紧缩场内反射信号与直射波信号同时到达待测天线的同步反射点位置,通过对这些位置添加高性能的吸波材料或移去反射源,可以大幅度的降低这些部位的反射信号强度,减小这些部位反射对待测天线接收信号测量精度的影响;如果紧缩场内部空间存在某些物体,则可以剔除这些反射源;在实际测试结果分析时,也可以通过上述办法,根据待测天线的具体位置,具体识别紧缩场暗室内相应的同步反射点位置,起到分析测量结果提高测量精度的目的。
附图说明
下面结合附图对本发明的具体实施方式作进一步详细的说明。
图1示出紧缩场天线测量布局示意图;
图2示出现有紧缩场天线测量时域处理示意图;
图3示出紧缩场天线测量同步反射点位置识别示意图。
图4示出紧缩场暗室中的三维直角坐标系;
图5示出紧缩场暗室的地面的同步反射点位置;
图6示出紧缩场暗室的屋顶的同步反射点位置;
图7示出紧缩场暗室的两侧墙的同步反射点位置。
具体实施方式
为了更清楚地说明本发明,下面结合优选实施例和附图对本发明做进一步的说明。附图中相似的部件以相同的附图标记进行表示。本领域技术人员应当理解,下面所具体描述的内容是说明性的而非限制性的,不应以此限制本发明的保护范围。
本发明公开一种紧缩场天线测量同步反射点位置识别方法,该方法的步骤包括:
建立三维紧缩场暗室几何模型空间直角坐标系;三维直角坐标系以所述紧缩场暗室任意一墙角为坐标系原点O,以长度方向为X轴,以宽度方向为Y轴,以高度方向为Z轴;确定紧缩场馈源1所在位置T在三维直角坐标系中的三维坐标,紧缩场馈源1所在位置T的三维坐标为(XT,YT,ZT);确定测试区3内待测天线4所在位置A的三维坐标,待测天线4所在位置A的三维坐标为(XA,YA,ZA);根据紧缩场馈源1的位置和测试区3的位置确定紧缩场反射面2上反射点P的三维坐标,P的确定方法为,以待测目标4所在位置A为基准,与地面平行的水平线与反射面的交点即为P位置,紧缩场反射面2上反射点P的三维坐标为(XP,YP,ZP);计算紧缩场馈源1至紧缩场反射面2的距离TP,计算紧缩场反射面2至待测天线4所在位置A的距离PA;以紧缩场馈源1所在位置T和待测天线4所在位置A为焦点,以(TP+PA)作为椭圆的长轴长度,在紧缩场暗室中构建一个椭球面;则这个椭球面与紧缩场暗室各面及紧缩场暗室内部空间物体相交的所有交汇点则为待测天线4位于测试区任意位置时,经紧缩场馈源1到紧缩场反射面2上的反射点再到达待测天线4的信号与紧缩场馈源1经所述紧缩场反射面2再到达待测天线4的直射波信号时间相同的所有同步反射点位置。
本发明的原理是在紧缩场内找到紧缩场馈源1发射波经紧缩场内反射点反射到待测天线4的反射信号与紧缩场馈源1发射波经紧缩场反射面2再到达待测天线4的直射波信号同步的反射点位置。如图3紧缩场天线测量同步反射点位置识别示意图所示,待测天线4在测试区3中A位置,紧缩场馈源1的位置为T,待测天线4接收的直射波信号路径为(TP+PA)。我们以紧缩场馈源1所在位置T和待测天线4所在位置A为焦点,以(TP+PA)为椭圆的长轴长度,在紧缩场暗室中构建一个椭球面,则这个椭球面与紧缩场暗室各墙、屋顶、地面以及紧缩场暗室内部空间物体相交的所有交汇点均为紧缩场馈源1的发射波经紧缩场反射点反射(如图3中的S1、S2、S3、S4等)再到待测天线4的反射信号与紧缩场馈源1发出的发射波经紧缩场反射面2再到待测天线4的直射波信号同步的反射点位置,如图3中满足距离条件的同步反射点S1、S2、S3、S4等,即紧缩场馈源1经紧缩场反射点S1反射再被待测天线4接收到有干扰作用的反射信号时间与紧缩场馈源1经紧缩场反射面2再到待测天线4的直射波信号时间相同。
根据任何一个紧缩场暗室的不同布局,内部物品摆放位置,紧缩场暗室长、宽、高的情况,待测天线位置等条件,都可以根据上述步骤找到与待测天线主信号同步的反射点位置,这些反射点位置可以位侧墙,也可以位于紧缩场暗室的地面或屋顶或前后墙,也可以是紧缩场暗室内部空间存在的一些物体等;
找到这些同步反射点位置,可以在这些同步反射点位置添加高性能的吸波材料或移走这些反射部位,可以大幅度的降低这些部位的反射信号强度,减小这些部位反射对待测天线接收信号测量精度的影响,从而起到提高测量精度的目的,该方法可对紧缩场天线测量精度影响因素分析起到较好的辅助作用。
图1、图2为现有技术中时域加门处理,可以看到本发明与时域加门处理有以下不同:
本发明可以找到紧缩场内反射信号与直射波信号同时到达待测天线的同步反射点位置,在这些同步反射点位置添加高性能的吸波材料或移走这些反射部位,可以大幅度的降低这些部位的反射信号强度,减小这些部位反射对待测天线信号测量精度的影响,这是现有技术无法实现的。
本发明可对紧缩场天线测量精度影响因素分析起到较好的辅助作用,可提高测量精度。
下面通过一组实施例对本发明所述技术方案作进一步说明:
1、在一个长×宽×高为20m×10m×10m的紧缩场暗室内建立三维直角坐标系,如图4所示,以紧缩场暗室任意一墙脚定位坐标系原点,如图4所示O点,以长度方向为X轴,以宽度方向为Y轴,以高度方向为Z轴,紧缩场馈源1所在位置T的三维坐标为(13,5,1),测试区3内待测天线4所在位置A的三维坐标为(6,5,5.5),单位均为m;
2、确定紧缩场反射面2上反射点P的三维坐标,P的确定方法为,以待测目标4所在位置A为基准,与地面平行的水平线与反射面的交点即为P,紧缩场反射面2上反射点P的三维坐标为(17,5,5.5),经计算,TP、PA距离分别为6.02m、11m;
