CN103998854A - 流动影响装置 - Google Patents

Abstract

本发明描述了在涡旋组件后方的腔室中的流体流动影响器装置。流动影响装置可以基于流体从涡旋组件流入到腔室的流动路径从第一位置移动到第二位置。流动路径可以取决于来自涡旋组件的流体的旋转量。流动影响装置在第一位置可以基本上允许流体通过腔室出口开口流动。流动影响装置在第二位置可以基本上限制流体通过腔室出口开口流动。

Description

流动影响装置

技术领域

本发明大体而言涉及用于在地层中的井眼中阻碍流体流动的装置，并且更具体而言(但并非必需排他性地)，涉及能基于进入路径内的流体流动方向阻碍在自主阀和/或涡旋组件后方的路径中的流体流动的装置。

背景技术

在穿过含烃地层的井中可以安装各种装置。某些装置控制在地层与油管(诸如生产油管或注射油管)之间的流体流率。这些装置的示例为自主阀，其可以选择流体或者以其它方式控制进入油管的各种流体的流率。

自主阀可以基于流体的相对粘度在所希望的流体与不希望的流体之间作出选择。例如，具有更高不希望的流体(例如，水和天然气)浓度的流体可以具有特定粘度，响应于这种粘度，自主阀在一定方向上导向不希望的流体以限制不希望的流体进入油管内的流率。自主阀可以包括流动比例控制组件和可用来基于粘度选择流体的涡旋组件。流动比例控制组件可以包括两个通路。每个通路可以包括缩窄管，缩窄管被配置成基于流体粘度来限制流体流动。例如，在第一通路中一个管可以比在第二通路中的第二管更窄，并且被配置成比具有不同相对粘度的流体更多地限制具有特定相对粘度的流体。第二管可以向流体提供相对恒定的阻力，无论流体的粘度如何。

可以使经由第一通路、诸如在涡旋组件切向的通路进入涡旋组件的流体在涡旋组件中旋转并且限制从涡旋组件中的出口开口出来。可以允许经由第二通路、诸如在涡旋组件径向的通路进入涡旋组件的流体通过出口开口出来，而无任何或较多限制。

尽管这种自主阀很有效地满足了井下所希望的流体选择，仍然希望能提供额外流体流动控制和/或选择的装置。

发明的公开

本发明的某些方面和实施例针对于一种可以对于流体流动方向作出响应的流动影响装置。

一方面涉及一种可以安置于井筒中的组件。该组件包括腔室和在腔室中的流动影响装置。腔室可以在涡旋组件的出口开口后方。流动影响装置可适于基于从涡旋组件进入腔室的流体旋转量在第一位置与第二位置之间移动。

另一方面涉及一种组件，该组件包括涡旋组件和流动影响装置。涡旋组件包括出口开口。流动影响装置在与出口开口流体连通的腔室中。流动影响装置可以以根据通过出口开口进入腔室的流体流动的方向的量来阻碍到腔室出口开口的流体流动。

另一方面涉及一种组件，其包括腔室和在腔室中的流动影响装置。腔室可以定位于涡旋组件的出口开口流动路径后方。腔室包括腔室出口开口。流动影响装置可以基本上允许具有从出口开口到腔室内的第一流动路径的流体通过腔室出口开口流动并且可基本上限制具有从出口开口到腔室内的第二流动路径的流体通过腔室出口开口流动。

