CN104263564A - 一种ps版/ctp版冲版机用浓缩除垢剂及其制备方法 - Google Patents

一种ps版/ctp版冲版机用浓缩除垢剂及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN104263564A
CN104263564A CN201410467486.XA CN201410467486A CN104263564A CN 104263564 A CN104263564 A CN 104263564A CN 201410467486 A CN201410467486 A CN 201410467486A CN 104263564 A CN104263564 A CN 104263564A
Authority
CN
China
Prior art keywords
parts
version
acid
detergent
deionized water
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201410467486.XA
Other languages
English (en)
Inventor
王贵东
宋睿
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hefei Ring Macromolecular Material Factory
Original Assignee
Hefei Ring Macromolecular Material Factory
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hefei Ring Macromolecular Material Factory filed Critical Hefei Ring Macromolecular Material Factory
Priority to CN201410467486.XA priority Critical patent/CN104263564A/zh
Publication of CN104263564A publication Critical patent/CN104263564A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Detergent Compositions (AREA)

Abstract

本发明涉及PS/CTP印刷领域,具体涉及一种PS版/CTP版冲版机用浓缩除垢剂及其制备方法,该除垢剂由如下重量份的原料制成:乙酸10-12、硼酸5-8、氨基磺酸6-8、去离子水40-50、乙酸乙酯4-5、EDTA二钠1-3、十二烷基苯磺酸钠2-3、乙醇10-12、助剂2-4;本发明除垢剂用乙酸、硼酸、氨基磺酸混合溶液取代了传统的稀盐酸溶液,不仅仍具有良好的除垢能力,对设备的腐蚀能力也得到降低,且更为环保安全,混容的乙酸乙酯能增进溶液对显影液中卤族化合物结晶以及附着有机溶剂的去除能力;本发明除垢剂在实际使用过程中用量少,见效快,易清洗无残留。

Description

一种PS版/CTP版冲版机用浓缩除垢剂及其制备方法
技术领域
本发明涉及PS/CTP印刷领域,具体涉及一种PS版/CTP版冲版机用浓缩除垢剂及其制备方法。
背景技术
PS版/CTP版的冲版机在使用一段时间后,内部液槽、辊子等部位很容易出现结晶、起垢的情况,常规的处理方法是使用稀盐酸溶液进行清洗,这种方法虽然也能取得令人满意的清洁效果,但却容易对设备造成损害,且有不良的气味,因此,有必要研制既能高效清洁且不易损害设备的安全环保除垢剂,从而保证印刷质量,提高生产效率。
发明内容
本发明的目的在于,提供一种PS版/CTP版冲版机用浓缩除垢剂及其制备方法,为了实现上述目的,本发明采用的技术方案如下:
一种PS版/CTP版冲版机用浓缩除垢剂及其制备方法,其特征在于,该除垢剂由以下重量份的原料制成:乙酸10-12、硼酸5-8、氨基磺酸6-8、去离子水40-50、乙酸乙酯4-5、EDTA二钠1-3、十二烷基苯磺酸钠2-3、乙醇10-12、助剂2-4;
所述的助剂由以下重量份的原料制成:羧甲基纤维素钠1-3、二硫化钼1-2、去离子水5-8、茶多酚1-2、单宁酸0.1-0.2,制备方法为:先将茶多酚、单宁酸投入去离子水中,搅拌至其完全溶解后,再加入羧甲基纤维素钠,继续搅拌至其完全分散后,再将二硫化钼投入,继续搅拌分散30-50min后,将所得物料加热至50-60℃,浓缩成膏状,即得。
所述的一种PS版/CTP版冲版机用浓缩除垢剂及其制备方法,其特征在于,该除垢剂的制备方法如下:先将乙酸、硼酸以及氨基磺酸、十二烷基苯磺酸钠投入去离子水,搅拌至完全溶解后,再加入乙酸乙酯、乙醇,继续搅拌分散1-2h,最后再加入其它剩余成分,继续搅拌分散至溶液稳定均匀后即可。
本发明除垢剂的有益效果在于:首先用乙酸、硼酸、氨基磺酸混合溶液取代了传统的稀盐酸溶液,不仅仍具有良好的除垢能力,对设备的腐蚀能力也得到降低,且更为环保安全,溶液中混容的乙酸乙酯能增进溶液对显影液中卤族化合物结晶以及附着有机溶剂的去除能力;本发明除垢剂在实际使用过程中用量少,见效快,易清洗无残留,更为环保安全。
具体实施方式
实施例
本实施例的除垢剂由以下重量份的原料制成:乙酸12、硼酸8、氨基磺酸6、去离子水40、乙酸乙酯4、EDTA二钠2、十二烷基苯磺酸钠3、乙醇12、助剂2。
其中助剂由以下重量份的原料制成:羧甲基纤维素钠2、二硫化钼1.5、去离子水8、茶多酚2、单宁酸0.1,制备方法为:先将茶多酚、单宁酸投入去离子水中,搅拌至其完全溶解后,再加入羧甲基纤维素钠,继续搅拌至其完全分散后,再将二硫化钼投入,继续搅拌分散50min后,将所得物料加热至50-60℃,浓缩成膏状,即得。
该除垢剂的制备方法为:先将乙酸、硼酸以及氨基磺酸、十二烷基苯磺酸钠投入去离子水,搅拌至完全溶解后,再加入乙酸乙酯、乙醇,继续搅拌分散1h,最后再加入其它剩余成分,继续搅拌分散至溶液稳定均匀后即可。

