CN103199738B - 基于mems技术的压电-电磁复合式宽频俘能器 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种基于MEMS技术的压电-电磁复合式宽频俘能器,属于微机电系统领域。其包括:边框1、2个以上的MEMS压电-电磁复合式俘能单元11、管壳20和盖板2。盖板2盖在管壳20的上面,边框1固定于管壳20的内部,MEMS压电-电磁复合式俘能单元11固定于边框1内。每个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11包括:磁铁3、线圈4、质量块5、4根结构梁、第一上电极层7、第二上电极层8、下电极层9、PZT压电材料层10、绝缘层15。本发明提出的俘能器与已有MEMS振动型俘能器相比较,具有以下优点:①将线圈材料、压电材料的制备与MEMS工艺实现兼容设计,且成本较低。②具有宽频带俘能效果,并同时能输出较大电压和较大电流。
Description
技术领域
本发明涉及一种基于MEMS(Micro-electro-mechanical Systems,微机电系统)技术的压电-电磁复合式宽频俘能器,属于微机电系统领域。
背景技术
近年来,随着低功耗器件,特别是适用于无线传感网络和微惯性系统中的低功耗MEMS传感器和ASIC(Application Specific Integrated Circuit,专用集成电路)芯片的发展,使得从工作环境中直接俘获能量以供给器件工作成为可能。
传统方式中主要利用化学电池给器件供电,但这种供能方式存在比较突出的问题:(1)化学电池的寿命有限,间隔一段时间需要更换或充电,对于在偏远地区或在特殊环境中工作(如密闭空间中)的器件来说,更换电池、给电池充电成本太高或不可行;(2)化学电池对环境的污染较大,同时,处理废弃电池将导致成本进一步增加;(3)化学电池的体积较大,无法在工作空间较小的系统中使用;(4)化学电池无法实现与MEMS器件集成,因而进一步限制了其在MEMS领域中的应用。考虑到MEMS器件的工作环境及对供能方式的要求,如能长时间工作、占用工作空间小及可与MEMS工艺兼容等,研究开发可替代化学电池的供能方式已成为近年来的研究热点。
目前国内外已研究出多种替代化学电池的微能源,主要有振动型俘能器、太阳能电池、温差电池等供能方式,但其中的太阳能电池与温差电池对工作环境中的光、温度等有较苛刻的要求,且不能在密闭环境中工作,这些因素在很大程度上限制了它们的应用。而振动型俘能器则是将振动能转化为电能的一种俘获能量器件,几乎所有的器件、系统都工作在一定的振动环境中,因此,振动型俘能器的应用范围非常广阔。目前,研究开发出的振动型俘能器主要包括基于MEMS技术的振动型俘能器和基于传统加工技术的微小型振动俘能器,其中,由于MEMS俘能器的体积小,且能实现与其他MEMS传感器的集成,因此,可应用于无线传感网络和微惯性系统中为MEMS器件供能。
目前已研究出的MEMS振动型俘能器主要包括三种类型,分别是基于压电效应的压电式俘能器、基于电磁感应定律的电磁式俘能器及基于电容原理的静电式俘能器。由于具有体积小、能长时间工作、可实现无源供能,且可与MEMS工艺相集成等优点,MEMS振动型俘能器已成为了近年来MEMS领域及微能源领域的研究热点。但目前已研究出的MEMS俘能器还存在一些限制其应用的因素,比如带宽较窄(通常为几Hz到几十Hz),同时,三种类型的俘能器都有其各自不同的特点,如压电式俘能器的输出电压较大,但由于内阻较大导致输出电流较小,通常只有几微安到几十微安;电磁式俘能器的输出电流较大,但输出电压只有几十到几百毫伏,无法满足常用器件的供电要求;静电式俘能器则需要一定的初始电压才能正常工作,因而无法实现无源供能。此外,由于工作环境中的振动频率通常分布在一定的频带范围内,因此,需要拓宽MEMS俘能器的工作带宽,以覆盖整个工作环境的振动频率,提高俘能效率。所以,针对目前传统供能方式及已研究出的MEMS俘能器所存在的问题,研究开发一种同时具有宽频带、较大输出电压和较大输出电流的MEMS振动型俘能器成为必要。
发明内容
本发明的目的是为了解决已有MEMS振动型俘能器存在的不足,提出一种基于MEMS技术的压电-电磁复合式宽频俘能器,其具有宽频带俘能效果并同时能输出较大电压和较大电流。
本发明的目的是通过以下技术方案实现的。
一种基于MEMS技术的压电-电磁复合式宽频俘能器,包括:边框(1)、2个以上的MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)、管壳(20)和盖板(2)。
所述盖板(2)盖在管壳(20)的上面,边框(1)固定于管壳(20)的内部,所述2个以上的MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)固定于边框(1)内,并且MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)与管壳(20)的底面不接触。管壳(20)和盖板(2)的作用是封装边框(1)及全部MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11),对边框(1)及MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)起保护作用。
所述边框(1)为长方形或正方形边框,其作用是:①固定并支撑全部MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11);②布置引线及焊盘。所述焊盘的作用是实现与外接负载的电气连接。
所述2个以上的MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)位于同一平面并且等间距排布于边框(1)的内部。
