CN103898546A - 一种金属清洗液 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种清洗液，具体地说是一种金属清洗液。该金属清洗液所述原料按以下重量百分比组分：硅酸钠9-12%，乙醇胺5-15%，钼酸钠8-12%，表面活性剂20-40%，其余为去离子水。本发明的目的是提供一种成本低廉、清洗效果好，危害性低的金属清洗液。
Description
技术领域
本发明涉及一种清洗液，具体地说是一种金属清洗液。
背景技术
近年来，专用于清洗金属的清洗液逐渐得到了广泛的应用，它能够很好地替代柴油、煤油和汽油来清洗零件，而且价格便宜，使用安全，很适合于机械化清洗作业。它可以为金属洗涤，而不会有锈斑。但现时的清洗剂大多数含有强酸、强碱、亚硝酸盐类等有害化学成分，这些化学成分危害环境和人们健康。因此，如能开发一种成本低廉，清洗效果好，对环境和人们健康危害低的金属清洗液是有必要的。
发明内容
本发明的目的是提供一种成本低廉、清洗效果好，危害性低的金属清洗液。
本发明采用的技术方案是，一种金属清洗液，所述原料按以下重量百分比组分：硅酸钠9-12%，乙醇胺5-15%，钼酸钠8-12%，表面活性剂20-40%，其余为去离子水。
进一步地说，所述表面活性剂为两性离子表面活性剂。
本发明的优点是成本低廉、清洗效果好，对环境和人体危害低。
具体实施方式
本发明结合以下实施例作进一步描述，
实施例1，一种金属清洗液，所述原料按以下重量百分比组分：硅酸钠9%，乙醇胺5%，钼酸钠8%，表面活性剂20%，其余为去离子水。所述表面活性剂为两性离子表面活性剂。
实施例2，一种金属清洗液，所述原料按以下重量百分比组分：硅酸钠10.5%，乙醇胺10%，钼酸钠10%，表面活性剂30%，其余为去离子水。所述表面活性剂为两性离子表面活性剂。
实施例3，一种金属清洗液，所述原料按以下重量百分比组分：硅酸钠12%，乙醇胺15%，钼酸钠12%，表面活性剂40%，其余为去离子水。所述表面活性剂为两性离子表面活性剂。
Claims (2)
1.一种金属清洗液，其特征在于，所述原料按以下重量百分比组分：硅酸钠9-12%，乙醇胺5-15%，钼酸钠8-12%，表面活性剂20-40%，其余为去离子水。
2.根据权利要求1所述的一种金属清洗液，其特征在于，所述表面活性剂为两性离子表面活性剂。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201210575558.3A CN103898546A (zh) | 2012-12-26 | 2012-12-26 | 一种金属清洗液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201210575558.3A CN103898546A (zh) | 2012-12-26 | 2012-12-26 | 一种金属清洗液 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN103898546A true CN103898546A (zh) | 2014-07-02 |
Family
ID=50990110
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| CN201210575558.3A Pending CN103898546A (zh) | 2012-12-26 | 2012-12-26 | 一种金属清洗液 |
Country Status (1)
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| CN (1) | CN103898546A (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107557804A (zh) * | 2017-08-24 | 2018-01-09 | 南通市烨达汽车零部件有限公司 | 一种汽车冲压板件专用清理剂 |
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2012
- 2012-12-26 CN CN201210575558.3A patent/CN103898546A/zh active Pending
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20140702 |