提到这些说明性方面并不限制或限定本发明，而是提供示例以辅助理解在本申请中所公开的发明构思。在阅读了整个申请之后，本发明的其它方面、优点和特点将会变得显然。

附图说明

图1为井系统的示意图，其具有根据本发明的一实施例在自主阀后方具有流动影响装置的腔室。

图2为根据本发明的一实施例在自主阀的流动路径后方的腔室和流动影响装置的截面侧视图。

图3为根据本发明的一实施例的流动影响装置的截面侧视图，流动影响装置为在腔室中的挡板并且处于打开位置。

图4示出了根据本发明的一实施例处于闭合位置的图3的流动影响装置。

图5为根据本发明的一实施例的腔室的截面侧视图，腔室包括在打开位置的两个流动影响装置，这两个流动影响装置为挡板。

图6示出了根据本发明的一实施例处于闭合位置的图5的流动影响装置。

图7为根据本发明的一实施例的腔室的截面侧视图，腔室包括在打开位置的两个流动影响装置，这两个流动影响装置为圆盘。

图8示出了根据本发明的一实施例处于闭合位置的图7的流动影响装置。

图9为根据本发明的一实施为圆盘的流动影响装置的顶视图。

图10为根据本发明的一实施例的腔室的截面侧视图，该腔室包括在闭合位置的流动影响装置，流动影响装置为垫圈。

图11示出了根据本发明的一实施例处于打开位置的图10的流动影响装置。

图12为根据本发明的一实施为垫圈的流动影响装置的透视图。

图13为根据本发明的一实施例的腔室的截面侧视图，腔室包括偏流器和在闭合位置的流动影响装置，流动影响装置为球状体。

图14示出了根据本发明的一实施例处于打开位置的图13的流动影响装置。

图15为根据本发明的一实施例的腔室的截面侧视图，腔室具有流动影响装置，流动影响装置为由柔性构件联接的球状体。

图16为根据本发明的一实施例的腔室的截面侧视图，该腔室包括流动影响装置，流动影响装置为由柔性构件联接的球状体。

具体实施方式

某些方面和实施例涉及一种在腔室中的流动影响装置，腔室在自主阀的出口开口(诸如在自主阀中的涡旋组件的出口开口)后方。流动影响装置可以基于从涡旋组件到腔室的流体的流动路径从第一位置移动到第二位置。流动路径可以取决于从涡旋组件的流体的旋转量。流动影响装置在第一位置可以基本上允许流体通过腔室出口开口流动。流动影响装置在第二位置可以基本上限制流体通过腔室出口开口流动。

在某些实施例中，基本上允许流体通过腔室出口开口流动可以包括允许大部分流体通过腔室出口开口流动。基本上限制流体通过腔室出口开口流动可以包括至少防止大部分流体通过腔室出口开口流动至少持续特定时段。

例如，涡旋组件可以使得具有特定性质的流体在涡旋组件中旋转，并且流体在其在涡旋组件中离开进入包括流动影响装置的腔室中时继续旋转。流动影响装置可以被配置成通过处于特定位置而对旋转流体作出响应。取决于流动影响装置相对于腔室中的出口开口的配置，在特定位置的流动影响装置可以基本上限制流体通过腔室中的出口开口离开或者可以基本上允许流体通过腔室中的出口开口离开。涡旋组件可以使具有特定其它性质的流体无流体旋转地或无太多流体旋转地离开到包括流动影响装置的腔室。流动影响装置可以被配置成通过处于特定其它位置对于流体无旋转或无太多流体旋转地流入到腔室内作出响应，在此特定其它位置，取决于流动影响装置相对于腔室中的出口开口的配置，流动影响装置可以基本上允许流体或基本上限制流体通过腔室中的出口开口流动。

在某些实施例中，流体旋转被配置成促动流动影响装置以例如与自主阀结合，减小不希望的流体生产。

给出这些说明性示例以向读者介绍本文所讨论的一般主题而非旨在限制所公开的构思的范围。以下部分参考附图描述了各种额外实施例和示例，在附图中，相似的附图标记表示相似元件，并且方向描述用来描述说明性实施例，但是类似于说明性实施例，不应用来限制本发明。

图1描绘了井系统100，井系统100具有在自主阀后方，带有根据本发明的特定实施例的流动影响装置的腔室。井系统100包括井眼，井眼为穿过各个地球岩层延伸的井筒102。井筒102具有基本上竖直部段104和基本上水平部段106。基本上竖直部段104和基本上水平部段106可以包括套管柱108，套管柱108在基本上竖直部段104的上部被固井。基本上水平部段106延伸穿过含烃的地层110。

油管柱112从地面延伸到井筒102内。油管柱112可以提供用于地层流体从基本上水平部段106行进到地面的管道。在各个生产层段邻近地层110的流动控制装置114和生产油管部段116定位于油管柱112中。流动控制装置114中每一个可以包括自主阀，自主阀能够选择性地造成具有特定性质的流体旋转并且可以包括具有流动影响装置的腔室。

