CN103025188B - 具有抗拉构件的仿形流体填充室的制造方法 - Google Patents

Abstract

流体填充室可以包括上阻挡物部分、下阻挡物部分和抗拉构件。抗拉构件的上抗拉层可以被固定到上阻挡物部分，且抗拉构件的下抗拉层可以被固定到下阻挡物部分。上阻挡物部分和下阻挡物部分可以具有第一区和第二区。第一区可以是延伸到室中的凹进部分，且第二区可以是从室向外延伸的突出部分。第一区的至少一部分可以不与上阻挡物部分和下阻挡物部分结合。因此，可以改变室的一种或多种性质，比如柔性、硬度、刚度、拉伸响应、压缩性或力衰减性能。

Description

具有抗拉构件的仿形流体填充室的制造方法

技术领域

本申请涉及一种制造流体填充室的方法。

背景技术

鞋类物品通常包括两个主要的元件，即鞋面和鞋底结构。鞋面由被缝合或胶着地结合在一起以形成在鞋类内部上的用于舒适地和固定地接收脚的空腔的多种材料元件(例如织物、泡沫、皮革和合成皮革)形成。穿过材料元件的踝开口提供空腔的入口，由此帮助脚进入空腔和从空腔中移除。此外，鞋带被利用以修改空腔的尺寸以及将脚固定在空腔内。

鞋底结构被定位为毗邻于鞋面的下部分并且通常被定位在脚和地面之间。在包括运动鞋类的许多鞋类物品中，鞋底结构通常结合有鞋内底、鞋底夹层和鞋外底。可以被定位在空腔内并且毗邻于空腔下表面的鞋内底是增强鞋类舒适性的薄的可压缩构件。可以被固定于鞋面的下表面并且从鞋面向下延伸的鞋底夹层形成鞋底结构的中间层。除减弱地面反作用力(即向脚提供缓冲)之外，鞋底夹层可以例如限制脚运动或赋予稳定性。可以被固定于鞋底夹层的下表面的鞋外底形成鞋类的与地面接触的部分并且通常由包括用于改进牵引力的纹理的耐久且耐磨的材料形成。

通常，鞋底夹层主要地由遍及鞋类长度和宽度延伸的发泡聚合物材料形成，例如聚氨酯或乙烯醋酸乙烯酯。在某些鞋类物品中，鞋底夹层可以包括增强鞋类的舒适性或性能的多种另外的鞋类元件，包括板、调节器、流体填充室、持久元件或运动控制构件。在某些配置中，这些另外的鞋类元件中的任何一个可以例如被定位在鞋底夹层与鞋面和鞋外底中的任一个之间，内嵌在鞋底夹层内，或被鞋底夹层的发泡聚合物材料包封。虽然许多鞋底夹层主要由发泡聚合物材料形成，但是流体填充室或其他的非泡沫结构可以形成某些鞋底夹层构造的大部分。

多种技术可以被用于形成鞋类物品或其他产品的流体填充室，包括例如双膜技术、热形成技术和吹塑技术。在双膜技术中，两个单独的聚合物片材被在特定的位置结合在一起。热形成技术相似于双膜技术，在于两个聚合物片材被结合在一起，而且还包括利用被加热的模具形成或以其他方式成形聚合物片材。在吹塑技术中，由熔融的或以其他方式软化的聚合物材料形成的型坯被放置在具有空腔的模具内，该模具具有期望的室构造。压缩空气诱导聚合物材料以符合空腔的表面。然后聚合物材料冷却和保持空腔的形状，由此形成室。

在上文讨论的技术中的每一个以后，室被加压。即，加压流体被注射入室中并且然后被密封在室内。一种加压的方法包括在聚合物片材或型坯的残留部分中形成充气导管。为了加压室，流体被注射经过充气导管，然后充气导管被密封。然后，包括充气导管的聚合物片材或型坯的残留部分被修整或以其他方式除去以实质上完成室的制造。

发明内容

下文公开了制造可以被结合入鞋类物品和其他产品中的流体填充室的各种方法。一个示例性的方法包括定位、按压、接合和加压的步骤。定位的步骤包括在第一聚合物片材和第二聚合物片材之间定位抗拉构件，抗拉构件具有第一表面和相对的第二表面。按压的步骤包括抵住第一层按压第一聚合物片材且抵住第二层按压第二聚合物片材，以在第一聚合物片材中形成多个凹进部分和多个突出部分。接合的步骤包括接合第一聚合物片材和第二聚合物片材，以形成周边结合部。加压的步骤包括加压阻挡物(barrier)，以将连接构件置于受拉状态。