所述2个以上的MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)可以单独工作,也可以将部分或全部的MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)串联或并联后一起工作。当单个MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)能够满足频带需要时,MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)可单独工作;当需要提供高输出电压时,将部分或全部的MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)做串联连接;当需要提供高输出电流时,将部分或全部的MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)做并联连接。
所述MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)包括:磁铁(3)、线圈(4)、质量块(5)、第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)、第四结构梁(14)、第一上电极层(7)、第二上电极层(8)、下电极层(9)、PZT(锆钛酸铅)压电材料层(10)、绝缘层(15)。
所述质量块(5)为正方体或长方体。
所述第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)、第四结构梁(14)以质量块(5)为中心,对称分布在质量块(5)的两侧,质量块(5)每侧的两根结构梁平行排布,并且每根结构梁的一端与边框(1)固定连接,另一端与质量块(5)固定连接;第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)、第四结构梁(14)的形状和尺寸相同。质量块(5)的上表面与第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)、第四结构梁(14)的上表面位于同一水平面。
所述质量块(5)和第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)、第四结构梁(14)的作用是:①在确定了质量块(5)以及第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)、第四结构梁(14)的形状和尺寸以后,即确定了所述MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)的谐振频率和响应频带;②质量块(5)支撑线圈(4),当有外界振动信号时,质量块(5)振动带动线圈(4)进行同频率的振动,线圈(4)进行切割磁感线运动。
所述第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)、第四结构梁(14)和质量块(5)的上表面上有绝缘层(15);第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)和第四结构梁(14)上的绝缘层(15)的上表面有下电极层(9);下电极层(9)通过引线与边框(1)上焊盘连接。下电极层(9)的上表面上有PZT压电材料层(10);PZT压电材料层(10)的上表面上有第一上电极层(7)和第二上电极层(8),第一上电极层(7)和第二上电极层(8)之间有一定间隙。
所述PZT压电材料层(10)上有焊盘。
所述第二上电极层(8)上有焊盘。
所述第一上电极层(7)通过引线与PZT压电材料层(10)上的焊盘连接或与边框(1)上的焊盘连接。
所述第二上电极层(8)通过引线与其自身上的焊盘或边框(1)上的焊盘连接。
所述PZT压电材料层(10)的作用是:当质量块(5)振动时,引起第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)、第四结构梁(14)和PZT压电材料层(10)弯曲变形,导致PZT压电材料层(10)中产生应力、应变,进而在PZT压电材料层(10)的上表面和下表面产生电荷。
所述线圈(4)固定于质量块(5)上表面的绝缘层(15)上,其作用是当线圈(4)切割磁感线运动时,在线圈(4)中产生感应电动势,输出能量。线圈(4)为平面线圈。
所述磁铁(3)位于线圈(4)的上方,粘附于盖板(2)的下表面,磁铁(3)和线圈(4)不接触,磁铁(3)的作用是提供磁场。
所述第一上电极层(7)和第二上电极层(8)的作用是收集PZT压电材料层(10)上表面产生的电荷。
所述下电极层(9)的作用是收集PZT压电材料层(10)下表面产生的电荷。
所述MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)的作用是:①当有外界振动作用时,通过质量块(5)产生惯性力作用到第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)和第四结构梁(14)上,使第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)、第四结构梁(14)及PZT压电材料层(10)发生弯曲变形,根据压电效应,在PZT压电材料层(10)上、下表面产生电荷,实现俘能作用;②在外界振动作用下,质量块(5)发生振动,带到质量块(5)上表面的线圈(4)进行同频率的振动,在磁铁(3)的作用下,根据电磁感应定律,在线圈(4)中产生电动势,实现俘能作用。
在制备基于MEMS技术的压电-电磁复合式宽频俘能器的过程中,通过优化确定每个MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)中的质量块(5)、第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)和第四结构梁(14)的形状和尺寸,使每个MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)分别具有不同的谐振频率,并且每个MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)的频响之间有交集,将多个MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)组合后,即可实现宽频带俘能效果。
当所述的基于MEMS技术的压电-电磁复合式宽频俘能器工作在设计的较宽频率范围内时,不同频率的振动总能激发一个MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)工作,达到振动俘能的效果,当工作频率等于MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)的谐振频率时质量块(5)发生共振,俘能效果最佳。
当外界振动引起质量块(5)振动时,根据压电效应和电磁感应定律,第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)和第四结构梁(14)上的PZT压电材料层(10)和质量块(5)上表面的线圈(4)同时输出电流、电压,并且PZT压电材料层(10)能输出较大的电压,而线圈(4)则能产生较大的电流,即通过同一MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)可同时输出高电压和高电流,实现压电-电磁复合式俘能作用。当PZT压电材料层(10)的压电系数越大、厚度越厚、第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)、第四结构梁(14)的弯曲变形越大时,输出的电压越大;当线圈(4)的匝数越多、电阻越小、磁铁(3)的剩余磁感应强度越强、线圈(4)与磁铁(3)的间距越小时,输出的电流越大。同时,当负载电阻和MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)的内阻相等时,MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)输出的功率最大。
所述基于MEMS技术的压电-电磁复合式宽频俘能器的制备工艺过程具体为:
步骤0:根据应用需要的频带范围,设计MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)的工作频带,以及MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)的数量N,N≥2;并确定每个MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)中质量块(5)和第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)、第四结构梁(14)的位置、形状和尺度;根据应用需要的电压、电流,设计MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)中PZT压电材料层(10)的厚度,线圈(4)的厚度、线宽及线间距;同时设计边框(1)的尺寸。
步骤1:在步骤0操作的基础上,设计、制备掩膜版,具体为:在一块完整的硅片上确定出边框(1)的位置、N个MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)的位置以及每个MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)中质量块(5)、第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)和第四结构梁(14)的位置;然后对硅片进行抛光,并对抛光的硅片表面通过氧化形成二氧化硅层;
步骤2:在经过步骤1处理后得到的硅片的上表面上通过溅射工艺依次制备绝缘层(15)和下电极层(9);
步骤3:在下电极层(9)的上表面通过溶胶-凝胶法制备PZT压电材料层(10);
步骤4:对PZT压电材料层进行图形化处理,保留步骤1所设计的N个MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)的第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)、第四结构梁(14)上的PZT压电材料层(10),将硅片上其余部分的PZT压电材料层(10)去除掉,并在保留下来的PZT压电材料层(10)上加工焊盘。
步骤5:在步骤4操作的基础上,保留PZT压电材料层(10)下面的下电极层(9),去除掉硅片上其余部分的下电极层(9);
步骤6:在步骤5操作的基础上,保留N个MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)的第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)、第四结构梁(14)和质量块(5)上面的绝缘层(15),去除掉硅片上其余部分的绝缘层(15);
步骤7:通过溅射工艺,在每个MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)的每根结构梁的PZT压电材料层(10)的上表面分别制备第一上电极层(7)和第二上电极层(8);在第二上电极层(8)上加工焊盘。
步骤8:在N个MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)的质量块(5)上的绝缘层(15)的上表面,利用电镀工艺分别制备一个线圈(4);
步骤9:保留硅片上的边框(1)、N个MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)的第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)、第四结构梁(14)和质量块(5)的部分,去除掉硅片的其它部分,并在边框(1)上加工焊盘。
步骤10:把经过步骤9处理后得到的结构固定于管壳(20)内,并使质量块(5)与管壳(20)的底面不接触;
步骤11:将N块磁铁(3)粘附于盖板(2)的下表面,且位于N个线圈(4)的正上方的位置,磁铁(3)和线圈(4)不接触;
步骤12:将盖板(2)固定于管壳(20)的上方,并使盖板(2)的下表面粘附的N块磁铁(3)分别处于N个线圈(4)的正上方,至此得到所述基于MEMS技术的压电-电磁复合式宽频俘能器。
有益效果
本发明提出的基于MEMS技术的压电-电磁复合式宽频俘能器与已有的MEMS振动型俘能器相比较,具有以下优点:
①所述MEMS压电-电磁复合式宽频俘能器将线圈材料、压电材料的制备与MEMS工艺实现兼容设计,在同一振动单元中实现能量的双转化模式且成本较低。
②所述基于MEMS技术的压电-电磁复合式宽频俘能器具有宽频带俘能效果,并同时能输出较大电压和较大电流。
附图说明
图1为本发明具体实施例中的封装管壳和盖板结构示意图;
其中,2—盖板;20—管壳。
图2为本发明具体实施例中边框、5个MEMS压电-电磁复合式俘能单元以及盖板的结构示意图;
1—边框;2—盖板;3—磁铁;4—线圈;7—第一上电极层;8—第二上电极层;11—MEMS压电-电磁复合式俘能单元。
图3为图2的A-A′剖面示意图;
其中,5—质量块。
图4为本发明具体实施例中5个MEMS压电-电磁复合式俘能单元排布示意图;
图5为本发明具体实施例中MEMS压电-电磁复合式俘能单元的上视图;
图6为本发明具体实施例中MEMS压电-电磁复合式俘能单元的底视图;
其中,6—第一结构梁;12—第二结构梁;13—第三结构梁;14—第四结构梁;
图7为图5的B-B′剖面示意图以及该剖面对应盖板位置的剖面示意图。
其中,9—下电极层;10—PZT压电材料层;15—绝缘层。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例,对本发明技术方案做详细描述。
基于MEMS技术的压电-电磁复合式宽频俘能器,包括:边框1、5个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11、管壳20和盖板2。其中,管壳20和盖板2结构如图1所示,边框1、5个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11以及盖板2的结构如图2所示;图2的A-A′剖面示意图如图3所示。
盖板2盖在管壳20的上面,边框1固定于管壳20的内部,5个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11固定于边框1内,并且MEMS压电-电磁复合式俘能单元11与管壳20的底面不接触。管壳20和盖板2的作用是封装边框1及全部MEMS压电-电磁复合式俘能单元11,对边框1及MEMS压电-电磁复合式俘能单元11起保护作用。
边框1为正方形,长为8mm,宽为8mm,厚为0.4mm。其作用是:①固定并支撑全部MEMS压电-电磁复合式俘能单元11;②布置引线及焊盘。焊盘的作用是实现与外接负载的电气连接。
5个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11的组成结构一样、位于同一平面并且等间距排布于边框1的内部。5个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11的排布如图4所示。
5个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11单独工作。
MEMS压电-电磁复合式俘能单元11,包括:磁铁3、线圈4、质量块5、第一结构梁6、第二结构梁12、第三结构梁13、第四结构梁14、第一上电极层7、第二上电极层8、下电极层9、PZT压电材料层10、绝缘层15。MEMS压电-电磁复合式俘能单元11的上视图如图5所示;MEMS压电-电磁复合式俘能单元11的底视图如图6所示;图5的B-B′剖面示意图以及该剖面对应盖板位置的剖面示意图如图7所示。
质量块5为长方体。
第一结构梁6、第二结构梁12、第三结构梁13、第四结构梁14以质量块5为中心,对称分布在质量块5的两侧,质量块5每侧的两根结构梁平行排布,并且每根结构梁的一端与边框1固定连接,另一端与质量块5固定连接;第一结构梁6、第二结构梁12、第三结构梁13、第四结构梁14的形状和尺寸相同。质量块5的上表面与第一结构梁6、第二结构梁12、第三结构梁13、第四结构梁14的上表面位于于同一水平面。
质量块5和第一结构梁6、第二结构梁12、第三结构梁13、第四结构梁14的作用是:①在确定了质量块5以及第一结构梁6、第二结构梁12、第三结构梁13、第四结构梁14的形状和尺寸以后,即确定了所述MEMS压电-电磁复合式俘能单元11的谐振频率和响应频带;②质量块5支撑线圈4,当有外界振动信号时,质量块5振动带动线圈4进行同频率的振动,线圈4进行切割磁感线运动。
第一结构梁6、第二结构梁12、第三结构梁13、第四结构梁14和质量块5的上表面上有绝缘层15;绝缘层15的上表面有下电极层9;下电极层9通过引线与边框1上焊盘连接。下电极层9的上表面上有PZT压电材料层10;PZT压电材料层10的上表面上有第一上电极层7和第二上电极层8,第一上电极层7和第二上电极层8之间有一定间隙。
PZT压电材料层10上有焊盘。
第二上电极层8上有焊盘。
第一上电极层7通过引线与PZT压电材料层10上的焊盘连接连接。
第二上电极层8通过引线与其自身上的焊盘连接。
PZT压电材料层10的作用是:当质量块5振动时,引起第一结构梁6、第二结构梁12、第三结构梁13、第四结构梁14和PZT压电材料层10弯曲变形,导致PZT压电材料层10中产生应力、应变,进而在PZT压电材料层10的上表面和下表面产生电荷。
线圈4固定于质量块5上表面的绝缘层15上,其作用是当线圈4切割磁感线运动时,在线圈4中产生感应电动势,输出能量。线圈4为平面线圈。
磁铁3位于线圈4的上方,粘附于盖板2的下表面,磁铁3和线圈4不接触,磁铁3的作用是提供磁场;磁铁3为钕铁硼。
第一上电极层7和第二上电极层8的作用是收集PZT压电材料层10上表面产生的电荷。
下电极层9的作用是收集PZT压电材料层10下表面产生的电荷。
MEMS压电-电磁复合式俘能单元11的作用是:①当有外界振动作用时,通过质量块5产生惯性力作用到第一结构梁6、第二结构梁12、第三结构梁13和第四结构梁14上,使第一结构梁6、第二结构梁12、第三结构梁13、第四结构梁14及PZT压电材料层10发生弯曲变形,根据压电效应,在PZT压电材料层10上、下表面产生电荷,实现俘能作用;②在外界振动作用下,质量块5发生振动,带到质量块5上表面的线圈4进行同频率的振动,在磁铁3的作用下,根据电磁感应定律,在线圈4中产生电动势,实现俘能作用。
在制备基于MEMS技术的压电-电磁复合式宽频俘能器的过程中,通过优化确定每个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11中的质量块5的形状和尺寸以及第一结构梁6、第二结构梁12、第三结构梁13、第四结构梁14的形状和尺寸,可以使每个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11分别具有不同的谐振频率,并且每个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11的频响之间有交集,将多个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11组合后,即可实现宽频带俘能效果。
当所述的基于MEMS技术的压电-电磁复合式宽频俘能器工作在设计的较宽频率范围内时,不同频率的振动总能激发一个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11工作,达到振动俘能的效果,当工作频率等于MEMS压电-电磁复合式俘能单元11的谐振频率时质量块5发生共振,俘能效果最佳。
当外界振动引起质量块5振动时,根据压电效应和电磁感应定律,第一结构梁6、第二结构梁12、第三结构梁13和第四结构梁14上的PZT压电材料层10和质量块5上表面的线圈4同时输出电流、电压,并且PZT压电材料层10能输出较大的电压,而线圈4则能产生较大的电流,即通过同一MEMS压电-电磁复合式俘能单元11可同时输出高电压和高电流,实现压电-电磁复合式俘能作用。当PZT压电材料层10的压电系数越大、厚度越厚、第一结构梁6、第二结构梁12、第三结构梁13、第四结构梁14的弯曲变形越大时,输出的电压越大;当线圈4的匝数越多、电阻越小、磁铁3的剩余磁感应强度越强、线圈4与磁铁3的间距越小时,输出的电流越大。同时,当负载电阻和MEMS压电-电磁复合式俘能单元11的内阻相等时,MEMS压电-电磁复合式俘能单元11输出的功率最大。
所述基于MEMS技术的压电-电磁复合式宽频俘能器的制备工艺过程具体为:
步骤0:根据应用需要的频带范围350Hz到500Hz,设计MEMS压电-电磁复合式俘能单元11的工作频带为350Hz到500Hz,以及MEMS压电-电磁复合式俘能单元11的数量为5;确定每个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11中质量块5和第一结构梁6、第二结构梁12、第三结构梁13、第四结构梁14的位置、形状和尺度;根据应用需要的电压、电流,设计MEMS压电-电磁复合式俘能单元11中PZT压电材料层10的厚度,线圈4的厚度、线宽及线间距;同时设计边框1的尺寸。
具体为:第一个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11中质量块5为长方体(长:1.5mm;宽:1.5mm;厚:260μm),第一结构梁6、第二结构梁12、第三结构梁13、第四结构梁14均为长方体(长:2mm;宽:300μm;厚:8μm);根据应用需要的最大电压是1V、最大电流是90μA,设计第一个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11中PZT压电材料层10的厚度为2μm,线圈4的厚度为5μm;线宽为10μm;线间距为10μm,线圈4的材料为铜。第一个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11的谐振频率为367Hz,最大输出电压可达1.62V,最大输出电流为92μA。
第二个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11中质量块5为长方体(长:1.5mm;宽:1.5mm;厚:260μm),第一结构梁6、第二结构梁12、第三结构梁13、第四结构梁14均为长方体(长:2mm;宽:350μm;厚:8μm);根据应用需要的最大电压是1V、最大电流是90μA,设计第二个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11中PZT压电材料层10的厚度为2μm,线圈4的厚度为5μm;线宽为10μm;线间距为10μm,线圈4的材料为铜。第二个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11的谐振频率为420Hz,最大输出电压可达1.48V,最大输出电流为119μA。
第三个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11中质量块5为长方体(长:1.5mm;宽:1.5mm;厚:260μm),第一结构梁6、第二结构梁12、第三结构梁13、第四结构梁14均为长方体(长:2mm;宽:400μm;厚:8μm);根据应用需要的最大电压是1V、最大电流是90μA,设计第三个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11中PZT压电材料层10的厚度为2μm,线圈4的厚度为5μm;线宽为10μm;线间距为10μm,线圈4的材料为铜。第三个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11的谐振频率为396Hz,最大输出电压可达1.39V,最大输出电流为100μA。
第四个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11中质量块5为长方体(长:1.5mm;宽:1.5mm;厚:260μm),第一结构梁6、第二结构梁12、第三结构梁13、第四结构梁14均为长方体(长:2mm;宽:450μm;厚:8μm);根据应用需要的最大电压是1V、最大电流是90μA,设计第四个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11中PZT压电材料层10的厚度为2μm,线圈4的厚度为5μm;线宽为10μm;线间距为10μm,线圈4的材料为铜。第四个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11的谐振频率为452Hz,最大输出电压可达1.23V,最大输出电流为113μA。
第五个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11中质量块5为长方体(长:1.5mm;宽:1.5mm;厚:260μm),第一结构梁6、第二结构梁12、第三结构梁13、第四结构梁14均为长方体(长:2mm;宽:500μm;厚:8μm);根据应用需要的最大电压是1V、最大电流是90μA,设计第五个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11中PZT压电材料层10的厚度为2μm,线圈4的厚度为5μm;线宽为10μm;线间距为10μm,线圈4的材料为铜。第五个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11的谐振频率为480Hz,最大输出电压可达1.09V,最大输出电流为120μA。
步骤1:在步骤0操作的基础上,设计、制备掩膜版,具体为:在一块完整的硅片上确定出边框1的位置、5个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11的位置以及每个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11中质量块5、第一结构梁6、第二结构梁12、第三结构梁13和第四结构梁14的位置;然后对硅片进行抛光,并对抛光的硅片表面通过氧化形成二氧化硅层;
步骤2:在经过步骤1处理后得到的硅片的上表面上通过溅射工艺依次制备绝缘层15和下电极层9;
步骤3:在下电极层9的上表面通过溶胶-凝胶法制备PZT压电材料层10;
步骤4:对PZT压电材料层进行图形化处理,保留步骤1所设计的5个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11的第一结构梁6、第二结构梁12、第三结构梁13、第四结构梁14上的PZT压电材料层10,将硅片上其余部分的PZT压电材料层10去除掉,并在保留下来的PZT压电材料层10上加工焊盘。
步骤5:在步骤4操作的基础上,保留PZT压电材料层10下面的下电极层9,去除掉硅片上其余部分的下电极层9;
步骤6:在步骤5操作的基础上,保留5个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11的第一结构梁6、第二结构梁12、第三结构梁13、第四结构梁14和质量块5上面的绝缘层15,去除掉硅片上其余部分的绝缘层15;
步骤7:通过溅射工艺,在每个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11的每根结构梁的PZT压电材料层10的上表面分别制备第一上电极层7和第二上电极层8;在第二上电极层8上加工焊盘。
步骤8:在5个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11的质量块5上的绝缘层15的上表面,利用电镀工艺分别制备一个线圈4;
步骤9:保留硅片上的边框1、5个MEMS压电-电磁复合式俘能单元11的第一结构梁6、第二结构梁12、第三结构梁13、第四结构梁14和质量块5的部分,去除掉硅片的其它部分,并在边框1上加工焊盘。
步骤10:把经过步骤9处理后得到的结构固定于管壳20内,并使质量块5与管壳20的底面不接触;
步骤11:将N块磁铁3粘附于盖板2的下表面,且位于N个线圈4的正上方的位置,磁铁3和线圈4不接触;
步骤12:将盖板2固定于管壳20的上方,并使盖板2的下表面粘附的5块磁铁3分别处于5个线圈4的正上方,至此得到所述基于MEMS技术的压电-电磁复合式宽频俘能器。
Claims (8)
1.一种基于MEMS技术的压电-电磁复合式宽频俘能器,其特征在于:其包括:边框(1)、2个以上的MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)、管壳(20)和盖板(2);
所述盖板(2)盖在管壳(20)的上面,边框(1)固定于管壳(20)的内部,所述2个以上的MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)固定于边框(1)内,并且MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)与管壳(20)的底面不接触;管壳(20)和盖板(2)的作用是封装边框(1)及全部MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11),对边框(1)及MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)起保护作用;
所述边框(1)为长方形或正方形边框,其作用是:①固定并支撑全部MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11);②布置引线及焊盘;所述焊盘的作用是实现与外接负载的电气连接;
所述2个以上的MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)位于同一平面并且等间距排布于边框(1)的内部;
所述MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)包括:磁铁(3)、线圈(4)、质量块(5)、第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)、第四结构梁(14)、第一上电极层(7)、第二上电极层(8)、下电极层(9)、PZT压电材料层(10)、绝缘层(15);
所述质量块(5)为正方体或长方体;
所述第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)、第四结构梁(14)以质量块(5)为中心,对称分布在质量块(5)的两侧,质量块(5)每侧的两根结构梁平行排布,并且每根结构梁的一端与边框(1)固定连接,另一端与质量块(5)固定连接;第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)、第四结构梁(14)的形状和尺寸相同;质量块(5)的上表面与第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)、第四结构梁(14)的上表面位于同一水平面;