在每个生产油管部段116的每一侧上设有封隔器118，封隔器118可以在油管柱112与井筒102壁之间提供流体密封。每对相邻的封隔器118可以限定生产层段。

生产油管部段116中的每一个可以提供防砂能力。与生产油管部段116相关联的防砂筛元件或过滤介质可以允许流体通过这些元件或者流动介质流动，但防止足够大小的微粒物质通过这些元件或过滤介质流动。在某些实施例中，可以提供防砂筛，其包括未穿孔的基管，未穿孔的基管具有围绕肋状物缠绕的丝，肋状物绕基管在周向定位。包括穿孔的保护性外护罩可以定位于过滤介质的外部周围。

流动控制装置114可以允许对所生产的流体的体积和组成进行控制。例如，流动控制装置114可以自主限制或抵抗地层流体从生产层段的生产，在生产层段，对于油生产操作，不希望的流体诸如水或天然气进入。“天然气”在这里表示在室温和压力以气相存在但在井下环境中以液相和/或气相存在的烃类(和不同量的非烃类)的混合物。

流入到生产油管部段116内的地层流体可以包括多于一种类型的流体，诸如天然气、油、水、水蒸汽和二氧化碳。水蒸汽和二氧化碳可以用作注入流体以造成烃流体朝向生产油管部段116流动。天然气、油和水可以存在于地层110中。流入到生产油管部段116的这些类型的流体的比例可能随着时间变化并且至少部分地基于在地层和井筒102内的条件。根据某些实施例的流动控制装置114可以减小或者限制从具有更高比例的不希望流体的流体的层段的生产。

当生产层段生产更大比例的不希望的流体时，在该层段中的流动控制装置114可以限制或抵抗自该层段的生产。生产更大比例的所希望的流体的其它生产层段可能对于进入油管柱112的生产流作出更多贡献。例如，流动控制装置114可以包括流动影响装置，流动影响装置可以基于进入腔室的流体旋转来控制流体流率。

尽管图1描绘了流动控制装置114定位于基本上水平部段106，根据本发明的各个实施例的流动控制装置114(和生产油管部段116)可以额外地或替代地位于基本上竖直部段104。而且，任何数量的流动控制装置114，包括一个，可以用于总体上井部段110中或每个生产层段中。在某些实施例中，流动控制装置114可以安置于更简单的井筒中，诸如具有仅一基本上竖直部段的井筒中。流动控制装置已可以安置于裸眼井环境中(诸如在图1中所描绘)或者套管井中。

图2描绘了包括流动控制装置114和筛组件202的生产油管部段116的截面图。生产油管限定了内部通路204，内部通路204可以是环形空间。地层流体可以从地层通过筛组件202进入内部通路204，筛组件202可以过滤流体。地层流体可以从内部通路通过到涡旋组件210的流动路径208的入口206进入流动控制装置114。在涡旋组件210的出口开口212后方是包括流动影响装置215的腔室214。除了涡旋组件210之外，流动影响装置215可以限制或者允许流体通过腔室出口开口217流动。

根据本发明的各种实施例的腔室可以是任何配置，并且包括一个、两个、或多于两个出口开口。根据本发明的各种实施例的流动影响装置可以包括任何配置，并且可以联接到腔室，另一部件或自由浮动。流动影响装置的示例包括但不限于挡板、垫圈、圆盘和球状体。图3至图16描绘了根据本发明的某些实施例的腔室和流动影响装置。

图3至图4描绘了在涡旋组件306的出口开口304后方的流动路径中的腔室302。腔室302包括腔室出口开口308和为挡板310的流动影响装置。挡板310可以联接到腔室302，诸如经由枢轴312，并且可以被配置成响应于通过出口开口304进入到腔室302内的流体流动方向来移动位置。在其它实施例中，挡板310经由弹簧联接到腔室302。

