CN103215871A - 一种用于室外的耐用性持久的地砖 - Google Patents

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CN103215871A CN 201310099637 CN201310099637A CN103215871A CN 103215871 A CN103215871 A CN 103215871A CN 201310099637 CN201310099637 CN 201310099637 CN 201310099637 A CN201310099637 A CN 201310099637A CN 103215871 A CN103215871 A CN 103215871A
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徐友娟
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Abstract

本发明公开了一种用于室外的耐用性持久的地砖,包括防滑条、石英石层、花岗岩层、釉面层、瓷片层和基底层,所述的石英石层的四周均设置有防滑条,所述的石英石层连接有所述的花岗岩层,所述的花岗岩层连接有所述的釉面层,所述的釉面层连接有所述的瓷片层,所述的瓷片层连接有所述的基底层。本发明设置有石英石层和花岗岩层,耐用性能好,使用寿命长;还设置有防滑条,防滑性能好,安全性能高。

Description

一种用于室外的耐用性持久的地砖
技术领域
本发明涉及建筑材料领域,特别是涉及一种用于室外的耐用性持久的地砖。
背景技术
地砖的品种按铺装部位可以分为室内砖和室外砖两种。室外地砖朴素的质地能为你的户外空间增加质感,室外地砖在铺设时必需要考虑到地砖的防滑性能和耐用持久性能,方便实用、安全是的室外地砖是首选。
然而,现在使用的室外地砖耐用性能不好,使用寿命不长,特别是地砖的四个角容易损坏,这样不仅影响了美观,还给日常的使用带来了不便;另外,地砖的防滑性能也不好,安全性能不高。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种耐用性能好,使用寿命长,防滑性能好,安全性能高的用于室外的耐用性持久的地砖。
为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:提供一种用于室外的耐用性持久的地砖,包括防滑条、石英石层、花岗岩层、釉面层、瓷片层和基底层,所述的石英石层的四周均设置有防滑条,所述的石英石层连接有所述的花岗岩层,所述的花岗岩层连接有所述的釉面层,所述的釉面层连接有所述的瓷片层,所述的瓷片层连接有所述的基底层。
在本发明一个较佳实施例中,所述的防滑条的宽度为3~5 cm。
在本发明一个较佳实施例中,所述的石英石层的厚度为1~3 mm。
在本发明一个较佳实施例中,所述的花岗岩层的厚度为1~3 mm。
本发明的有益效果是:本发明设置有石英石层和花岗岩层,耐用性能好,使用寿命长;还设置有防滑条,防滑性能好,安全性能高。
附图说明
图1是本发明用于室外的耐用性持久的地砖一较佳实施例的结构示意图;
附图中各部件的标记如下:1、石英石层,2、花岗岩层,3、釉面层,4、瓷片层,5、基底层。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的较佳实施例进行详细阐述,以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
请参阅图1,本发明实施例包括:
一种用于室外的耐用性持久的地砖,包括防滑条、石英石层1、花岗岩层2、釉面层3、瓷片层4和基底层5,所述的石英石层1的四周均设置有防滑条,所述的石英石层1连接有所述的花岗岩层2,所述的花岗岩层2连接有所述的釉面层3,所述的釉面层3连接有所述的瓷片层4,所述的瓷片层4连接有所述的基底层5。
另外,所述的防滑条的宽度为3~5 cm。
另外,所述的石英石层1的厚度为1~3 mm。
另外,所述的花岗岩层2的厚度为1~3 mm。
本发明设置有石英石层和花岗岩层,耐用性能好,使用寿命长;还设置有防滑条,防滑性能好,安全性能高。
以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (4)

1.一种用于室外的耐用性持久的地砖,其特征在于,包括防滑条、石英石层、花岗岩层、釉面层、瓷片层和基底层,所述的石英石层的四周均设置有防滑条,所述的石英石层连接有所述的花岗岩层,所述的花岗岩层连接有所述的釉面层,所述的釉面层连接有所述的瓷片层,所述的瓷片层连接有所述的基底层。
2.根据权利要求1所述的用于室外的耐用性持久的地砖,其特征在于,所述的防滑条的宽度为3~5 cm。
3.根据权利要求1所述的用于室外的耐用性持久的地砖,其特征在于,所述的石英石层的厚度为1~3 mm。
4.根据权利要求1所述的用于室外的耐用性持久的地砖,其特征在于,所述的花岗岩层的厚度为1~3 mm。
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Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20130724