CN103393546A - 一种烫发液 - Google Patents
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Abstract
本发明所述的一种烫发液。其由:硫基乙酸、氨水、苛性苏打、乙醇胺、柠檬酸、乙酸和蒸馏水组成,使用本发明提供的烫发液,可使得烫发者烫头发时间控制在10-15分钟,无需两步骤施行,只需要现有烫发的第一步骤即可,定型效果好,烫发后即可冲洗头发,安全无毒害,头发弯曲时间长。
Description
技术领域
本发明涉及美容美发领域,特别是一种烫发液。
背景技术
现市场上所用的烫发液多为两步式烫发液,其由第一溶液、第二溶液组成,第一溶液以硫代乙醇酸铵为主要成分,加入了一种碱性碳酸盐或苛性碱,第二溶液为碱性溴酸盐的水溶液,将第一溶液使用于头发中,头发中的角蛋白所含的胱氨酸的硫键通过氢化作用而被打断,从而使头发软化成一种卷曲和拉紧的状态,使用第二溶液,打断的键通过氧化而被复原,从而固定成为卷曲的头发,起到定型的效果,这种方法对人体伤害很大,当第一溶液涂于头上时,一种氰化钾及产生了,所以在这种烫发的时候,人很容易出现中毒现象,身体较虚的人会出现晕倒,重则死亡。
发明目的
本发明的目的在于解决以上问题,提供一种安全快捷的烫发液,其能缩短整个烫发时间,使头发卷曲的持久性得到足够的改善。
发明内容
本发明所述的一种烫发液其由:硫基乙酸、氨水、苛性苏打、乙醇胺、柠檬酸、乙酸和蒸馏水组成,其中各成分重量比为:硫基乙酸2.5-3.5%,氨水1-4%,苛性苏打0.04-0.07%,乙醇胺0.03-0.06%,柠檬酸0.1-0.2%,乙醇0.6-3%,其余为蒸馏水。
使用本发明提供的烫发液,可使得烫发者烫头发时间控制在10-15分钟,无需两步骤施行,只需要现有烫发的第一步骤即可,定型效果好,烫发后即可冲洗头发,安全无毒害,头发弯曲时间长。
Claims (1)
1.一种烫发液,其特征在于:其由硫基乙酸、氨水、苛性苏打、乙醇胺、柠檬酸、乙酸和蒸馏水组成,其中各成分重量比为:硫基乙酸2.5-3.5%,氨水1-4%,苛性苏打0.04-0.07%,乙醇胺0.03-0.06%,柠檬酸0.1-0.2%,乙醇0.6-3%,其余为蒸馏水。
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CN2010102126788A CN103393546A (zh) | 2010-06-25 | 2010-06-25 | 一种烫发液 |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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CN103393546A true CN103393546A (zh) | 2013-11-20 |
Family
ID=49557418
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CN2010102126788A Pending CN103393546A (zh) | 2010-06-25 | 2010-06-25 | 一种烫发液 |
Country Status (1)
Country | Link |
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CN (1) | CN103393546A (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106619161A (zh) * | 2016-11-16 | 2017-05-10 | 张继红 | 一种一剂式温塑烫发剂及其制备方法 |
CN107510207A (zh) * | 2017-08-24 | 2017-12-26 | 新乡市高新区居艺烫发产品技术研发有限公司 | 烫发药剂、烫发药剂的应用及烫发方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN86105867A (zh) * | 1985-09-10 | 1987-05-20 | 近藤德三 | 烫发液 |
-
2010
- 2010-06-25 CN CN2010102126788A patent/CN103393546A/zh active Pending
Patent Citations (1)
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PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20131120 |