腔室302包括靠近腔室出口开口308的突起314位置。突起314可以防止处于闭合位置的挡板310完全密封腔室出口开口308使得挡板310可以返回到打开位置。在其它实施例中，突起314联接到挡板310而不是腔室。在另外的实施例中，不存在突起314。

挡板310可以由任何合适材料制成。在某些实施例中，挡板310由耐腐蚀材料制成。合适材料的示例包括陶瓷、金属、塑料和复合物。在某些实施例中，挡板310为联接到腔室302的柔性构件。

图3描绘了处于打开位置的挡板310，在不存在流体流动的情况下，打开位置可以是挡板310的初始位置。挡板310可以响应于不旋转或者以相对较小的量旋转(如由图3中的箭头所描绘)的流体处于打开位置，从出口开口304进入腔室302。在打开位置的挡板310可以基本上允许流体从出口开口304进入腔室302以流到腔室出口开口308并且离开腔室302。例如，挡板310可以限制某些流体流动，但允许大部分流体流到腔室出口开口308。在其它实施例中，挡板310并不限制任何流体流动。

图4描绘了处于闭合位置的挡板310。挡板310可以被配置成响应于从出口开口304流入到腔室302流体以高于特定阈值的量旋转而移动到闭合位置，如在图4中由箭头所示。例如，旋转流体可以造成挡板310朝向腔室出口开口308流动以基本上限制流体流到腔室出口开口308，至少持续特定时间量。基本上限制流体可以包括允许某些流体流到腔室出口开口308但限制大部分流体。在其它实施例中，当挡板310处于闭合位置时，挡板310限制全部流体流到腔室出口开口308。

在图3至图4中的腔室302包括约束壁316，约束壁316可以引导从出口开口304朝向挡板310和腔室出口开口308的流体流动(无论是否旋转)。

根据其它实施例的腔室包括多于一个腔室出口开口。图5至图6描绘了在涡旋组件406的出口开口404后方的流动路径中的腔室402。腔室402包括两个腔室出口开口408、410并且包括各为挡板的流动影响装置412、414。流动影响装置412、414中的每一个联接到腔室402，诸如经由枢轴416、418或其它机构。

流动影响装置412、414中的每一个可以响应于流体通过出口开口404到腔室402内的流动方向来移动位置。流动影响装置412、414响应于流体不旋转或者不以高于特定阈值量旋转(如经由箭头所示)地流入到腔室402中而处于图5中的打开位置。流动影响装置412、414在打开位置可能并不限制或者可能基本上不限制流入到腔室402中的流体通过腔室出口开口408、410出来。流动影响装置412、414响应于流体以高于特定量旋转(如箭头所示)地流入到腔室402中而处于图6中的闭合位置。流动影响装置412、414在闭合位置可基本上限制流入到腔室402中的流体通过腔室出口开口408、410出来。用于打开位置和闭合位置的旋转量的阈值可以为相同或不同阈值。

突起420、422可以包括于腔室402中以防止流体影响装置412、414当处于闭合位置时完全限制流体通过腔室出口开口408、410流动。突起420联接到流动影响装置412。突起422联接到腔室402内壁，靠近腔室出口开口410，以防止流动影响装置414完全限制腔室出口开口410。在其它实施例中，腔室402并不包括突起420、422。

在其它实施例中，流动影响装置为圆盘。图7至图8为在涡旋组件506的出口开口504后方的流动路径中的腔室502。腔室502包括两个腔室出口开口508、510并且包括各为圆盘或环的流动影响装置512、514。流动影响装置512、514中每一个可以在腔室506中的流体中浮动，并且被配置成响应于流体通过出口开口504进入腔室502的流动方向来移动位置。

流动影响装置512、514响应于流体不旋转或者不以高于特定阈值量旋转(如经由箭头所示)地流入到腔室502中而处于图7中的打开位置。流动影响装置512、514在打开位置可能并不限制或者可能基本上不限制流入到腔室502中的流体通过腔室出口开口508、510出来。流动影响装置512、514响应于流体以高于特定量旋转(如箭头所示)地流入到腔室502中而处于图8中的闭合位置。例如，如图8所示，进入腔室502的旋转流体可能造成流动影响装置512、514朝向腔室出口开口508、510移动并且限制流体流动到腔室出口开口508、510。流动影响装置512、514在闭合位置可基本上限制流入到腔室502中的流体通过腔室出口开口508、510出来。流动影响装置512、514的大小可以基于预期流率和预期的流动性质来设定。例如，流动影响装置512、514可以具有更大厚度以增加使流动影响装置512、514移动到闭合位置的流体旋转阈值。