Claims (2)

1.一种PS版/CTP版冲版机用浓缩除垢剂及其制备方法,其特征在于,该除垢剂由以下重量份的原料制成:乙酸10-12、硼酸5-8、氨基磺酸6-8、去离子水40-50、乙酸乙酯4-5、EDTA二钠1-3、十二烷基苯磺酸钠2-3、乙醇10-12、助剂2-4;
所述的助剂由以下重量份的原料制成:羧甲基纤维素钠1-3、二硫化钼1-2、去离子水5-8、茶多酚1-2、单宁酸0.1-0.2,制备方法为:先将茶多酚、单宁酸投入去离子水中,搅拌至其完全溶解后,再加入羧甲基纤维素钠,继续搅拌至其完全分散后,再将二硫化钼投入,继续搅拌分散30-50min后,将所得物料加热至50-60℃,浓缩成膏状,即得。
2.如权利要求1所述的一种PS版/CTP版冲版机用浓缩除垢剂及其制备方法,其特征在于,该除垢剂的制备方法如下:先将乙酸、硼酸以及氨基磺酸、十二烷基苯磺酸钠投入去离子水,搅拌至完全溶解后,再加入乙酸乙酯、乙醇,继续搅拌分散1-2h,最后再加入其它剩余成分,继续搅拌分散至溶液稳定均匀后即可。
CN201410467486.XA 2014-09-15 2014-09-15 一种ps版/ctp版冲版机用浓缩除垢剂及其制备方法 Pending CN104263564A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410467486.XA CN104263564A (zh) 2014-09-15 2014-09-15 一种ps版/ctp版冲版机用浓缩除垢剂及其制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410467486.XA CN104263564A (zh) 2014-09-15 2014-09-15 一种ps版/ctp版冲版机用浓缩除垢剂及其制备方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN104263564A true CN104263564A (zh) 2015-01-07

Family

ID=52155149

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410467486.XA Pending CN104263564A (zh) 2014-09-15 2014-09-15 一种ps版/ctp版冲版机用浓缩除垢剂及其制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN104263564A (zh)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103666872A (zh) * 2013-11-18 2014-03-26 蚌埠市时代电子有限公司 一种ps/ctp版洁版液及其制备方法
CN103666840A (zh) * 2013-11-18 2014-03-26 蚌埠市时代电子有限公司 一种冲版机专用除钙剂及其制备方法
CN103773639A (zh) * 2014-01-23 2014-05-07 南通苏通分离工程科技有限公司 一种设备除垢剂及其制备方法
CN103773616A (zh) * 2013-11-18 2014-05-07 蚌埠天光传感器有限公司 一种冲版机专用除垢剂及其制备方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103666872A (zh) * 2013-11-18 2014-03-26 蚌埠市时代电子有限公司 一种ps/ctp版洁版液及其制备方法
CN103666840A (zh) * 2013-11-18 2014-03-26 蚌埠市时代电子有限公司 一种冲版机专用除钙剂及其制备方法
CN103773616A (zh) * 2013-11-18 2014-05-07 蚌埠天光传感器有限公司 一种冲版机专用除垢剂及其制备方法
CN103773639A (zh) * 2014-01-23 2014-05-07 南通苏通分离工程科技有限公司 一种设备除垢剂及其制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105116696A (zh) 一种光刻胶剥离液及其应用
CN104178362A (zh) 一种防掉色洗衣液
CN103540453A (zh) 水泥混凝土结垢清洗剂及其制备方法
CN103773639A (zh) 一种设备除垢剂及其制备方法
CN105274547A (zh) 一种高效水基型清洗剂
CN104531397A (zh) 一种平板玻璃基板减薄预清洗用清洗液及其应用
CN104312759A (zh) 一种高效机械清洗剂及其制备方法
CN104263564A (zh) 一种ps版/ctp版冲版机用浓缩除垢剂及其制备方法
CN107987604A (zh) 一种蓝宝石玻璃油墨清洗剂及其制备方法
CN104263562A (zh) 一种ps版/ctp版用去污修复洁版液及其制备方法
WO2018018422A1 (zh) 一种水溶性混凝土脱模剂及其制备方法
CN105466748B (zh) Ps板基表面条纹检测方法
CN103497569B (zh) 一种油墨清洗剂及其制备方法
CN103849504A (zh) 一种玻璃制品专用清洗剂
TWI295751B (en) Aqueous alkaline photoresist cleaning composition and method using the same
CN105670376A (zh) 一种脱漆剂及制备方法
CN102051269A (zh) 有机化工容器清洗剂的制作方法
CN104263563A (zh) 一种ps版/ctp版冲版机用除钙剂及其制备方法
CN103605270B (zh) 一种光刻胶水基硅片清洗液及其制备方法
CN102251248A (zh) 一种金属表面清洗剂
CN104232355A (zh) 一种ps版/ctp版冲版机用天然除垢剂及其制备方法
CN102503878A (zh) 一种过氧化二异丙苯母液的洗涤方法
TW201624153A (zh) 抗蝕劑剝離液
CN109777631A (zh) 一种电子工业用环保型水基清洗剂及其制备工艺
CN104559429A (zh) 一种工业清洗用脱漆剂制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20150107