CN104498231A - 一种太阳能硅片的清洗剂配方 - Google Patents

一种太阳能硅片的清洗剂配方 Download PDF

Info

Publication number
CN104498231A
CN104498231A CN201410846638.7A CN201410846638A CN104498231A CN 104498231 A CN104498231 A CN 104498231A CN 201410846638 A CN201410846638 A CN 201410846638A CN 104498231 A CN104498231 A CN 104498231A
Authority
CN
China
Prior art keywords
parts
solar silicon
silicon wafers
cleaning agent
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201410846638.7A
Other languages
English (en)
Inventor
聂金根
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
ZHENJIANG GANGNAN ELECTRIC CO Ltd
Original Assignee
ZHENJIANG GANGNAN ELECTRIC CO Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ZHENJIANG GANGNAN ELECTRIC CO Ltd filed Critical ZHENJIANG GANGNAN ELECTRIC CO Ltd
Priority to CN201410846638.7A priority Critical patent/CN104498231A/zh
Publication of CN104498231A publication Critical patent/CN104498231A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Detergent Compositions (AREA)

Abstract

本发明提供了一种太阳能硅片的清洗剂配方，按重量份计包括以下组分，还原剂 50-100份，氢氧化钠 20-50份，防腐剂20-60份，纯碱10-50份，无水硅酸钠 30-50份，氯化钙10-60份，二丙二醇甲醚10-50份，水50-150份，配置方便，成本低，无危害，节水，不伤手，清洗过程安全简单，清洗效果好，对人类卫生健康影响小。

Description

一种太阳能硅片的清洗剂配方
技术领域
本发明涉及工业清洗领域，尤其涉及一种太阳能硅片的清洗剂领域。
背景技术
      太阳能硅片的清洗是指清洗硅片表面受到物理、化学或生物的作用而形成的污染层或覆盖层使其恢复原表面的过程。太阳能硅片的清洗具有节能、降耗、节水、安全、稳产、提高产品质量、加快生产速度、延长设备使用寿命、降低环境污染以及外表美观和人类卫生健康等作用。目前太阳能硅片长时间会产生污垢，如不及时清洗，会影响产品生产，同时大部分清洗剂具有毒物质，容易腐蚀皮肤。
发明内容
本发明的目的是提供一种太阳能硅片的清洗剂配方，解决现有清洗剂容易腐蚀皮肤的问题。
本发明的目的可以通过以下技术方案实现；
一种太阳能硅片的清洗剂配方，按重量份计包括以下组分；
还原剂                     50-100份
氢氧化钠                   20-50份
防腐剂                     20-60份
纯碱                       10-50份
无水硅酸钠                 30-50份
氯化钙                     10-60份
二丙二醇甲醚               10-50份
水                         50-150份。
上述的一种太阳能硅片的清洗剂配方，其中，优选的，其组成成份按重量份数计如下：
还原剂                     60份
氢氧化钠                   20份
防腐剂                     20份
纯碱                       10份
无水硅酸钠                 30份
氯化钙                      10份
二丙二醇甲醚                15份
水                          75份。
上述的一种太阳能硅片的清洗剂配方，其中，所述的还原剂与氢氧化钠的重量分数比为3:1。
上述的一种太阳能硅片的清洗剂配方，其中，所述的防腐剂与纯碱的重量分数比为2:1。
上述的一种太阳能硅片的清洗剂配方，其中，所述的无水硅酸钠与水的重量分数比为2:5。
上述的一种太阳能硅片的清洗剂配方，其中，所述的氯化钙与二丙二醇甲醚的重量分数比2:3。
上述的一种太阳能硅片的清洗剂配方，其中，所述的防腐剂为三氯甲醛。
本方案的有益效果：
本发明提供的一种太阳能硅片的清洗剂配方，配置方便，成本低，无危害，节水，不伤手，清洗过程安全简单，清洗效果好，对人类卫生健康影响小。
具体实施方式
实施例1：一种太阳能硅片的清洗剂配方，按重量份计包括以下组分；
还原剂                      60份
氢氧化钠                     20份
防腐剂                      20份
纯碱                        10份
无水硅酸钠                   30份
氯化钙                       10份
二丙二醇甲醚                15份
水                          75份。
实施例2：一种太阳能硅片的清洗剂配方，按重量份计包括以下组分；
还原剂                        75份
氢氧化钠                       25份
防腐剂                         30份
纯碱                           15份
无水硅酸钠                     40份
氯化钙                         12份
二丙二醇甲醚                    18份
水                              100份。
实施例3：一种太阳能硅片的清洗剂配方，按重量份计包括以下组分；
还原剂                      90份
氢氧化钠                    30份
防腐剂                       40份
纯碱                          20份
无水硅酸钠                   50份
氯化钙                        16份
二丙二醇甲醚                  48份
水                            125份。
本发明提供的一种太阳能硅片的清洗剂配方，配置方便，成本低，无危害，节水，不伤手，清洗过程安全简单，清洗效果好，对人类卫生健康影响小。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围内。因此，本发明的保护范围应该以权利要求书的保护范围为准。

Claims (7)

