CN104062858A - 零光程差自参考干涉对准系统 - Google Patents

零光程差自参考干涉对准系统 Download PDF

Info

Publication number
CN104062858A
CN104062858A CN201310090906.2A CN201310090906A CN104062858A CN 104062858 A CN104062858 A CN 104062858A CN 201310090906 A CN201310090906 A CN 201310090906A CN 104062858 A CN104062858 A CN 104062858A
Authority
CN
China
Prior art keywords
light
path difference
zero
optical path
interfered
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201310090906.2A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104062858B (zh
Inventor
蓝科
李运锋
王诗华
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Shanghai Micro and High Precision Mechine Engineering Co Ltd
Original Assignee
Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Shanghai Micro and High Precision Mechine Engineering Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd, Shanghai Micro and High Precision Mechine Engineering Co Ltd filed Critical Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Priority to CN201310090906.2A priority Critical patent/CN104062858B/zh
Publication of CN104062858A publication Critical patent/CN104062858A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104062858B publication Critical patent/CN104062858B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

本发明提出一种零光程差自参考干涉对准系统,包括:激光光源模块,用于提供所需的照明光束;光学模块,用于将照明光束照射到对准标记上,形成光学信号;电子采集模块,用于将所述光学信号进行处理,获得光强信号;软件模块,用于对光强信号进行处理,进一步获得对准位置;其特征在于:所述光学模块包括一等光程回路,使不同偏振态的正负级次光经过相同的光程后进行干涉。本发明在现有技术基础上进行了改进,可以实现各色光、各级次光零光程差干涉对准,从而提高对准精度。

