CN103818143A - 一种双面刺绣贺卡 - Google Patents

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郑叶青
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Suzhou Yexiu Arts & Crafts Factory
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Abstract

本发明公开了一种双面刺绣贺卡,包含有:第一贺卡部位、第二贺卡部位和位于第一贺卡部位与第二贺卡部位之间的印花层,所述第一贺卡部位与第二贺卡部位均为透明,印花层为印有图案的纸张,所述第一贺卡部位与第二贺卡部位上有允许绣针通过的圆形空隙。通过上述方式,本发明能够提供一种进行双面绣的贺卡,在贺卡绣制完成之后可以去除中间的印花层,制作成为一种精美的贺卡,令贺卡更具收藏价值。

Description

一种双面刺绣贺卡
技术领域
本发明涉及一种刺绣物品,特别是涉及一种双面刺绣贺卡。
背景技术
刺绣是中国民间传统手工艺之一,在中国至少有二三千年历史。刺绣的用途主要包括生活和艺术装饰,如服装、床上用品、台布、舞台、艺术品装饰。但是至今还没有一款刺绣为主制作成为的一种贺卡。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是能够提供一种进行双面绣的贺卡,在贺卡绣制完成之后可以去除中间的印花层,制作成为一种精美的贺卡,令贺卡更具收藏价值。
为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:包含有:第一贺卡部位、第二贺卡部位和位于第一贺卡部位与第二贺卡部位之间的印花层,所述第一贺卡部位与第二贺卡部位均为透明,印花层为印有图案的纸张,所述第一贺卡部位与第二贺卡部位上有允许绣针通过的圆形空隙。
在本发明一个较佳实施例中,所述第一贺卡部位与第二贺卡部位以塑料为材料。
在本发明一个较佳实施例中,所述第一贺卡部位与第二贺卡部位为多边形。
在本发明一个较佳实施例中,所述第一贺卡部位与第二贺卡部位为圆形。
在本发明一个较佳实施例中,所述第一贺卡部位与第二贺卡部位的面积大于所述印花层的面积。
本发明的有益效果是:本发明能够提供一种进行双面绣的贺卡,在贺卡绣制完成之后可以去除中间的印花层,制作成为一种精美的贺卡,令贺卡更具收藏价值。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图,其中:
图1是本发明一种双面刺绣贺卡一较佳实施例的结构示意图。
附图中各部件的标记如下:1、第一贺卡部位;2、印花层;3、第二贺卡部位。
具体实施方式
下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
请参阅图1,本发明实施例提供如下技术方案。
在一个实施例中,一种双面刺绣贺卡,包含有:第一贺卡部位1、第二贺卡部位3和位于第一贺卡部位1与第二贺卡部位3之间的印花层2,所述第一贺卡部位1与第二贺卡部位3均为透明,印花层2为印有图案的纸张,所述第一贺卡部位1与第二贺卡部位3上有允许绣针通过的圆形空隙。
区别于现有技术,在一个实施例中,优选地,所述第一贺卡部位1与第二贺卡部位3以塑料为材料。
优选地,所述第一贺卡部位1与第二贺卡部位3为多边形,能够适应更多人自由进行选择。
优选地,所述第一贺卡部位1与第二贺卡部位3为圆形,符合大众的审美观。
优选地,所述第一贺卡部位1与第二贺卡部位3的面积大于所述印花层2的面积。
本发明能够提供一种进行双面绣的贺卡,在贺卡绣制完成之后可以去除中间的印花层2,制作成为一种精美的贺卡,令贺卡更具收藏价值。
以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其它相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (5)

1.一种双面刺绣贺卡,其特征在于:包含有:第一贺卡部位(1)、第二贺卡部位(3)和位于第一贺卡部位与第二贺卡部位之间的印花层(2),所述第一贺卡部位与第二贺卡部位均为透明,印花层为印有图案的纸张,所述第一贺卡部位与第二贺卡部位上有允许绣针通过的圆形空隙。
2.根据权利要求1所述的双面刺绣贺卡,其特征在于:所述第一贺卡部位与第二贺卡部位以塑料为材料。
3.根据权利要求1所述的双面刺绣贺卡,其特征在于:所述第一贺卡部位与第二贺卡部位为多边形。
4.根据权利要求1所述的双面刺绣贺卡,其特征在于:所述第一贺卡部位与第二贺卡部位为圆形。
5.根据权利要求1所述的双面刺绣贺卡,其特征在于:所述第一贺卡部位与第二贺卡部位的面积大于所述印花层的面积。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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