根据某些实施例的流动影响装置512、514可以各包括内部开口，当流体影响装置512、514处于闭合位置时，内部开口可以防止流动影响装置512、514完全限制到腔室出口开口508、510的流动。

在其它实施例中，突起(未图示)可以包括于腔室502中并且联接到流动影响装置512、514或腔室502的内壁。突起可以防止流动影响装置512、514完全限制流体流动到腔室出口开口508、510。在其它实施例中，腔室502在流动影响装置512、514中并不包括突起或开口。

尽管图7至图8描绘了两个流动影响装置512、514和两个腔室出口开口508、510，可以使用一个流动影响装置和/或一个腔室出口开口。此外，可以使用每种部件中的多于两个。

图9描绘了流动影响装置600的截面图，流动影响装置600为圆盘或环，并且其可以适合用于图7至图8的实施例中。流动影响装置600包括外边缘602和内边缘604，外边缘602可以是唇缘，内边缘604限定内部开口606。外边缘602的大小可以取决于响应于流体旋转量所希望的限制性能。当流动影响装置600处于闭合位置时，内部开口606可防止流体影响装置600完全限制流体流到腔室出口开口。

在某些实施例中，流动影响装置为垫圈。图10至图11描绘了在涡旋组件(未图示)的出口开口704后方的流动路径中的腔室702。腔室702包括两个腔室出口开口706、708并且包括为垫圈的流动影响装置710。图12描绘了垫圈的示例的透视图。流动影响装置710可以在腔室702中的流体中浮动或者可以联接到腔室702。流动影响装置710可以响应于流体通过出口开口704进入腔室702的流动方向移动位置。

图10至图11描绘了位于腔室702侧部上的腔室出口开口706、708。在其它实施例中，腔室出口开口706、708可以相对于出口开口704位于腔室702的底部。而且，上文所描述的其它实施例可以被配置成在腔室的一个或多个侧部上具有腔室出口开口。

流动影响装置710响应于例如流体以高于特定阈值量旋转(如由图10中的箭头所示)流入到腔室702内而处于图10中的闭合位置。闭合位置可以是流动影响装置710的初始位置。流动影响装置710在闭合位置可以基本上限制流体流到腔室出口开口706、708。在某些实施例中，流动影响装置710包括一个或多个突起(未图示)，当流动影响装置710处于闭合位置时，突起防止流动影响装置710完全限制到腔室出口开口706、708的流体流动。

流动影响装置710响应于流体例如对于以无旋转或者不以高于特定阈值量旋转地(如由图11中的箭头所示)流入到腔室702内而处于图11中的打开位置。例如，流体可以流入到腔室702内，由腔室702的底壁引导以朝向流动影响装置710流动并且在流动影响装置710上施加力来造成流动影响装置710移动到打开位置。

尽管图10至图11描绘了两个腔室出口开口706、708，可以使用一个腔室出口开口。此外，可以使用多于两个腔室出口开口。

根据某些实施例的流动影响装置可以是离散部件而不是一个垫圈部件。图13至图14描绘了在涡旋组件(未图示)的出口开口904后方的流动路径中的腔室902。腔室902包括在腔室902侧部上的两个腔室出口开口906、908，为球状体的流动影响装置910、912和偏流器914、916。尽管示出了球状体，流动影响装置910、912可以是任何合适形状的部件。