Description

零光程差自参考干涉对准系统
技术领域
本发明涉及一种集成电路装备制造领域,尤其涉及一种用于光刻设备的零光程差自参考干涉对准系统。
背景技术
在半导体IC集成电路制造过程中,一个完整的芯片通常需要经过多次光刻曝光才能制作完成。除了第一次光刻外,其余层次的光刻在曝光前都要将该层次的图形与以前层次曝光留下的图形进行精确定位,这样才能保证每一层图形之间有正确的相对位置,即套刻精度。通常情况下,套刻精度为光刻机分辨率指标的1/3~1/5,对于100纳米的光刻机而言,套刻精度指标要求小于35nm。套刻精度是投影光刻机的主要技术指标之一,而掩模与硅片之间的对准精度是影响套刻精度的关键因素。当特征尺寸CD要求更小时,对套刻精度的要求以及由此产生的对准精度的要求变得更加严格,如90nm的CD尺寸要求10nm或更小的对准精度。
掩模与硅片之间的对准可采用掩模(同轴)对准+硅片(离轴)对准的方式,即以工件台基准板标记为桥梁,建立掩模标记和硅片标记之间的位置关系,如图1所示。对准的基本过程为:首先通过同轴对准系统9(即掩模对准系统),实现掩模标记3与位于运动台5上的基准板标记7之间的对准,然后利用离轴对准系统10(硅片对准系统),完成硅片对准标记6与工件台基准板标记7之间的对准(通过两次对准实现),进而间接实现硅片对准标记6与掩模对准标记3之间对准,建立二者之间的位置坐标关系。
专利EP1148390、US00US7564534和CN03133004.5给出了一种自参考干涉对准系统,如图2所示。该对准系统通过像旋转装置,实现对准标记衍射波面的分裂,以及分裂后两波面相对180°的旋转重叠干涉,然后利用光强信号探测器,在光瞳面处探测干涉后的对准信号,通过信号分析器确定标记的对准位置。该对准系统要求对准标记是180°旋转对称。像旋转装置是该对准系统最核心的装置,用于标记像的分裂与旋转和叠加。在该发明中,像旋转装置通过自参考干涉仪实现。
专利US00US7564534、CN03133004.5、CN201210117917.0和CN201210091145.8给出了该对准系统的具体实现结构,如图3所示。自参考干涉对准系统包括:激光光源模块,用于提供所需的照明光束;光学模块,用于将照明光束照射到对准标记上,形成光学信号;电子采集模块,用于将所述光学信号进行处理,获得光强信号;以及软件模块,用于对光强信号进行处理,进一步获得对准位置。该技术方案中每一组件的作用可参考在先专利,此处作为公知技术引入。但是,技术对分裂后两波面通过走不同光路相互旋转干涉,各种色光,不同级次之间消不同光路造成的光程差通过补偿器实现,但对于宽光谱,补偿器补偿额度有限(1um左右),而实际加工装配带来的光程差远高于10um,且该技术方案中0级光未被过滤掉,当分裂后两波面光程差较大时,会造成0级光泄露,从而降低信号对比度。如果能让分裂后两波面走相同的光路,并且实现必要的旋转,从而实现零光程差干涉,消除各色光,各级次光之间的初始相位差,从而提高对准精度和对比度。
发明内容
为了克服现有技术中存在的缺陷,本发明提出一种零光程差自参考干涉对准系统,包括:激光光源模块,用于提供所需的照明光束;光学模块,用于将照明光束照射到对准标记上,形成光学信号;电子采集模块,用于将所述光学信号进行处理,获得光强信号;软件模块,用于对光强信号进行处理,进一步获得对准位置;其特征在于:所述光学模块包括一等光程回路,使不同偏振态的正负级次光经过相同的光程后进行干涉。
较优地,所述等光程回路包括一旋转棱镜,将经过偏振分束的两束照明光束的偏振方向分别旋转90度,物像关系分别旋转90度。
其中,所述等光程回路中除旋转棱镜外的其他反射镜为奇数个。
较优地,所述激光光源模块还包括波长选择器,将宽光谱光源形成特定单色光。
较优地,所述光学模块还包括一区域反射镜,将高级光通光区域镀反射膜,零级光区域镀增透膜形成高反零通的反射镜。
其中,所述光学模块还包括一光隔离器,隔离反射回的零级光。
其中,所述电子采集模块中光信号的传输使用多模光纤。
本发明在现有技术基础上进行了改进,可以实现各色光、各级次光零光程差干涉对准,从而提高对准精度。
附图说明
关于本发明的优点与精神可以通过以下的发明详述及所附图式得到进一步的了解。
图1是光刻对准系统示意图;
图2是现有技术中的自参考干涉对准系统示意图;
图3是现有技术中的自参考干涉对准系统结构图;
图4是本发明零光程差自参考干涉对准系统结构图。
具体实施方式
下面结合附图详细说明本发明的具体实施方式。
如图4所示,本发明零光程差自参考干涉对准系统包括光源300、波长选择器301、光隔离器302、透镜组303、区域反射镜304、透镜组2-305、偏振分束器PBS1-306、旋转棱镜307、反射镜1-308、反射镜2-309、半波片310、偏振分束器PBS2-311、透镜组3-312、透镜组4-313、能量传感器1-314、能量传感器2-315和硅片316。
宽光谱光源经波长选择器301后形成特定单色光,此时偏振方向为与纸面成夹角为45度的线偏振光,通过区域反射镜304后照射硅片316。区域反射镜304是指在整个通光区域将高级光通光区域镀反射膜,零级光区域镀增透膜形成高反零通的反射镜。高级次光被区域反射镜304反射后在偏振分束器PBS1处均匀分光,S、P光经过旋转棱镜307后,偏振方向分别旋转90度,物像关系分别旋转90度。在偏振分束器PBS1处合光后形成干涉,经反射镜2-309反射,再经过半波片310,干涉光被偏振分束器PBS2分予两个支路被能量传感器接收。0级光透过区域反射镜304回到照明光路被光隔离器302隔离掉。
本发明中从偏振分束器PBS1分光到合光,两种偏振方向的光分别走完等光程回路400。由于两束相干光所走路程相等,且区域反射镜将零级光过滤到入射光支路,因此不存在引证文献所述的零级光泄露问题,也不需要补偿器,而补偿器补偿不同色光的光程差的额度有限,必然限制光谱的使用范围,因此本发明实用于宽光谱照明,通过波长选择器根据客户(工艺)需要实时在线选择单一波长通过。此时能量接收传送器件需要选择对宽光谱敏感的传送器件(多模光纤等)。本实施例中光隔离器可以是法拉第隔离器,通过改变光束的偏振方向隔离光束反射回激光器。
本发明中要使正负级次光分别旋转90度,必须保证在等光程回路400中光路在90度旋转棱镜之外反射(45度入射)奇数次。
本发明中正负级次光相对旋转180度后干涉,由于正负级次光在非标记中心具有非零相位差Δφ,干涉光经过偏振分束器PBS3后各支路的能量I分布满足:
2.1
2.2
式中k为衍射波矢,-k为旋转180度后的衍射波矢。
本说明书中所述的只是本发明的较佳具体实施例,以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非对本发明的限制。凡本领域技术人员依本发明的构思通过逻辑分析、推理或者有限的实验可以得到的技术方案,皆应在本发明的范围之内。

Claims (7)

1.一种零光程差自参考干涉对准系统,包括:
激光光源模块,用于提供所需的照明光束;
光学模块,用于将照明光束照射到对准标记上,形成光学信号;
电子采集模块,用于将所述光学信号进行处理,获得光强信号;
软件模块,用于对光强信号进行处理,进一步获得对准位置;
其特征在于:所述光学模块包括一等光程回路,使不同偏振态的正负级次光经过相同的光程后进行干涉。
2.如权利要求1所述的零光程差自参考干涉对准系统,其特征在于,所述等光程回路包括一旋转棱镜,将经过偏振分束的两束照明光束的偏振方向分别旋转90度,物像关系分别旋转90度。
3. 如权利要求2所述的零光程差自参考干涉对准系统,其特征在于,所述等光程回路中除旋转棱镜外的其他反射镜为奇数个。
4.如权利要求1所述的零光程差自参考干涉对准系统,其特征在于,所述激光光源模块还包括波长选择器,将宽光谱光源形成特定单色光。
5.如权利要求1所述的零光程差自参考干涉对准系统,其特征在于,所述光学模块还包括一区域反射镜,将高级光通光区域镀反射膜,零级光区域镀增透膜形成高反零通的反射镜。
6.如权利要求1所述的零光程差自参考干涉对准系统,其特征在于,所述光学模块还包括一光隔离器,隔离反射回的零级光。
7. 如权利要求1所述的零光程差自参考干涉对准系统,其特征在于,所述电子采集模块中光信号的传输使用多模光纤。
CN201310090906.2A 2013-03-21 2013-03-21 零光程差自参考干涉对准系统 Active CN104062858B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310090906.2A CN104062858B (zh) 2013-03-21 2013-03-21 零光程差自参考干涉对准系统

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310090906.2A CN104062858B (zh) 2013-03-21 2013-03-21 零光程差自参考干涉对准系统

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104062858A true CN104062858A (zh) 2014-09-24
CN104062858B CN104062858B (zh) 2016-09-28

Family

ID=51550636

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201310090906.2A Active CN104062858B (zh) 2013-03-21 2013-03-21 零光程差自参考干涉对准系统

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN104062858B (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105445929A (zh) * 2014-08-20 2016-03-30 上海微电子装备有限公司 光程调整装置和光程调整方法
CN110702218A (zh) * 2019-09-29 2020-01-17 中国科学院空间应用工程与技术中心 一种激光光束指向测量装置和方法
CN112747668A (zh) * 2019-10-31 2021-05-04 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种基于旋转棱镜的干涉数据采集处理系统
CN114636372A (zh) * 2022-03-14 2022-06-17 中国科学院光电技术研究所 将s变换用于宽光谱自参考干涉对准系统光谱解相位方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1148390A2 (en) * 2000-04-20 2001-10-24 Svg Lithography Systems, Inc. Mark independent alignment sensor
CN1477448A (zh) * 2002-06-11 2004-02-25 Asml荷兰有限公司 光刻装置和器件制造方法
US20060061743A1 (en) * 2004-09-22 2006-03-23 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, alignment system, and device manufacturing method
CN102402141A (zh) * 2010-09-08 2012-04-04 Asml荷兰有限公司 自参考干涉仪、对准系统和光刻设备

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1148390A2 (en) * 2000-04-20 2001-10-24 Svg Lithography Systems, Inc. Mark independent alignment sensor
CN1477448A (zh) * 2002-06-11 2004-02-25 Asml荷兰有限公司 光刻装置和器件制造方法
US20060061743A1 (en) * 2004-09-22 2006-03-23 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, alignment system, and device manufacturing method
CN102402141A (zh) * 2010-09-08 2012-04-04 Asml荷兰有限公司 自参考干涉仪、对准系统和光刻设备

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105445929A (zh) * 2014-08-20 2016-03-30 上海微电子装备有限公司 光程调整装置和光程调整方法
CN105445929B (zh) * 2014-08-20 2018-03-02 上海微电子装备(集团)股份有限公司 光程调整装置和光程调整方法
CN110702218A (zh) * 2019-09-29 2020-01-17 中国科学院空间应用工程与技术中心 一种激光光束指向测量装置和方法
CN110702218B (zh) * 2019-09-29 2021-07-20 中国科学院空间应用工程与技术中心 一种激光光束指向测量装置和方法
CN112747668A (zh) * 2019-10-31 2021-05-04 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种基于旋转棱镜的干涉数据采集处理系统
CN114636372A (zh) * 2022-03-14 2022-06-17 中国科学院光电技术研究所 将s变换用于宽光谱自参考干涉对准系统光谱解相位方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN104062858B (zh) 2016-09-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105612460B (zh) 独立于偏振的干涉仪
EP0634702B1 (en) Measuring method and apparatus
US6710876B1 (en) Metrology system using optical phase
KR100920864B1 (ko) 노광장치 및 디바이스 제조방법
US10585363B2 (en) Alignment system
WO2016107614A1 (zh) 用于套刻误差检测的装置和方法
CN103293884B (zh) 用于光刻设备的离轴对准系统及对准方法
CN102314091B (zh) 一种可调节对准系统照明光斑尺寸的光刻机
WO2014062972A1 (en) Symmetric target design in scatterometry overlay metrology
CN102804073A (zh) 光刻的检验
US10908514B2 (en) Metrology apparatus, lithographic system, and method of measuring a structure
CN101482702A (zh) 检测方法和设备、光刻处理单元和设备、器件制造方法
KR20090093892A (ko) 표면 형상 계측 장치, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법
CN106292203B (zh) 一种自动调焦的对准系统及对准方法
CN104062858B (zh) 零光程差自参考干涉对准系统
CN110095880A (zh) 自参考干涉仪、对准系统以及光刻设备
CN104062852B (zh) 零光程差自参考干涉对准系统
CN103309163B (zh) 外参考干涉硅片对准系统
CN105278253B (zh) 套刻误差测量装置及方法
KR102128488B1 (ko) 플렉시블 일루미네이터
CN104020642B (zh) 自参考干涉对准系统
CN103365122B (zh) 用于光刻设备的自参考干涉对准系统
CN104062859A (zh) 一种光刻设备对准系统
US20230266681A1 (en) Self-referencing integrated alignment sensor
CN103869628B (zh) 一种用于光刻设备的自参考干涉对准信号处理系统

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: 201203 Shanghai Zhangjiang High Tech Park of Pudong New Area Zhang Road No. 1525

Co-patentee after: Shanghai Micro And High Precision Mechine Engineering Co., Ltd.

Patentee after: Shanghai microelectronics equipment (Group) Limited by Share Ltd

Address before: 201203 Shanghai Zhangjiang High Tech Park of Pudong New Area Zhang Road No. 1525

Co-patentee before: Shanghai Micro And High Precision Mechine Engineering Co., Ltd.

Patentee before: Shanghai Micro Electronics Equipment Co., Ltd.

CP01 Change in the name or title of a patent holder