CN103152885A - 常压连续脱硫系统电磁加热装置 - Google Patents

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胡康福
王志祥
胡晓林
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Abstract

本发明提供的常压连续脱硫系统电磁加热装置，属于废旧橡胶再生脱硫设备技术领域，主要解决现有技术使用导热油加热结构形式时维修困难及使用不分段电磁加热的结构形式，控制装置容易过载损坏及温度控制精度较低的问题；包括高频电源控制柜及电磁线（5），其特点是：所述高频电源控制柜包括若干高频电源控制装置（6），所述高频电源控制装置（6）包括微处理器和外壳（1），其中：微处理器包括运算模块（2）和控制模块（3）；运算模块（2）加装冷凝液散热器（4）；所述电磁线（5）分段缠绕在搅拌输送装置的外壳上；本发明散热性较好，抗干扰能力强，性能稳定。

Description

常压连续脱硫系统电磁加热装置
技术领域
本发明属于废旧橡胶再生脱硫设备技术领域，具体涉及常压连续脱硫系统电磁加热装置。
背景技术
废旧橡胶再生的一个关键环节是对橡胶粉进行脱硫，目前用于双绞笼常压连续脱硫装置的加热使用的是导热油加热结构，存在如下问题：
加热装置使用导热油加热结构形式时，管道结构复杂，维修困难，接口多，易渗漏，易着火；分层温度难控制，精度较低，且温度难提高，无法满足脱硫工艺需求；预热时间长、耗电高，无法适应实际生产中的开、停机需求，无法达到国家能耗指标。
发明内容
本发明所要解决的问题是现有技术使用导热油加热结构形式时，管道结构复杂，维修困难，接口多，易渗漏，易着火；分层温度难控制，精度低，耗能高；或使用不分段电磁加热的结构形式，控制装置容易过载损坏及温度控制精度较低的问题，提供一种常压连续脱硫系统电磁加热装置。
本发明为解决上述技术问题而采取的技术方案是：
常压连续脱硫系统电磁加热装置，包括高频电源控制柜及电磁线，其特征是：所述高频电源控制柜包括若干高频电源控制装置；所述高频电源控制装置包括微处理器和外壳，其中：微处理器包括运算模块和控制模块；所述运算模块加装冷凝液散热器；所述电磁线分段缠绕在搅拌输送装置的外壳上且每段电磁线与高频电源控制装置连接。
所述外壳材质为镁铝合金。
本发明与现有技术相比，具有以下有益效果：
1、由于本发明采用冷凝液散热器，无需耗电，散热效率较高；
2、由于本发明采用分段缠绕电磁线且分段加热，每一段独立供电，使高频电源控制装置发热量减少，运算模块能够长期稳定工作，不易损坏；同时温度控制精确；节约能源。
3、由于本发明的高频电源控制装置的外壳采用镁铝合金材料，有效减少了各个控制装置之间的电磁干扰，使其占用空间较小，结构紧凑。
附图说明
图1为本发明的结构示意图；
图2为本发明的高频电源控制装置示意图。
图中：1—外壳；2—运算模块；3—控制模块；4—冷凝液散热器；5—电磁线；6—高频电源控制装置。
具体实施方式
如图1和图2所示，常压连续脱硫系统电磁加热装置，包括高频电源控制柜及电磁线5，其特点是：所述高频电源控制柜包括若干高频电源控制装置6；所述高频电源控制装置6包括微处理器和外壳1，其中：微处理器包括运算模块2和控制模块3；所述运算模块2加装冷凝液散热器4；所述电磁线5分段缠绕在搅拌输送装置的外壳上且每段电磁线与高频电源控制装置6连接。
所述外壳1材质为镁铝合金。
工作过程及原理：
本发明工作过程为，分段的电磁线分别由独立的一组高频电源控制装置6进行供电，即分段加热搅拌输送装置；其加热过程是:由微处理器控制产生的高频电源向分段的电磁线供电产生热量。由温度传感器向控制模块反馈温度信息，运算模块及控制模块即微处理器控制高频电源的通断。其中冷凝液散热器4中的冷凝液将运算模块上的热量带出与空气交换后冷凝成液态，自动回流至运算模块端，不断自动循环，使该模块温度保持在合理的范围；镁铝合金的外壳使高频电源控制装置之间的电磁干扰降低至合理范围，使之能够长期稳定工作。

Claims (4)

1.常压连续脱硫系统电磁加热装置，包括高频电源控制柜及电磁线（5），其特征是：所述高频电源控制柜包括若干高频电源控制装置（6）；所述高频电源控制装置（6）包括微处理器和外壳（1），其中：微处理器包括运算模块（2）和控制模块（3）。
2.依据权利要求1常压连续脱硫系统电磁加热装置，其特征是：所述运算模块（2）加装冷凝液散热器（4）。
3.依据权利要求1常压连续脱硫系统电磁加热装置，其特征是：所述电磁线（5）分段缠绕在搅拌输送装置的外壳上且每段电磁线（5）与高频电源控制装置（6）连接。
4.依据权利要求1常压连续脱硫系统电磁加热装置，其特征是：所述外壳（1）材质为镁铝合金。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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