偏流器914、916可以在固定位置联接到腔室902并且被配置成区分在流动路径(例如，基本上旋转流动路径与基本上不旋转的流动路径)之间的流动。

流动影响装置910、912可以在腔室902中的流体中浮动。流动影响装置910，912可以响应于流体通过出口开口904进入腔室902的流动方向移动位置。

流动影响装置910、912响应于例如流体以高于特定阈值量旋转(如由图13中的箭头所示)流入到腔室902内而处于图13中的闭合位置。例如，偏流器914、916可以使旋转流体偏流到流动影响装置910、912的上部使得流动影响装置910、912保留在闭合位置或移动到闭合位置。在某些实施例中，闭合位置可以是流动影响装置910、912的初始位置。流动影响装置910，912在闭合位置可以基本上限制流体流到腔室出口开口906、908。

流动影响装置910、912响应于例如流体以不旋转或者不以高于特定阈值量旋转地(如由图14中的箭头所示)流入到腔室902内而处于图14中的打开位置。例如，流体可以流入到腔室902内，由腔室902的底壁引导以朝向流动影响装置910、912的底部流动并且在流动影响装置910、912上施加力来造成流动影响装置910、912移动到打开位置。

在某些实施例中，为球状体或其它合适形状部件的流动影响装置可以联接到柔性构件以防止流动影响装置完全防止流体流到腔室出口开口。图15描绘了腔室1002的一实施例，腔室1002包括偏流器1004、1006和流动影响装置1008、1010。流动影响装置1008、1010由柔性构件1016、1018联接到腔室出口开口1012、1014的壁。柔性构件1016、1018可以防止流动影响装置1008、1010完全防止流体流到腔室出口开口1012、1014使得吸力或其它力可能去掉，允许流动影响装置1008、1010返回到打开位置。

在某些实施例中，流动影响装置1008可以被配置成响应于相同流动处于相反位置(例如打开位置和闭合位置)以允许基于流动来选择腔室出口开口。例如，流动影响装置1008可以被配置成响应于流体不以高于特定阈值旋转地流入到腔室1002内而处于打开位置，并且流动影响装置1010被配置成响应于流体不以高于阈值旋转地流入到腔室1002内而处于闭合位置。流动影响装置1008可以响应于流体以高于特定阈值旋转地流入腔室802内而处于闭合位置，并且流动影响装置1010可以响应于流体以高于特定阈值旋转地流入腔室内而处于打开位置。柔性构件10616、1018可以便于基于相同的流体旋转量而允许流动影响装置1008、1010处于相反位置。

为球状体或其它合适形状的部件的流动影响装置可以与带一个开口的腔室一起实施。图16描绘了腔室1102的一实施例，腔室1102包括偏流器1104和流动影响装置1106，流动影响装置1106为经由柔性构件1110联接到腔室出口开口1108壁的球状体。与腔室出口开口1108相对的腔室1102壁可以约束为朝向腔室出口开口1108、偏流器1104和/或流动影响装置1106引导流体流动。

本发明的实施例(包括图示实施例)的前文描述只是出于说明和描述目的并且并非旨在为详尽的或者限制本发明为所公开的精确形式。本发明的许多修改、调适和用途对于本领域技术人员显然，而不偏离本发明的范围。

Claims (20)

1.一种能够安置于井筒中的组件，所述组件包括：

腔室，所述腔室适于定位于涡旋组件的出口开口后方；以及

在所述腔室中的流动影响装置，所述流动影响装置适于基于从所述涡旋组件进入所述腔室的流体旋转量来在第一位置与第二位置之间移动。

2.根据权利要求1所述的组件，其特征在于，所述腔室包括腔室出口开口，

其中所述流动影响装置在所述第一位置适于基本上允许流体通过所述腔室出口开口出来，

其中所述流动影响装置在所述第二位置适于基本上限制流体通过所述腔室出口开口出来。

3.根据权利要求2所述的组件，其特征在于，所述流动影响装置适于响应于进入所述腔室的流体旋转量超过第一阈值旋转量而处于所述第二位置，

其中所述流动影响装置适于响应于进入所述腔室的流体旋转量低于第二阈值旋转量而处于所述第一位置。

4.根据权利要求2所述的组件，其特征在于，所述腔室包括第二腔室开口，其中所述流动影响装置在所述第一位置适于基本上限制流体通过所述第二腔室出口开口出来，

其中所述流动影响装置在所述第二位置适于基本上允许流体通过所述腔室出口开口出来。

5.根据权利要求1所述的组件，其特征在于，所述流体的旋转量是基于流体从所述涡旋组件进入所述腔室的流动方向的。

6.根据权利要求5所述的组件，其特征在于，还包括涡旋组件。

7.根据权利要求1所述的组件，其特征在于，所述流动影响装置适于(i)基本上允许具有从所述出口开口到所述腔室内的第一流动路径的流体通过腔室出口开口流动；以及(ii)基本上限制具有从所述出口开口到所述腔室内的第二流动路径的流体通过所述腔室出口开口流动。