1.一种太阳能硅片的清洗剂配方，其特征为，按重量份计包括以下组分；
还原剂                     50-100份
氢氧化钠                   20-50份
防腐剂                     20-60份
纯碱                       10-50份
无水硅酸钠                 30-50份
氯化钙                     10-60份
二丙二醇甲醚               10-50份
水                         50-150份。
2.如权利要求1所述的一种太阳能硅片的清洗剂配方，其特征为，优选的，其组成成份按重量份数计如下：
还原剂                     60份
氢氧化钠                   20份
防腐剂                     20份
纯碱                       10份
无水硅酸钠                 30份
氯化钙                      10份
二丙二醇甲醚                15份
水                          75份。
3. 如权利要求1所述的一种太阳能硅片的清洗剂配方，其特征为，所述的还原剂与氢氧化钠的重量分数比为3:1。
4. 如权利要求1所述的一种太阳能硅片的清洗剂配方，其特征为，所述的防腐剂与纯碱的重量分数比为2:1。
5. 如权利要求1所述的一种太阳能硅片的清洗剂配方，其特征为，所述的无水硅酸钠与水的重量分数比为2:5。
6. 如权利要求1所述的一种太阳能硅片的清洗剂配方，其特征为，所述的氯化钙与二丙二醇甲醚的重量分数比2:3。
7. 如权利要求1所述的一种太阳能硅片的清洗剂配方，其特征为，所述的防腐剂为三氯甲醛。
CN201410846638.7A 2014-12-31 2014-12-31 一种太阳能硅片的清洗剂配方 Pending CN104498231A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410846638.7A CN104498231A (zh) 2014-12-31 2014-12-31 一种太阳能硅片的清洗剂配方

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410846638.7A CN104498231A (zh) 2014-12-31 2014-12-31 一种太阳能硅片的清洗剂配方

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN104498231A true CN104498231A (zh) 2015-04-08

Family

ID=52939686

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410846638.7A Pending CN104498231A (zh) 2014-12-31 2014-12-31 一种太阳能硅片的清洗剂配方

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN104498231A (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104893848A (zh) * 2015-06-09 2015-09-09 武汉宜田科技发展有限公司 一种易降解环保型硅片清洗剂及其制备方法
CN107118873A (zh) * 2017-06-26 2017-09-01 张兆民 一种太阳能单晶硅片清洗剂

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030083214A1 (en) * 2000-03-21 2003-05-01 Masahiko Kakizawa Semiconductor wafer cleaning agent and cleaning method
CN1944613A (zh) * 2006-06-07 2007-04-11 天津晶岭电子材料科技有限公司 一种用于集成电路衬底硅片的清洗剂及其清洗方法
CN101892132A (zh) * 2010-07-23 2010-11-24 北京工业大学 一种太阳能硅片清洗剂及其制备方法
CN102477358A (zh) * 2010-11-29 2012-05-30 江苏协鑫硅材料科技发展有限公司 硅片清洗剂
CN102660409A (zh) * 2012-05-14 2012-09-12 陕西省石油化工研究设计院 光伏电池硅片清洗剂及其制备方法
CN103484261A (zh) * 2012-06-13 2014-01-01 浙江瑞翌新材料科技有限公司 一种太阳能硅片清洗剂

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030083214A1 (en) * 2000-03-21 2003-05-01 Masahiko Kakizawa Semiconductor wafer cleaning agent and cleaning method
CN1944613A (zh) * 2006-06-07 2007-04-11 天津晶岭电子材料科技有限公司 一种用于集成电路衬底硅片的清洗剂及其清洗方法
CN101892132A (zh) * 2010-07-23 2010-11-24 北京工业大学 一种太阳能硅片清洗剂及其制备方法
CN102477358A (zh) * 2010-11-29 2012-05-30 江苏协鑫硅材料科技发展有限公司 硅片清洗剂
CN102660409A (zh) * 2012-05-14 2012-09-12 陕西省石油化工研究设计院 光伏电池硅片清洗剂及其制备方法
CN103484261A (zh) * 2012-06-13 2014-01-01 浙江瑞翌新材料科技有限公司 一种太阳能硅片清洗剂

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104893848A (zh) * 2015-06-09 2015-09-09 武汉宜田科技发展有限公司 一种易降解环保型硅片清洗剂及其制备方法
CN104893848B (zh) * 2015-06-09 2018-04-03 武汉宜田科技发展有限公司 一种易降解环保型硅片清洗剂及其制备方法
CN107118873A (zh) * 2017-06-26 2017-09-01 张兆民 一种太阳能单晶硅片清洗剂

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104498219A (zh) 一种太阳能硅片的除锈剂配方
WO2011138719A3 (en) Highly concentrated caustic block for ware washing
CN104498231A (zh) 一种太阳能硅片的清洗剂配方
CN103146499A (zh) 一种废聚酯瓶片清洗剂
CN101757857A (zh) 一种清洗膜系统含有机物污堵的复合清洗剂
WO2011138720A3 (en) Use of a soluble lithium salt as a glass etching inhibitor
CN102744230A (zh) 一种粘污太阳能硅片的清洗方法
CN104673524A (zh) 洗洁剂
CN108102823A (zh) 一种除螨低泡多功能洗衣液
CN104028503B (zh) 硅原材料的清洗方法
RU2005117656A (ru) Моющее средство для очистки металлической поверхности
CN104498218A (zh) 一种太阳能硅片的清洗剂制备方法
CN104862093A (zh) 一种酸性超声波清洗剂
CN104593788A (zh) 一种用于工业清洗的无害除锈剂配方
CN104140899A (zh) 一种电脑键盘消毒清洗液
CN103710184A (zh) 羽绒清洗护理剂
CN105861185A (zh) 水性清洗剂
CN104513729A (zh) 一种成本低无毒害用于工业清洗的清洗剂配方
CN108611195A (zh) 一种机械设备清洗剂
CN104531391A (zh) 一种太阳能硅片的除锈剂制备方法
CN105296176A (zh) 一种防冻玻璃清洗剂
CN106590965A (zh) 一种汽车加工材料光滑处理剂
CN103013683A (zh) 一种浴缸清洗剂
CN106148053A (zh) 一种建筑材料光滑处理剂
CN102864029A (zh) 一种高效无害布料清洗剂

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20150408

WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication