CN103208733A - 控制随机激光强度的装置及方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种控制随机激光强度的装置及方法,所述装置包括刚性管体,装在所述刚性管体内的液晶和激光染料,缠绕于所述刚性管体外表面的两组绕向相同的线圈,以及与所述线圈电连接的电源模组;相邻线圈的间距不小于泵浦光光斑的直径,各组线圈中的电流方向相同。所述方法包括:将装有液晶和激光染料的刚性管体置于磁场强度可控的磁场中;当泵浦光照射到所述刚性管体上时,调节磁场强度以改变随机激光的出射强度。本发明的装置和方法具有简单易实现和调控速度快的优点。

Description

控制随机激光强度的装置及方法
技术领域
本发明涉及随机激光,具体涉及一种调节液晶随机激光强度的装置和方法。
背景技术
近年来,随机激光已经成为国际激光学界的热门研究领域。随机激光辐射源自激活无序介质,即辐射光在激活无序介质中的多次散射提供光学反馈,从而获得较大的增益,因而无需外加谐振腔。液晶随机激光器就是将激光增益介质掺杂在液晶材料中,以液晶作为无序散射介质的随机激光器。
液晶是一种各向异性的物质,光学上类似单轴晶体。一般情况下光轴与分子长轴方向一致。当对液晶加上外部电场、温度场或磁场时,由于在不同电场、磁场或温度场的作用下,会使得分子的长轴发生一定不同的倾角旋转,液晶分子的排列也就发生改变,这会影响液晶结构整体的光轴,双折射率也会受磁场影响,利用这一性质可以制成光偏转器和光调制器。而液晶分子排列受到影响会改变整体结构的散射常数,影响光在其中的传播。液晶分子在上述场的作用下会发生取向等的变化,在有外边界条件限制情况下, 如取向剂摩擦取向等,当磁场强度不强时,液晶分子取向变化不大,当超过一定阈值,液晶取向则会产生Fredericks转变,会更适合于转向外磁场、电场方向排列。液晶取向受到电场、温度场或磁场的影响,会影响整个系统的散射常数,进而影响随机激光的出射。
目前电控和温控是控制液晶随机激光强度的主要方法,例如在液晶盒结构中,在盒两面加上加热装置可实现温控,液晶盒玻璃使用ITO导电玻璃后盒面通电可以实现电控。温控存在调控速度慢的缺点,而对于管体结构的液晶随机激光,电控存在装置复杂的缺点。
发明内容
发明目的:本发明提出一种通过磁场控制液晶随机激光强度的装置和方法,通过调节磁场强度引起液晶排列方式的改变,从而改变体系中散射能力,快速、方便地实现对随机激光开关的控制。
技术方案:本发明的控制随机激光强度的装置,包括刚性管体,在所述刚性管体内的液晶和激光染料,缠绕于所述刚性管体外表面的两组绕向相同的线圈,以及与所述线圈电连接的电源模组;相邻线圈的间距不小于泵浦光光斑的直径,各组线圈中的电流方向相同。
所述刚性管体的内径为0.01~1毫米。所述激光染料和液晶的重量份数分别为0.2~0.8和99.2~99.8。相邻线圈的间距为泵浦光斑直径的1~2000倍。所述刚性管体为石英管。
本发明进一步提供了一种控制随机激光强度的方法,包括如下步骤:将装有液晶和激光染料的刚性管体置于磁场强度可控的磁场中;当泵浦光照射到所述刚性管体上时,调节磁场强度以改变随机激光的出射强度。
一般地,所述刚性管体外表面缠绕线圈,调节所述线圈中电流的大小进而调节所述磁场强度。具体地,线圈缠绕和电流控制的步骤如下:以同样的绕制方式在所述刚性管体外侧均匀缠绕两组线圈,相邻线圈之间的间距大于泵浦光斑直径;将所述线圈与电源模组连接;调整泵浦光光源的位置,使泵浦光经过聚焦透镜后射入相邻线圈之间的刚性管体上;通过电源模组改变所述线圈中电流的强度,从而调节随机激光的出射强度。
准备刚性管体并洗净其内表面,在所述刚性管体内灌入由液晶与激光染料组成的混合溶液,其中,激光染料在混合溶液中质量浓度为0.2~0.8%。所述刚性管体为内径在0.01~1毫米的石英管。
工作原理:当磁场强度改变时,液晶分子的排列方向发生变化,从而导致液晶的双折射率、散射能力发生变化,进而改变随机激光的强度。
有益效果:本发明通过磁场实现液晶随机激光的开关控制,其结构简单方便,易于实现,比温控随机激光方法实现起来更快速,比电控随机激光方法实现起来更方便。
附图说明
图1为本发明结构示意图;
图2为本发明刚性管体的结构示意图。
具体实施方式:
下面结合附图和具体实施方式对本发明做进一步说明。
如图1和图2所示,本发明的控制随机激光强度的装置包括石英制作的刚性管体1,其内径为0.01~1毫米。刚性管体1内装有液晶2和激光染料3,外表面缠绕有两组参数相同的线圈4,其中参数包括绕向、匝数和单位长度上的匝数,两组线圈之间的间距至少要大于或等于泵浦光光斑的直径,以便泵浦光入射,且该间距应该在尽量小,不大于泵浦光斑直径的2000倍,以使磁场,特别是相邻线圈之间的磁场分布更加均匀。两组线圈均与电源模组5电连接,连接方式应该使各组线圈中的电流方向相同,例如均为左螺旋或均为右螺旋。在该实施例中,激光染料和液晶组成均匀的混合溶液,激光染料占混合溶液总质量的0.2~0.8%。
在工作时,激光器6发出的泵浦光8经聚焦透镜7聚焦后照射到线圈之间的刚性管体1上,使激光染料产生随机激光9并从一端出射。当电流达到一定值,随机激光会消失,改变电流大小,随机激光出射特性(如偏振)会发生改变。其具体的工作原理如下:液晶分子的排列取向与外磁场有关,通过改变外磁场可以控制液晶分子的排布方式,影响散射常数,进而影响光在其中的传播。当外加磁场增加时,液晶分子的取向由无序逐渐趋向磁场方向排列,导致液晶的双折射率降低,同时散射能力降低(扩散常数增大),当磁场强度达到一定值时,散射能力不足以提供多重反馈,随机激光消失。
需要指出的是,管外螺线管通电后由于有电流热效应,会使得温度有所上升,而温度改变时,液晶会呈现出不同的液晶相,加热时,液晶会经过部分有序相。温度不同,液晶相就改变,散射特性就发生变化,当温度升高达到一定值后,液晶会变为各向同性,散射能力大大减弱,当温度上升时,其随机激光出射强度会降低。在其他实施例中,可以采用超导线圈或温度监控装置,以降低温度对系统灵敏度和稳定性的影响。
在其他实施例中,可以将在线圈外侧设置固定装置,例如胶带等;可以将线圈直接设置在管体中;可以将两线圈之间用一条导线连接(或者用同一条导线绕制成两个有间距的线圈);两组线圈可以是一组亥姆霍兹线圈。
本发明的控制随机激光强度的方法包括以下步骤:首先,将装有液晶和激光染料的刚性管体置于磁场强度可控的磁场中;其次,当泵浦光照射到所述刚性管体上时,调节磁场强度以改变随机激光的出射强度。
在进一步的实施例中,将装有液晶和激光染料的刚性管体置于与刚性管体同轴线的线圈中,当泵浦光照射到所述刚性管体上时,通过调节线圈中的电流强度进而改变磁场强度,以改变随机激光的出射强度。
在进一步的实施中,该方法具体为:对刚性管体的内壁进行处理、洗净;利用毛细现象将激光染料与液晶的混合溶液灌入圆柱形的管体中,激光染料可以是罗丹明类、PM597、DCM等,其在混合溶液中浓度在0.2—0.8wt.%之间,液晶选择向列型液晶,如E7等;将可导电的线圈以同样绕制方式均匀密集的缠绕在刚性管体外围,线圈的材料、圈数,绕制方向等参数完全一样,二者中间间隔小于1cm或小于泵浦光光斑直径的2000倍,在保证大于泵浦光光斑直径(一般为几十微米)前提下足够小,距离越小两组线圈之间的磁场平行度越好;将线圈用导线并联在电源模组上,连接方式保证两个线圈中电流方向一致;根据所用激光染料选择合适频率的泵浦光源,出射激光经过凸透镜聚焦后垂直于圆柱管轴向打入圆柱管的一端,该端放在透镜焦距处,随机激光由管另一端出射;经过电源控制导电线圈中的电流大小控制线圈内磁场大小,来改变出射随机激光强度等,当达到一定值后,随机激光消失,实现开关。导电线圈通电,当电流达到一定值,随机激光会消失,改变电流大小,随机激光出射特性,如偏振,会改变。其中,所加载电压的数值由液晶材料的类型(如E7、BL001)、管内径(0.01—1mm)、线圈参数(材料、匝数等)共同决定。作为优选,激光器可以使用光纤激光器,利于实现整体结构的小型化,集约化,如双包层光纤激光器、光子晶体光纤激光器等。