另一个示例性的方法包括定位、压缩、接合和加压的步骤。定位的步骤包括在第一聚合物片材和第二聚合物片材之间定位抗拉构件。抗拉构件具有第一层、第二层和至少一个连接构件。压缩的步骤包括抵住第一层压缩第一聚合物片材，第一聚合物片材的多个受较多压缩的区被压缩到第一压力程度，且第一聚合物片材的多个受较少压缩的区被压缩到第二压力程度。第一压力程度大于第二压力程度。接合的步骤包括接合第一聚合物片材和第二聚合物片材，以形成周边结合部。加压的步骤包括加压阻挡物，以将连接构件置于受拉状态。

另一个示例性的方法包括定位、放置、压缩和接合的步骤。定位的步骤包括在第一模具部分和第二模具部分之间定位第一聚合物片材和第二聚合物片材。第一模具部分和第二模具部分中的至少一个具有多个凹面区(concave area)和多个凸面区(convex area)两者。放置的步骤包括在第一聚合物片材和第二聚合物片材之间放置抗拉构件。抗拉构件具有第一层、第二层和至少一个连接构件。压缩的步骤包括在第一模具部分和第二模具部分之间压缩第一聚合物片材、抗拉构件及第二聚合物片材，以在第一聚合物片材中形成多个结合区且在第一聚合物片材中形成多个未结合区。接合的步骤包括接合第一聚合物片材和第二聚合物片材，以形成周边结合部。

又一示例性方法包括提供、定位、压缩和结合的步骤。提供的步骤包括提供具有第一模具部分和第二模具部分的模具。第一模具部分和第二模具部分中的每一个具有多个突出部分和多个凹进部分两者。第一模具部分的突出部分被相对第二模具部分的凹进部分定位，且第一模具部分的凹进部分被相对第二模具部分的突出部分定位。定位的步骤包括在第一模具部分和第二模具部分之间定位第一聚合物片材、第二聚合物片材和抗拉构件。第一聚合物片材毗邻于第一模具部分放置。第二聚合物片材毗邻于第二模具部分放置。抗拉构件放置在第一聚合物片材和第二聚合物片材之间。压缩的步骤包括在第一模具部分和第二模具部分之间压缩第一聚合物片材、第二聚合物片材和抗拉构件，以(a)使第一聚合物片材结合到抗拉构件且(b)使第二聚合物片材结合到抗拉构件。结合的步骤包括围绕抗拉构件的周边的至少一部分使第一聚合物片材结合到第二聚合物片材。

本发明有新颖性特征的方面的优点和特征在所附权利要求中被具体地指出。然而，为了获得对新颖性优点和特征的进一步理解，可以参照下文描述并图示了与本发明相关的各种构造和概念的描述性内容和附图。

附图说明

当结合附图阅读时，上文的概述和下文的详细描述将被更好地理解。

图1是结合流体填充室的鞋类物品的外侧面正视图。

图2是鞋类物品的内侧面正视图。

图3是室的透视图。

图4是室的分解透视图。

图5是室的俯视平面图。

图6是室的仰视平面图。

图7是室的外侧面正视图。

图8是室的内侧面正视图。

图9A-9C是流体填充室的横截面图，如图5中的剖面线9A-9A至9C-9C所界定的。

图10是在用于制造室的第一个工艺中可以利用的第一模具的透视图。

图11A-11C是描绘在用于制造室的第一个工艺中的步骤的第一模具的侧面正视图。

图12A-12C是描绘在用于制造室的第一个工艺中的步骤的第一模具的图示剖视图，如图11A-11C中的剖面线12A-12A至12C-12C所定义的。

图13是在用于制造室的第二个工艺中可以利用的第二模具的透视图。

图14A-14D是描绘在用于制造室的第二个工艺中的步骤的第二模具的侧面正视图。

图15A-15D是描绘在用于制造室的第二个工艺中的步骤的第二模具的图示剖视图，如图14A-14D中的剖面线15A-15A至15D-15D所定义的。

图16A-16D是相应于图5且描绘室的其他构造的俯视平面图。

图17A-17D是相应于图9B且描绘室的其他构造的剖视图。

图18A-18B是相应于图9B且描绘室的其他构造的剖视图。

图19A-19C是相应于图5且描绘室的其他构造的俯视平面图。

图20A-20C是相应于图5且描绘室的其他构造的俯视平面图。

图21是相应于图12C描绘第一模具的其他构造的图示剖视图。

图22A-22E是相应于图12A且描绘室的其他构造的图示剖视图。

图23A-23C是结合流体填充室的其它物品的透视图。

具体实施方式

下文的讨论和附图公开了流体填充室的各种构造和用于制造室的方法。虽然室被参照具有适合于跑步的构造的鞋类公开，但是与室相关联的概念可以被应用于宽范围的运动鞋类类型，包括例如篮球鞋、交叉训练鞋、足球鞋、高尔夫球鞋、徒步旅行鞋和靴子、滑雪和滑雪板靴、英式足球鞋、网球鞋和走步鞋。与室相关联的概念还可以用于通常被认为是非运动的鞋类类型，包括礼服用鞋、拖鞋和凉鞋。除鞋类之外，室可以被结合入其他类型的衣服和运动装备中，包括用于诸如足球和曲棍球运动的头盔、手套和保护性衬垫。相似的室还可以被结合入在家庭用品和工业产品中利用的缓冲物和其他可压缩的结构中。因此，结合有本文公开的概念的室可以用于多种产品。

一般的鞋类结构

鞋类物品10在图1和2中被描绘为包括鞋面20和鞋底结构30。为了参照的目的，鞋类10可以被分为一般区域：鞋前部区11、鞋中部区12和鞋跟区13，如图1和2中所示的。鞋类10还包括外侧面14和内侧面15。鞋前部区11大体上包括鞋类10的相应于脚趾以及将跖骨连接于趾骨的关节的部分。鞋中部区12大体上包括鞋类10的相应于脚的弧形区域的部分。鞋跟区13大体上包括鞋类10的相应于脚的后部部分，包括跟骨的部分。外侧面14和内侧面15延伸经过区11-13中的每个并且相应于鞋类10的相反的侧面。区11-13和侧面14-15不意图区别鞋类10的精确区域。而是，区11-13和侧面14-15意图代表鞋类10的一般区域以辅助以下的讨论。除鞋类10之外，区11-13和侧面14-15还可以关于其各自的元件例如鞋面20和鞋底结构30以及关于脚本身被讨论。

鞋面20被描绘为具有结合有被缝合或胶着地结合在一起以形成用于固定地和舒适地接收脚的内部空腔的多种材料元件(例如织物、泡沫、皮革和合成皮革)的实质上常规的构造。材料元件可以被选择并且相对于鞋面20定位以选择性地赋予例如耐久性、气透性、耐磨性、柔性和舒适性的性质。在鞋跟区13中的踝开口21提供内部空腔的入口。此外，鞋面20可以包括鞋带22，鞋带22被以常规的方式利用以修改内部空腔的尺寸，由此将脚固定在内部空腔内并且帮助脚进入内部空腔和从内部空腔的移除。鞋带22可以延伸穿过鞋面20中的孔，并且鞋面20的舌状部分可以在内部空腔和鞋带22之间延伸。考虑到本申请的各种方面主要地涉及鞋底结构30，鞋面20可以呈现上文讨论的一般的构造或实际上任何其他的常规或非常规鞋面的一般构造。据此，鞋面20的总体结构可以显著地变化。

鞋底结构30被固定于鞋面20并且具有在鞋面20和地面之间延伸的构造。因此，实际上，鞋底结构30被定位为在脚和地面之间延伸。除减弱地面反作用力(即向脚提供缓冲)之外，鞋底结构30还可以提供牵引力，赋予稳定性以及限制各种脚运动，例如内旋。

鞋底结构30的主要元件是鞋底夹层31和鞋外底32。鞋底夹层31可以由封装有流体填充室33的聚合物泡沫材料比如聚氨酯树脂或乙烯醋酸乙烯酯(ethylvinylacetate)形成。除聚合物泡沫材料和室33之外，鞋底夹层31还可以结合有增强鞋类10的舒适性、性能或地面反作用力衰减性质的一个或多个另外的鞋类元件，包括板、调节器、持久元件或运动控制构件。可以在鞋类10的某些构造中不存在的鞋外底32被固定于鞋底夹层31的下表面并且可以由提供用于接合地面的耐久且耐磨的表面的橡胶材料形成。此外，鞋外底32还可以具有纹理以增强在鞋类10和地面之间的牵引力(即摩擦力)性质。鞋底结构30还可以结合有被定位在鞋面20中的空腔内并且毗邻于脚的脚底(即，下)表面以增强鞋类10的舒适性的鞋内底或鞋垫。

室构造

图3-9C中分别地描绘了在适合于鞋类应用的初始构造中的室33。室33具有基本上平的构造，且当结合到鞋类10中时，室33相应于鞋底夹层31的鞋跟区13。尽管鞋底夹层31的聚合物泡沫材料被描绘成形成鞋底夹层31的侧壁，室33可以暴露在侧面14-15中的任意一个或两者上，以在鞋类10的某些构造中形成侧壁的一部分。当脚被定位在鞋面20内时，室33在脚的足后跟区的下方延伸，以在各种步行活动比如跑和走期间，衰减当鞋底结构30在脚和地面之间压缩时产生的地面反作用力。在其他的构造中，室33可以具有可选择的范围，比如在脚的足前区的下方延伸或在实质上整个脚的下方延伸。

室33的主要元件是阻挡物40和抗拉构件50。阻挡物40(a)形成室33的外部，(b)定义接收加压流体和抗拉构件50两者的内部空腔，且(c)提供用于将加压流体束缚在室33内的耐久的密封阻挡物。阻挡物40的聚合物材料包括朝着鞋面20定向的上阻挡物部分41、朝着鞋外底32定向的下挡物部分42以及围绕室33的周边并且在阻挡物部分41和42之间延伸的侧壁阻挡物部分43。抗拉构件50被定位在内部空腔内且包括上抗拉层51、相对的下抗拉层52及在抗拉层51和52之间延伸的多个连接构件53。上抗拉层51被固定到上阻挡物部分41的内表面，且下抗拉层52被固定到下阻挡物部分42的内表面。尽管下文更加详细地讨论，但是可以利用粘性结合或热结合，以将抗拉构件50固定到阻挡物40。

可以利用各种工艺来制造室33，工艺中的两个在下文中被更加详细地描述。通常，制造工艺包括(a)将形成阻挡物部分41-43的一双聚合物片材固定到抗拉构件50的两个相对侧面(即，抗拉层51和52)，且(b)形成周边结合部44，周边结合部44接合聚合物片材的周边且可以围绕侧壁阻挡物部分43延伸。然后，流体可以被注射入内部空腔中并且加压。加压流体将向外的力施加在阻挡物40上，其趋于分离阻挡物部分41和42。然而，抗拉构件50被固定到阻挡物部分41和42中的每一个，以在加压时维持室33的预期形状。更具体地，通过加压流体施加在阻挡物40上的向外的力，延伸经过内部空腔的连接构件53被受拉放置，从而防止阻挡物40向外延伸且造成室33维持预期的形状。反之周边结合部44接合聚合物片材以形成防止流体逃逸的密封部，由于流体的压力，抗拉构件50防止阻挡物40向外延伸或以其它方式扩张。即，抗拉构件50有效地限制室33的膨胀，以维持阻挡物部分41和42的预期形状。适当地配置的抗拉构件50可以具有任意范围的构造，包括公开在Dua的美国专利申请第12/123,612号、Rapaport等的美国专利申请第12/123,646号及Peyton等的美国专利申请第12/630,642号中的范围的构造。

而且，上阻挡物部分41和下阻挡物部分42两者被形成为包括第一区46和第二区48。如下文更加详细地讨论的，第一区46可以是延伸到室33的凹进区且第二区48可以是从室33向外延伸的突出区。通过形成阻挡物40以包括第一区46和第二区48，可以改变室33的一种或多种性质，比如室33的柔性、硬度、刚度、拉伸响应、压缩性或力衰减性能。第一区46和第二区48还可以增强室33的美观质量，比如室33的外观或感觉。此外，形成阻挡物40以包括第一区46和第二区48可以改变室33的缓冲性质的分布。

室33内的流体可以在零至三百五十千帕(即约五十一磅每平方英寸)或更多之间加压。除空气和氮气之外，流体还可以包括在Rudy的美国专利第4,340,626号中公开的气体中的任一种。在某些构造中，室33可以结合有阀或允许个人调整流体压力的其他结构。此外，室33可以被结合到类似于在Dojan等的美国专利第7,409,779中公开的流体系统的流体系统中，其根据例如跑步类型或穿用者的体重改变阻挡物40内的压力。