3、以紧缩场馈源1所在位置T、待测天线4所在位置A为焦点,以(TP+PA=17.02m)作为椭圆的长轴长度,在紧缩场暗室中构建一个椭球面,则这个椭球面与紧缩场暗室各墙、屋顶、地面以及紧缩场内部空间物体相交的所有交汇点均为紧缩场馈源1发射波经紧缩场内反射点反射到待测天线4的反射信号与紧缩场馈源1发射波经紧缩场反射面2再到待测天线4的直射信号同步的反射点位置;
4、编制程序进行计算,分别得到紧缩场暗室的地面的同步反射点位置如图5中的黑色曲线点所示,紧缩场暗室的屋顶的同步反射点位置如图6中的黑色曲线点所示,紧缩场暗室的两侧墙的同步反射点位置如图7中的黑色曲线点所示,横纵坐标分别对应反射点在各墙的几何位置,经计算,本尺寸布局的紧缩场暗室前墙(离测试区近的墙面)及紧缩场暗室后墙均不存在同步反射点,紧缩场馈源T到图5、6、7所示黑色反射点再被待测天线A接收的干扰反射信号时间与紧缩场馈源T经反射面P到待测接收天线A的主信号时间相同;
显然,本发明的上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例,而并非是对本发明的实施方式的限定,对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动,这里无法对所有的实施方式予以穷举,凡是属于本发明的技术方案所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明的保护范围之列。
Claims (7)
1.一种紧缩场天线测量同步反射点位置识别方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
在紧缩场暗室中建立三维直角坐标系;
在所述三维直角坐标系中确定紧缩场馈源所在位置T;根据所述紧缩场馈源的位置和测试区的位置确定紧缩场反射面所在位置;
以所述紧缩场馈源所在位置T和处于测试区内的待测天线所在位置A为焦点,以所述紧缩场馈源所在位置T经所述紧缩场反射面到达处于测试区内待测天线所在位置A的平面波传播距离为长轴长度,在所述紧缩场暗室中构建一个椭球面;
所述椭球面与所述紧缩场暗室各面及紧缩场暗室内部空间物体的交汇处即为所述紧缩场天线测量同步反射点位置。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述三维直角坐标系以所述紧缩场暗室任意一墙角为坐标系原点O,以长度方向为X轴,以宽度方向为Y轴,以高度方向为Z轴。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述在三维直角坐标系中确定紧缩场馈源所在位置T;根据所述紧缩场馈源的位置和测试区的位置确定紧缩场反射面所在位置的步骤包括:
确定所述紧缩场馈源所在位置T在三维直角坐标系中的三维坐标;
确定测试区内所述待测天线所在位置A的三维坐标;
根据所述紧缩场馈源的位置和测试区的位置确定所述紧缩场反射面上反射点P的三维坐标,以所述待测目标所在位置A为基准,与地面平行的水平线与所述紧缩场反射面的交点即为反射点P。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述以所述紧缩场馈源所在位置T和处于测试区内的待测天线所在位置A为焦点,以所述紧缩场馈源所在位置T经所述紧缩场反射面到达处于测试区内待测天线所在位置A的平面波传播距离为长轴长度,在所述紧缩场暗室中构建一个椭球面的步骤包括:
计算所述紧缩场馈源所在位置T至所述紧缩场反射面上反射点P的距离TP;
计算所述紧缩场反射面上反射点P至所述待测天线所在位置A的距离PA;
以所述紧缩场馈源所在位置T和所述待测天线所在位置A为焦点,以(TP+PA)作为椭圆的长轴长度,在所述紧缩场暗室中构建一个椭球面。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述椭球面与所述紧缩场暗室的各面及紧缩场暗室内部空间物体相交的所有交汇点则为所述待测天线位于测试区当前位置时所述紧缩场馈源发射波经所述紧缩场内反射点反射到所述待测天线的反射信号与所述紧缩场馈源发射波经所述紧缩场反射面再到所述待测天线的直射波信号时间相同的所述紧缩场天线测量同步反射点位置。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述紧缩场天线测量同步反射点位置位于所述椭球面与所述紧缩场暗室的侧墙、紧缩场暗室的地面、紧缩场暗室的屋顶、紧缩场暗室的前后墙或在紧缩场暗室内部空间存在的物体的交汇处。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:该方法的步骤进一步包括在所述紧缩场天线测量同步反射点位置放置吸波材料或移除位于同步反射点的物体。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20150506 |
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RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |