CN103900445A - 一种缸体深度检具 - Google Patents

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Inventor
姚洪良
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Wuxi Hongcheng Paper Machinery Co Ltd
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Wuxi Hongcheng Paper Machinery Co Ltd
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Abstract

本发明涉及产品检测领域,具体为一种缸体深度检具,其能够快速准确地检测出缸体的深度是否符合规格,其包括基准座,基准座下端设置有与所检工件的基准面配合的定位块,基准座上端连接壳体,壳体与基准座连成的整体的内部开有通槽,通槽内设置有可移动的测量杆,测量杆下端安装有与所检工件的孔配合的测量块,测量杆上端连接机械表的测量头。

Description

一种缸体深度检具
技术领域
本发明涉及产品检测领域,具体为一种缸体深度检具。
背景技术
缸体上都会开有安装孔,其孔深度需要满足一定的规格要求,而一般缸体安装孔外沿不规则以致缺少可以定位的基准面,而距离安装孔较远处有可以用以定位的基准面,采用现有的量具无法对孔的深度直接进行检测。 
发明内容
为了解决上述问题,本发明提供了一种缸体深度检具,其能够快速准确地检测出缸体的深度是否符合规格。
其技术方案是这样的:其特征在于,其包括基准座,所述基准座下端设置有与所检工件的基准面配合的定位块,所述基准座上端连接壳体,所述壳体与所述基准座连成的整体的内部开有通槽,所述通槽内设置有可移动的测量杆,所述测量杆下端安装有与所检工件的孔配合的测量块,所述测量杆上端连接机械表的测量头。
其进一步特征在于,所述机械表通过夹持块和夹紧圈安装于所述壳体上端;所述壳体侧面开有通孔,所述通孔内设置有限位销,所述测量杆上开有与所述限位销配合的凹槽;所述壳体与所述基准座通过螺钉固定连接。
采用本发明的结构后,基准座下端设置有与所检工件的基准面配合的定位块,基准座上端连接壳体,壳体与基准座连成的整体的内部开有通槽,通槽内设置有可移动的测量杆,测量杆下端安装有与所检工件的孔配合的测量块,测量杆上端连接机械表的测量头,基准座上的定位块可以将基准面延伸至缸体外表面较远处进行定位基准,然后利用测量块即可快速准确地检测出缸体的深度是否符合规格。
附图说明
图1为本发明结构主视图。
具体实施方式
见图1所示,一种缸体深度检具,其包括基准座1,基准座1下端设置有与所检工件14的基准面配合的定位块2,基准座1上端连接壳体3,壳体3与基准座1连成的整体的内部开有通槽,通槽内设置有可移动的测量杆4,测量杆4下端安装有与所检工件14的孔配合的测量块5,测量杆4上端连接机械表6的测量头7,机械表6通过夹持块8和夹紧圈9安装于壳体3上端;壳体3侧面开有通孔,通孔内设置有限位销10,测量杆4上开有与限位销10配合的凹槽11;壳体3与基准座1通过螺钉12固定连接。
其检测过程如下所述:将基准座1放置于工件14上,测量块5伸入工件14的孔内,由基准座1下端的定位块2与工件14的基准面定位基准,测量块5在孔内位置的变化使测量杆4在通槽内移动,测量杆4的移动通过测量头7传递给机械表6,使机械表6的读数发生变化,通过机械表6读数即可快速准确地得出孔的深度;壳体3侧面开有通孔,通孔内设置有限位销10,测量杆4上开有与限位销10配合的凹槽11,通过限位销10和凹槽11,可以限定测量杆4的移动位置,起到限位作用;一般工件14外表面可能有突起物,为了避免影响基准座1的定位基准,在基准座1上开有多个与突起物配合的通孔13。

Claims (4)

1.一种缸体深度检具,其特征在于,其包括基准座,所述基准座下端设置有与所检工件的基准面配合的定位块,所述基准座上端连接壳体,所述壳体与所述基准座连成的整体的内部开有通槽,所述通槽内设置有可移动的测量杆,所述测量杆下端安装有与所检工件的孔配合的测量块,所述测量杆上端连接机械表的测量头。
2.根据权利要求1所述的一种缸体深度检具,其特征在于,所述机械表通过夹持块和夹紧圈安装于所述壳体上端。
3. 根据权利要求2所述的一种缸体深度检具,其特征在于,所述壳体侧面开有通孔,所述通孔内设置有限位销,所述测量杆上开有与所述限位销配合的凹槽。
4. 根据权利要求3所述的一种缸体深度检具,其特征在于,所述壳体与所述基准座通过螺钉固定连接。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104374285A (zh) * 2014-08-01 2015-02-25 安徽天利动力股份有限公司 一种主轴盖止口深度专用检测装置
CN105486200A (zh) * 2015-11-24 2016-04-13 重庆渝记涵诚机械制造有限公司 汽缸盖斜面、斜孔综合检具

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PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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