具体实施方式
下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。
图1是本发明具体实施方式1提供的超介质吸波材料单元示意图。
如图所示,本发明实施例的超介质吸波材料包括:1、金属紧密S型亚波长谐振结构,2、环氧树脂PCB基板,3、覆铜面;其坐标E是电场矢量方向,K是波矢量方向,H是磁场矢量方向。
本发明实施例采用电路板刻蚀技术,在厚度t=0.25mm~1.6mm的环氧树脂PCB基板上一面刻蚀出紧密S型结构单元阵列,另一覆铜面保持不动,即制作成为基于紧密S型结构的超宽入射角超介质吸波材料。该吸波材料的单元尺寸a=0.6mm~5mm,谐振单元(即基本结构单元)的单元尺寸b=0.5mm~2.5mm,单元绕数n=5绕~20绕,绕线宽度d=0.05mm~0.4mm,绕线间隔c=0.05mm~0.4mm,绕线厚度为0.017mm~0.035mm。相邻两个谐振单元之间的中心间距为0.6mm~5mm。
本发明实施例的吸波材料利用紧密S型结构来增加谐振结构的电感,在吸波材料尺寸一定的情况下使谐振频率下降,达到亚波长结构,进而增加大入射角时的吸波率,降低对入射角的敏感度。
图2是本发明实施例2提供的单元绕数为5绕的超介质吸波材料在不同入射角下的吸波率示意图,其中图(a)为TE波入射,(b)为TM波入射。
所谓TE(TransverseElectric)波,是指入射波的电场矢量E与入射面垂直,入射波的磁场H与入射面平行,也被成为正交极化波或水平极化波;TM(TransverseMagnetic)波,入射波的电场矢量E与入射面平行,入射波的磁场H垂直于入射面,也被成为平行极化波或垂直极化波。
本发明实施例中,采用Ro4003基板,其介电常数ε=3.55,损耗角正切tanδ=0.0027。在厚度为0.8mm的基板上刻蚀出单元绕数为5绕的紧密S型单元结构,其线宽为0.2mm,厚度为0.017mm,绕线间隔为0.4mm,相邻结构单元的中心间距为3.4mm。
选取以上参数的吸波材料在不同入射角下的吸波率曲线如附图2所示。由图2(a)可以看出,在TE波入射角从0°改变为60°时,本发明实施例吸波率可以达到96%以上,即使入射角增大为80°时,吸波率仍然可以达到61%,并且工作频段在TE波入射角改变时基本没有偏移现象。由图2(b)可以看出,在TM波入射角从0°改变为60°时,本发明实施例吸波率同样可以达到96%以上,即使入射角增大为80°,吸波率仍有67%。由图2可以得到上述吸波材料的工作波长与其基本结构单元的比值为λ/a=17.3。
由于相邻谐振单元在磁场方向同向震荡,而在电场方向反向震荡。当入射波垂直入射时候,相邻两个谐振单元之间接收的入射波没有相位差;而当入射波非垂直入射时,在相邻的谐振单元之间会产生相移,进而导致在大入射角时吸波率下降。
根据谐振频率表达式本发明实施例使用紧密S型结构来增加铜线长度,在吸波材料尺寸不变的情况下增大电感L,进而减小谐振频率f,增加入射波谐振波长,从而减小相邻谐振结构单元间入射波的相位差,最后增大吸波材料在大入射角时的吸波率。
图3是单元绕数为7绕的超介质吸波材料在不同入射角下的吸波率示意图,其中图(a)为TE波入射,(b)为TM波入射。
同样采用电路板刻蚀技术,选取Ro4003板材,其具体参数与实施例二相同,此处不再赘述。在厚度为0.8mm的基板上刻蚀出单元绕数为7绕的紧密S型结构单元,其线宽为0.1mm,厚度为0.017mm,绕线间隔为0.2mm,相邻谐振单元的中心间距为2.4mm。
上述参数下的吸波材料在不同入射角下的吸波率曲线如附图3所示。由图3(a)可以看出,在TE波入射角从0°改变为60°时,本发明实施例吸波率可以达到97%以上,即使入射角增大为80°,吸波率仍然可以达到63%,并且工作频段在TE波入射角改变时基本没有偏移现象。由图3(b)可以看出,在TM波入射角从0°改变为60°时,本发明实施例吸波率可以达到92%以上,即使入射角增大为80°,吸波率仍然可以达到68%。由图2可以得到上述吸波材料的工作波长与其基本结构单元的比值λ/a=17.7。
图4是单元绕数为10绕的超介质吸波材料在不同入射角下的吸波率示意图,其中图(a)为TE波入射,(b)为TM波入射。
同样采用电路板刻蚀技术,选取Ro4003板材,其具体参数与实施例二相同。在厚度为0.8mm的基板上刻蚀出单元绕数为10绕的紧密S型单元结构,其线宽为0.05mm,厚度为0.017mm,绕线间隔为0.11mm,相邻谐振单元的中心间距为1.85mm,制得的样品在不同入射角下的吸波率曲线如附图4所示。
由图4(a)可以看出,在TE波入射角从0°改变为60°时,本发明吸波率仍然可以达到95%以上,即使入射角增大为80°,吸波率仍然可以达到58%,并且工作频段在TE波入射角改变时基本没有偏移现象。由图4(b)可以看出,在TM波入射角从0°改变为60°时,本发明吸波率仍然可以达到96%以上,即使入射角增大为80°,吸波率仍然可以达到78%。图4(a)中选用的吸波材料的工作波长与其基本结构单元的比值为λ/a=19.2。
图5是单元绕数为12绕的超介质吸波材料在不同入射角下的吸波率示意图,其中图(a)为TE波入射,(b)为TM波入射。
同样采用电路板刻蚀技术,选取Ro4003板材,其具体参数与实施例二相同。在厚度为0.8mm的基板上刻蚀出出单元绕数为12绕的紧密S型单元结构,其线宽为0.08mm,厚度为0.017mm,绕线间隔为0.05mm,相邻结构单元的中心间距为1.84mm,制得样品,其在不同入射角下的吸波率曲线如附图5所示。
由图5(a)可以看出,在TE波入射角从0°改变为60°时,本发明吸波率仍然可以达到97%以上,即使入射角增大为80°,吸波率仍然可以达到65%,并且工作频段在TE波入射角改变时基本没有偏移现象。由图5(b)可以看出,在TM波入射角从0°改变为60°时,本发明吸波率仍然可以达到94%以上,即使入射角增大为80°,吸波率仍然可以达到74%。从图5(a)可以得到上述吸波材料的工作波长与其谐振单元的比值λ/a=16.7。
本发明实施例的吸波材料在入射角增大到60°的情况下,对入射波的吸波率可以达到95%以上,入射角在80°的情况下仍然可以达到60%左右的吸波率,而且当入射角发生改变时基本没有偏移现象,性能稳定,同时该材料制备方法简单易行,具有很高的推广性。