CN103114006A - 除油污香皂 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了除油污香皂,由下列重量百分比的成分混合组成:鼠李糖2%;天然油脂3%;甘油0.3%;山梨醇0.2%;芦荟粉0.3%;乙二醇丁醚9%;环氯丙烷11%;烷基氨基乙酸盐0.6%;皂基余量;本发明配方合理、成本低廉,杀菌去污效果明显、且对皮肤无刺激性。
Description
技术领域
本发明涉一种香皂,尤其涉及一种除油污香皂。
背景技术
目前香皂是公共场所洗涤用品的首选,但现有的香皂普遍存在低温洗涤去污力不强,存在对皮肤的刺激性等缺点。
发明内容
针对现有技术存在的不足,本发明所要解决的技术问题是,提供一种成本低廉、杀菌去污效果好、且对皮肤无刺激作用的香皂。
为解决上述技术问题,本发明所采取的技术方案是:一种香皂,由下列体积比的成分混合组成:
鼠李糖 1%~2%
天然油脂 2%~4%
甘油 0.3%~0.4%
山梨醇 0.2%~0.3%
芦荟粉 0.2%~0.3%
乙二醇丁醚 8%~10%
环氯丙烷 10%~12%
烷基氨基乙酸盐 0.5%~0.7%
皂基 余量。
上述的除油污香皂,由下列体积比的成分混合组成:
鼠李糖 2%
天然油脂 3%
甘油 0.3%
山梨醇 0.2%
芦荟粉 0.3%
乙二醇丁醚 9%
环氯丙烷 11%
烷基氨基乙酸盐 0.6%
皂基 余量。
本发明除油污香皂的优点是:本发明配方合理、成本低廉,杀菌去污效果明显、且对皮肤无刺激性。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明做进一步详细说明;
本发明除油污香皂,由下列体积比的成分混合组成:
鼠李糖 2%
天然油脂 3%
甘油 0.3%
山梨醇 0.2%
芦荟粉 0.3%
乙二醇丁醚 9%
环氯丙烷 11%
烷基氨基乙酸盐 0.6%
皂基 余量。
当然,上述说明并非是对本发明的限制,本发明也并不限于上述举例,本技术领域的普通技术人员,在本发明的实质范围内,作出的变化、改型、添加或替换,都应属于本发明的保护范围。
Claims (2)
1.一种除油污香皂,其特征在于:由下列体积比的成分混合组成:
鼠李糖 1%~2%
天然油脂 2%~4%
甘油 0.3%~0.4%
山梨醇 0.2%~0.3%
芦荟粉 0.2%~0.3%
乙二醇丁醚 8%~10%
环氯丙烷 10%~12%
烷基氨基乙酸盐 0.5%~0.7%
皂基 余量。
2. 根据权利要求1所述的除油污香皂,其特征是:由下列体积比的成分混合组成:
鼠李糖 2%
天然油脂 3%
甘油 0.3%
山梨醇 0.2%
芦荟粉 0.3%
乙二醇丁醚 9%
环氯丙烷 11%
烷基氨基乙酸盐 0.6%
皂基 余量。
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CN 201210459631 CN103114006A (zh) | 2012-11-15 | 2012-11-15 | 除油污香皂 |
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CN 201210459631 CN103114006A (zh) | 2012-11-15 | 2012-11-15 | 除油污香皂 |
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CN103114006A true CN103114006A (zh) | 2013-05-22 |
Family
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CN 201210459631 Pending CN103114006A (zh) | 2012-11-15 | 2012-11-15 | 除油污香皂 |
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CN (1) | CN103114006A (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017192111A1 (en) * | 2016-05-03 | 2017-11-09 | Bioarge Bitiksel Kozmetik Arastirma Gelistirme Muhendislik Ltd. Sti. | Natural soap composition with controlled zeta potential and manufacturing process |
-
2012
- 2012-11-15 CN CN 201210459631 patent/CN103114006A/zh active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2017192111A1 (en) * | 2016-05-03 | 2017-11-09 | Bioarge Bitiksel Kozmetik Arastirma Gelistirme Muhendislik Ltd. Sti. | Natural soap composition with controlled zeta potential and manufacturing process |
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Legal Events
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20130522 |