CN104429509A - 日光温室越冬茬黄瓜栽培前管理的方法 - Google Patents

日光温室越冬茬黄瓜栽培前管理的方法 Download PDF

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卢炳松
徐加银
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    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01C—PLANTING; SOWING; FERTILISING
    • A01C1/00—Apparatus, or methods of use thereof, for testing or treating seed, roots, or the like, prior to sowing or planting
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01G—HORTICULTURE; CULTIVATION OF VEGETABLES, FLOWERS, RICE, FRUIT, VINES, HOPS OR SEAWEED; FORESTRY; WATERING
    • A01G2/00—Vegetative propagation

Abstract

日光温室越冬茬黄瓜栽培前管理的方法，涉及黄瓜栽培种植技术领域，其特征在于：包括建造温室、选择品种、确定播期、苗期定植。本发明方法合理、实施方便、操作简单。

Description

日光温室越冬茬黄瓜栽培前管理的方法
技术领域：
本发明涉及黄瓜栽培种植技术领域，具体涉及日光温室越冬茬黄瓜栽培前管理的方法。
背景技术：
黄瓜，英文名字Cucumber，也称胡瓜、青瓜，属葫芦科植物。广泛分布于中国各地，并且为主要的温室产品之一。黄瓜的茎上覆有毛，富含汁液，叶片的外观有3-5枚裂片，覆有绒毛。黄瓜的瓜皮本来是青绿色，放久了会逐渐变为黄色，又称为老黄瓜。
在我国，黄瓜的产量非常的大，并且种植的地域非常的广泛，这样在种植、养护、收割等各个时期都需要非常完善的方法，但是由于许多的大棚或者温室等种植，由于量非常的大，这样就无法良好的实施，而且如果方法一旦复杂，就更加的麻烦。
发明内容：
本发明所要解决的技术问题在于克服现有的技术缺陷提供一种方法合理、实施方便、操作简单的日光温室越冬茬黄瓜栽培前管理的方法。
本发明所要解决的技术问题采用以下的技术方案来实现：
日光温室越冬茬黄瓜栽培前管理的方法，其特征在于：包括以下步骤，
步骤一、建造温室：选择土壤肥沃、富含有机质、交通方便、上茬作物不是瓜类的田块作为栽培地，日光温室跨度9m、长125m，室内脊高2.2-3.05m，有后墙、山墙和后坡，前屋面覆盖透明覆盖物塑料薄膜和保温覆盖物草苫；
步骤二、选择品种：选择耐低温、弱光能力强、不易早衰、结瓜性能好的优质、高产、抗病品种，比如津绿21-10、黑妹双星、博美201、博美202等；砧木多选择黑籽南瓜；
步骤三、确定播期：播种时期是9月上旬-10月上旬，播种前用50-58℃的温水中浸种20-25分钟，然后用清水浸种5-6.5个小时，洗净滤干后催芽至70％种子露白即可播种，而包衣的种子可以直播；
步骤四、苗期定植：定植前3-5天进行整畦，为起垄栽培，垄高为25cm，沟深10-15cm，畦面宽度为150cm，定植密度是3000-3560株/亩，株距25-32cm，行距73-81cm。
本发明的有益效果为：上述的步骤表述的非常的清晰，这样工作人员在参照上述步骤工作的过程中就不容易出现大的失误和错误，这样就能够大大的提高工作效率，并且上述步骤对于工作的时间、温度等都描述的很清楚，这样工作起来就更加的方便。本发明方法合理、实施方便、操作简单。
具体实施方式：
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面进一步阐述本发明。
日光温室越冬茬黄瓜栽培前管理的方法，其特征在于：包括以下步骤，
步骤一、建造温室：选择土壤肥沃、富含有机质、交通方便、上茬作物不是瓜类的田块作为栽培地，日光温室跨度9m、长125m，室内脊高2.2-3.05m，有后墙、山墙和后坡，前屋面覆盖透明覆盖物塑料薄膜和保温覆盖物草苫；
步骤二、选择品种：选择耐低温、弱光能力强、不易早衰、结瓜性能好的优质、高产、抗病品种，比如津绿21-10、黑妹双星、博美201、博美202等；砧木多选择黑籽南瓜；
步骤三、确定播期：播种时期是9月上旬-10月上旬，播种前用50-58℃的温水中浸种20-25分钟，然后用清水浸种5-6.5个小时，洗净滤干后催芽至70％种子露白即可播种，而包衣的种子可以直播；
步骤四、苗期定植：定植前3-5天进行整畦，为起垄栽培，垄高为25cm，沟深10-15cm，畦面宽度为150cm，定植密度是3000-3560株/亩，株距25-32cm，行距73-81cm。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (1)

1.日光温室越冬茬黄瓜栽培前管理的方法，其特征在于：包括以下步骤，
步骤一、建造温室：选择土壤肥沃、富含有机质、交通方便、上茬作物不是瓜类的田块作为栽培地，日光温室跨度9m、长125m，室内脊高2.2-3.05m，有后墙、山墙和后坡，前屋面覆盖透明覆盖物塑料薄膜和保温覆盖物草苫；
步骤二、选择品种：选择耐低温、弱光能力强、不易早衰、结瓜性能好的优质、高产、抗病品种，比如津绿21-10、黑妹双星、博美201、博美202等；砧木多选择黑籽南瓜；
步骤三、确定播期：播种时期是9月上旬-10月上旬，播种前用50-58℃的温水中浸种20-25分钟，然后用清水浸种5-6.5个小时，洗净滤干后催芽至70％种子露白即可播种，而包衣的种子可以直播；
步骤四、苗期定植：定植前3-5天进行整畦，为起垄栽培，垄高为25cm，沟深10-15cm，畦面宽度为150cm，定植密度是3000-3560株/亩，株距25-32cm，行距73-81cm。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
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WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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