8.根据权利要求1所述的组件，其特征在于，所述流动影响装置为下列之一：

挡板；

圆盘；

球状体；或者

垫圈。

9.根据权利要求8所述的组件，其特征在于，所述流动影响装置为所述球状体，所述组件还包括：

在所述腔室中的偏流器；以及

柔性构件，所述柔性构件将所述球状体联接到所述腔室的部分。

10.根据权利要求1所述的组件，其特征在于，还包括：

突起，所述突起联接到所述流动影响装置或所述腔室壁之一。

11.一种能够安置于井筒中的组件，所述组件包括：

涡旋组件，所述涡旋组件包括出口开口；以及

在与所述出口开口流体连通的腔室中的流动影响装置，所述流动影响装置适于以根据通过所述出口开口进入所述腔室的流体流动的方向的量来阻碍到腔室出口开口的流体流动。

12.根据权利要求11所述的组件，其特征在于，所述流体的流动方向包括所述流体的旋转量，

其中所述流动影响装置适于基于所述流体的旋转量在第一位置与第二位置之间移动，

其中所述流动影响装置在所述第一位置适于基本上允许流体通过所述腔室出口开口出来，

其中所述流动影响装置在所述第二位置适于基本上限制流体通过所述腔室出口开口出来。

13.根据权利要求11所述的组件，其特征在于，所述流动影响装置适于(i)基本上允许具有从所述出口开口到所述腔室内的第一流动路径的流体通过腔室出口开口流动；以及(ii)基本上限制具有从所述出口开口到所述腔室内的第二流动路径的流体通过所述腔室出口开口流动。

14.根据权利要求11所述的组件，其特征在于，所述流动影响装置为下列之一：

挡板；

圆盘；

球状体；或者

垫圈。

15.根据权利要求14所述的组件，其特征在于，所述流动影响装置为所述球状体，所述组件还包括：

在所述腔室中的偏流器；以及

柔性构件，所述柔性构件将所述球状体联接到所述腔室的部分。

16.一种能够安置于井筒中的组件，所述组件包括：

腔室，所述腔室适于定位于涡旋组件的出口开口流动路径后方，所述腔室包括腔室出口开口；以及

在所述腔室中的流动影响装置，所述流动影响装置适于(i)基本上允许具有从所述出口开口到所述腔室内的第一流动路径的流体通过腔室出口开口流动；以及(ii)基本上限制具有从所述出口开口到所述腔室内的第二流动路径的流体通过所述腔室出口开口流动。

17.根据权利要求16所述的组件，其特征在于，在所述第一流动路径或第二流动路径中流动的流体是基于所述流体的旋转量的，

其中所述流动影响装置适于基于所述流体的旋转量在第一位置与第二位置之间移动，

其中所述流动影响装置在所述第一位置适于基本上允许流体通过所述腔室出口开口出来，

其中所述流动影响装置在所述第二位置适于基本上限制流体通过所述腔室出口开口出来。

18.根据权利要求16所述的组件，其特征在于，还包括涡旋组件，

其中基于从所述涡旋组件进入所述腔室的流体流动方向，所述流体流入到所述第一流动路径或所述第二流动路径内。

19.根据权利要求18所述的组件，其特征在于，所述流动影响装置为下列之一：

挡板；

圆盘；

球状体；或者

垫圈。

20.根据权利要求19所述的组件，其特征在于，所述流动影响装置为所述球状体，所述组件还包括：

在所述腔室中的偏流器；以及

柔性构件，所述柔性构件将所述球状体联接到所述腔室的部分。