CN103862331A - 磨刀器 - Google Patents

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CN103862331A
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任玉言
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B3/00Sharpening cutting edges, e.g. of tools; Accessories therefor, e.g. for holding the tools

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

本发明公开了一种磨刀器,包括支架,其特征在于:所述支架上设有花键轴,花键轴上设有两块梯形圆柱体砂轮,花键轴一端设有摇臂,所述两砂轮之间构成V型口,在两砂轮两侧的花键轴上设有弹簧。本发明具有安全高效、可使刀刃两侧同时研磨等优点,采用底部具有自吸附功能的带吸盘的支架,保证使用时人手完全脱离刀刃工作区域,采用两块梯形圆柱体砂轮组成具有V型口的研磨工作面,使刀刃两侧同时得到研磨,砂轮两侧设有弹簧,实现砂轮间距的自动调整;本发明能够同时研磨刀刃的两侧,可适应不同刀具的使用,同时工作区域完全不需要人手操作,使用安全。

Description

磨刀器
(一)技术领域
本发明涉及一种研磨道具的装置,尤其是一种磨刀器。
(二)背景技术
目前使用的家用磨刀工具有砂轮、油石等,一般是用手握砂轮或油石块,在刀刃处反复研磨。这样既费力又不安全。
(三)发明内容
为了弥补现有技术的不足,提供了一种安全高效、可使刀刃两侧同时研磨的磨刀器。
本发明是通过如下技术方案实现的:
一种磨刀器,包括支架,其特征在于:所述支架上设有花键轴,花键轴上设有两块梯形圆柱体砂轮,花键轴一端设有摇臂,所述两砂轮之间构成V型口,在两砂轮两侧的花键轴上设有弹簧。
所述支架底部设有吸盘。
本发明的有益效果是:本发明具有安全高效、可使刀刃两侧同时研磨等优点,采用底部具有自吸附功能的带吸盘的支架,保证使用时人手完全脱离刀刃工作区域,采用两块梯形圆柱体砂轮组成具有V型口的研磨工作面,使刀刃两侧同时得到研磨,砂轮两侧设有弹簧,实现砂轮间距的自动调整;本发明能够同时研磨刀刃的两侧,可适应不同刀具的使用,同时工作区域完全不需要人手操作,使用安全。
(四)附图说明
下面结合附图对本发明作进一步的说明。
附图1为本发明的结构示意图;
图中,1-支架,2-花键轴,3-砂轮,4-摇臂,5-V型口,6-弹簧,7-吸盘。
(五)具体实施方式
附图为本发明的一种具体实施例。该实施例为一种磨刀器,包括支架1,其特征在于:所述支架1上设有花键轴2,花键轴2上设有两块梯形圆柱体砂轮3,花键轴2一端设有摇臂4,所述两砂轮3之间构成V型口5,在两砂轮3两侧的花键轴2上设有弹簧6。所述支架1底部设有吸盘7。本发明具有安全高效、可使刀刃两侧同时研磨等优点,采用底部具有自吸附功能的带吸盘7的支架1,保证使用时人手完全脱离刀刃工作区域,采用两块梯形圆柱体砂轮3组成具有V型口5的研磨工作面,使刀刃两侧同时得到研磨,砂轮3两侧设有弹簧6,实现砂轮3间距的自动调整;本发明能够同时研磨刀刃的两侧,可适应不同刀具的使用,同时工作区域完全不需要人手操作,使用安全。

Claims (2)

1.一种磨刀器,包括支架(1),其特征在于:所述支架(1)上设有花键轴(2),花键轴(2)上设有两块梯形圆柱体砂轮(3),花键轴(2)一端设有摇臂(4),所述两砂轮(3)之间构成V型口(5),在两砂轮(3)两侧的花键轴(2)上设有弹簧(6)。
2.根据权利要求1所述的磨刀器,其特征在于:所述支架(1)底部设有吸盘(7)。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105643384A (zh) * 2016-04-05 2016-06-08 张必葵 一种矩形体物件的棱边研磨设备
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Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20140618