本发明通过调节导电线圈中电流大小来改变磁场,实现圆柱管液晶随机激光的开关控制,其结构简单方便,易于实现,比温控实现控制更快速。并且真空中载流长直螺线管内部的磁感应强度为B=μnI(μ是真空磁导率,n是螺线管单位长度上的线圈匝数,I为螺线管导线内的电流),为了达到合适的磁感应强度值,通过选择合适的线圈匝数与材料(电阻等参数就不同),如铜、铝或者合金材料等,可以实现比达到同样效果的电控的耗能低。在管体结构中构建足够的平行电场实现起来不是很方便,而本发明中只需要通过缠绕通电线圈就可以实现足够的平行磁场,实现起来简单。与传统的激光器相比,其体积较小易于集成,结构多样化,而且制作容易、调控速度快。
本装置的结构和方法可用于光纤激光的调节、光通信(偏振的调节,控制通断等)、以及磁场探测等领域。
应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,如改进外控电路使磁场更稳定、改变泵浦光入射方向、采用单线圈、超导线圈或温控装置等等,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种控制随机激光强度的装置,其特征在于,包括刚性管体(1),装在所述刚性管体(1)内的液晶(2)和激光染料(3),缠绕于所述刚性管体(1)外表面的两组绕向相同的线圈(4),以及与所述线圈(4)电连接的电源模组(5);相邻线圈(4)的间距不小于泵浦光光斑的直径,各组线圈中的电流方向相同。
2.如权利要求1所述的控制随机激光强度的装置,其特征在于,所述刚性管体(1)的内径为0.01~1毫米。
3.如权利要求1或2所述的控制随机激光强度的装置,其特征在于,所述激光染料(3)和液晶(2)的重量份数分别为0.2~0.8和99.2~99.8。
4.如权利要求1或2所述的控制随机激光强度的装置,其特征在于,相邻线圈(4)的间距为泵浦光斑直径的1~2000倍。
5.如权利要求1所述的控制随机激光强度的装置,其特征在于,所述刚性管体(1)为石英管。
6.一种控制随机激光强度的方法,其特征在于,包括如下步骤:将装有液晶和激光染料的刚性管体置于磁场强度可控的磁场中;当泵浦光照射到所述刚性管体上时,调节磁场强度以改变随机激光的出射强度。
7.如权利要求6所述的控制随机激光强度的方法,其特征在于,所述刚性管体外表面缠绕线圈,调节所述线圈中电流的大小进而调节所述磁场强度。
8.如权利要求7所述的控制随机激光强度的方法,其特征在于,线圈缠绕和电流控制的步骤如下:以同样的绕制方式在所述刚性管体外侧均匀缠绕两组线圈,相邻线圈之间的间距大于泵浦光斑直径;将所述线圈与电源模组连接;调整泵浦光光源的位置,使泵浦光经过聚焦透镜后射入相邻线圈之间的刚性管体上;通过电源模组改变所述线圈中电流的强度,从而调节随机激光的出射强度。
9.如权利要求6或8所述的控制随机激光强度的方法,其特征在于,还包括如下步骤:准备刚性管体并洗净其内表面,在所述刚性管体内灌入由液晶与激光染料组成的混合溶液,其中,激光染料在混合溶液中质量浓度为0.2~0.8%。
10.如权利要求6或8所述的控制随机激光强度的方法,其特征在于,所述刚性管体为内径在0.01~1毫米的石英管。
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