所述质量块(5)和第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)、第四结构梁(14)的作用是:①在确定了质量块(5)以及第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)、第四结构梁(14)的形状和尺寸以后,即确定了所述MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)的谐振频率和响应频带;② 质量块(5)支撑线圈(4),当有外界振动信号时,质量块(5)振动带动线圈(4)进行同频率的振动,线圈(4)进行切割磁感线运动;
所述第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)、第四结构梁(14)和质量块(5)的上表面上有绝缘层(15);第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)和第四结构梁(14)上的绝缘层(15)的上表面有下电极层(9);下电极层(9)通过引线与边框(1)上焊盘连接;下电极层(9)的上表面上有PZT压电材料层(10);PZT压电材料层(10)的上表面上有第一上电极层(7)和第二上电极层(8),第一上电极层(7)和第二上电极层(8)之间有一定间隙;
所述PZT压电材料层(10)的作用是:当质量块(5)振动时,引起第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)、第四结构梁(14)和PZT压电材料层(10)弯曲变形,导致PZT压电材料层(10)中产生应力、应变,进而在PZT压电材料层(10)的上表面和下表面产生电荷;
所述线圈(4)固定于质量块(5)上表面的绝缘层(15)上,其作用是当线圈(4)切割磁感线运动时,在线圈(4)中产生感应电动势,输出能量;
所述磁铁(3)位于线圈(4)的上方,粘附于盖板(2)的下表面,磁铁(3)和线圈(4)不接触,磁铁(3)的作用是提供磁场;
所述第一上电极层(7)和第二上电极层(8)的作用是收集PZT压电材料层(10)上表面产生的电荷;
所述下电极层(9)的作用是收集PZT压电材料层(10)下表面产生的电荷;
所述MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)的作用是:①当有外界振动作用时,通过质量块(5)产生惯性力作用到第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)和第四结构梁(14)上,使第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)、第四结构梁(14)及PZT压电材料层(10)发生弯曲变形,根据压电效应,在PZT压电材料层(10)上、下表面产生电荷,实现俘能作用;②在外界振动作用下,质量块(5)发生振动,带到质量块(5)上表面的线圈(4)进行同频率的振动,在磁铁(3)的作用下,根据电磁感应定律,在线圈(4)中产生电动势,实现俘能作用;
在制备基于MEMS技术的压电-电磁复合式宽频俘能器的过程中,通过优化确定每个MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)中的质量块(5)、第一结构梁 (6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)和第四结构梁(14)的形状和尺寸,使每个MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)分别具有不同的谐振频率,并且每个MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)的频响之间有交集,将多个MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)组合后,即可实现宽频带俘能效果;
当所述的基于MEMS技术的压电-电磁复合式宽频俘能器工作在设计的较宽频率范围内时,不同频率的振动总能激发一个MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)工作,达到振动俘能的效果,当工作频率等于MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)的谐振频率时质量块(5)发生共振,俘能效果最佳;
当外界振动引起质量块(5)振动时,根据压电效应和电磁感应定律,第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)和第四结构梁(14)上的PZT压电材料层(10)和质量块(5)上表面的线圈(4)同时输出电流、电压,并且PZT压电材料层(10)能输出较大的电压,而线圈(4)则能产生较大的电流,即通过同一MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)可同时输出高电压和高电流,实现压电-电磁复合式俘能作用;当PZT压电材料层(10)的压电系数越大、厚度越厚、第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)、第四结构梁(14)的弯曲变形越大时,输出的电压越大;当线圈(4)的匝数越多、电阻越小、磁铁(3)的剩余磁感应强度越强、线圈(4)与磁铁(3)的间距越小时,输出的电流越大;同时,当负载电阻和MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)的内阻相等时,MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)输出的功率最大。
2.如权利要求1所述的一种基于MEMS技术的压电-电磁复合式宽频俘能器,其特征在于:所述2个以上的MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)可以单独工作,也可以将部分或全部的MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)串联或并联后一起工作;当单个MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)能够满足频带需要时,MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)可单独工作;当需要提供高输出电压时,将部分或全部的MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)做串联连接;当需要提供高输出电流时,将部分或全部的MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)做并联连接。
3.如权利要求1或2所述的一种基于MEMS技术的压电-电磁复合式宽频俘能器,其特征在于:线圈(4)为平面线圈。
4.如权利要求1或2所述的任一一种基于MEMS技术的压电-电磁复合式宽频俘能器,其特征在于:所述PZT压电材料层(10)上有焊盘。
5.如权利要求1或2所述的任一一种基于MEMS技术的压电-电磁复合式宽频俘能器,其特征在于:所述第二上电极层(8)上有焊盘。
6.如权利要求1或2之一所述的任一一种基于MEMS技术的压电-电磁复合式宽频俘能器,其特征在于:所述第一上电极层(7)通过引线与PZT压电材料层(10)上的焊盘连接或与边框(1)上的焊盘连接。
7.如权利要求1或2所述的任一一种基于MEMS技术的压电-电磁复合式宽频俘能器,其特征在于:所述第二上电极层(8)通过引线与其自身上的焊盘或边框(1)上的焊盘连接。
8.如权利要求1或2所述的任一一种基于MEMS技术的压电-电磁复合式宽频俘能器,其特征在于:所述基于MEMS技术的压电-电磁复合式宽频俘能器的制备工艺过程具体为:
步骤0:根据应用需要的频带范围,设计MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)的工作频带,以及MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)的数量N,N≥2;并确定每个MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)中质量块(5)和第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)、第四结构梁(14)的位置、形状和尺度;根据应用需要的电压、电流,设计MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)中PZT压电材料层(10)的厚度,线圈(4)的厚度、线宽及线间距;同时设计边框(1)的尺寸;
步骤1:在步骤0操作的基础上,设计、制备掩膜版,具体为:在一块完整的硅片上确定出边框(1)的位置、N个MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)的位置以及每个MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)中质量块(5)、第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)和第四结构梁(14)的位置;然后对硅片进行抛光,并对抛光的硅片表面通过氧化形成二氧化硅层;
步骤2:在经过步骤1处理后得到的硅片的上表面上通过溅射工艺依次制备绝缘层(15)和下电极层(9);
步骤3:在下电极层(9)的上表面通过溶胶-凝胶法制备PZT压电材料层(10);
步骤4:对PZT压电材料层进行图形化处理,保留步骤1所设计的N个MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)的第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、 第三结构梁(13)、第四结构梁(14)上的PZT压电材料层(10),将硅片上其余部分的PZT压电材料层(10)去除掉,并在保留下来的PZT压电材料层(10)上加工焊盘;
步骤5:在步骤4操作的基础上,保留PZT压电材料层(10)下面的下电极层(9),去除掉硅片上其余部分的下电极层(9);
步骤6:在步骤5操作的基础上,保留N个MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)的第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)、第四结构梁(14)和质量块(5)上面的绝缘层(15),去除掉硅片上其余部分的绝缘层(15);
步骤7:通过溅射工艺,在每个MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)的每根结构梁的PZT压电材料层(10)的上表面分别制备第一上电极层(7)和第二上电极层(8);在第二上电极层(8)上加工焊盘;
步骤8:在N个MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)的质量块(5)上的绝缘层(15)的上表面,利用电镀工艺分别制备一个线圈(4);
步骤9:保留硅片上的边框(1)、N个MEMS压电-电磁复合式俘能单元(11)的第一结构梁(6)、第二结构梁(12)、第三结构梁(13)、第四结构梁(14)和质量块(5)的部分,去除掉硅片的其它部分,并在边框(1)上加工焊盘;
步骤10:把经过步骤9处理后得到的结构固定于管壳(20)内,并使质量块(5)与管壳(20)的底面不接触;
步骤11:将N块磁铁(3)粘附于盖板(2)的下表面,且位于N个线圈(4)的正上方的位置,磁铁(3)和线圈(4)不接触;
步骤12:将盖板(2)固定于管壳(20)的上方,并使盖板(2)的下表面粘附的N块磁铁(3)分别处于N个线圈(4)的正上方,至此得到所述基于MEMS技术的压电-电磁复合式宽频俘能器。
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