宽范围的聚合物材料可以被用于阻挡物40。在选择用于阻挡物40的材料时，可以考虑材料的工程性质(例如拉伸强度、伸展性质、疲劳特性、动态模量和损耗角正切)以及用于防止被阻挡物40包含的流体扩散的材料能力。当例如由热塑性氨基甲酸乙酯形成时，阻挡物40可以具有约1.0毫米的厚度，但是厚度可以在例如0.25至2.0毫米或更多的范围内。除热塑性氨基甲酸乙酯外，可适合于阻挡物40的聚合物材料的实例还包括聚氨酯、聚酯、聚酯型聚氨酯和聚醚型聚氨酯。阻挡物40还可以由包括热塑性聚氨酯和乙烯-乙烯醇共聚物的交替层的材料形成，如在Mitchell等的美国专利第5,713,141号和第5,952,065号中公开的。还可以利用基于该材料的变化形式，其中中心层由乙烯-乙烯醇共聚物形成，毗邻于中心层的层由热塑性聚氨酯形成，并且外层由热塑性聚氨酯和乙烯-乙烯醇共聚物的再磨研材料形成。另一种用于阻挡物40合适的材料是包括气体屏障材料和弹性材料的交替层的柔性微层膜，如在Bonk等的美国专利第6,082,025号和第6,127,026号中公开的。另外的合适的材料在Rudy的美国专利第4,183,156号和第4,219,945号中公开。其他合适的材料包括含有晶体材料的热塑性膜，如在Rudy的美国专利第4,936,029号和第5,042,176号中公开的，以及包含聚酯多元醇的聚氨酯，如在Bonk等的美国专利第6,013,340号、第6,203,868号、和第6,321,465号中公开的。

为了促进抗拉构件50和阻挡物40之间的结合，聚合物补充层可以被应用到抗拉层51和52中的每一个上。当被加热时，补充层软化、熔融或以其他方式开始改变状态，使得与阻挡物部分41和42的接触诱导来自阻挡物40和补充层中的每一个的材料混合或以其他方式彼此接合。因此，在冷却后，补充层与阻挡物40永久地接合，从而接合抗拉构件50与阻挡物40。在某些构造中，热塑性的线或条可以存在于抗拉层51和52内，以促进与阻挡物40的结合，如在Thomas等的美国专利第7,070,845号中公开的，或粘合剂可以被用于固定阻挡物40和抗拉构件50。

第一区和第二区构造

在制造工艺期间，能量(例如，以射频能量或热的形式)和压力可以改变抗拉构件50的结构，以给予轮廓。即，能量和压力可以改变连接构件53的有效长度。更具体地，能量、压力或两者可以(a)使连接构件53的一部分变形或(b)诱导来自阻挡物40或补充层的聚合物材料渗透抗拉构件50，从而有效地缩短连接构件53的长度。根据施加的能量和压力的程度，通过聚合物材料的变形和渗透两者，连接构件53可以被有效地缩短。

如图3-9C所描绘的，上阻挡物部分41和下阻挡物部分42两者被形成为包括在阻挡物部分41和42的方形区域中的多个第一区46。第一区46可以是延伸到室33中的凹进部分。因此，第一区46可以是上阻挡物部分41、下阻挡物部分42或两者的凹进区。上阻挡物部分41的第一区46的至少一部分可以被固定到上抗拉层51。同样，下阻挡物部分42的第一区46的至少一部分可以被固定到下抗拉层52。毗邻于第一区46或与第一区46对齐的连接构件53的部分可以具有比抗拉构件50的其它连接构件53短的有效长度，其可以归因于施加的能量、施加的压力或两者。此外，制造工艺期间施加在第一区46处的阻挡物40上的轮廓或形状(例如，通过模具)可以有助于第一区46的向内延伸。

类似地，上阻挡物部分41和下阻挡物部分42两者还被形成为包括多个第二区48。第二区48可以是从室33向外延伸的突出部分。因此，第二区48可以是上阻挡物部分41或下阻挡物部分42任一个的突出区。上阻挡物部分41的第二区48的部分可以没有被固定到上抗拉层51。同样，下阻挡物部分42的第二区48的部分可以没有被固定到下抗拉层52。换而言之，毗邻于第二区48或与第二区48对齐的抗拉构件50的部分可以不延伸到第二区48的部分。通过阻挡物40内的加压流体施加在阻挡物40上的向外的力可以造成第二区48的部分向外延伸到比固定到抗拉构件50的阻挡物40的区大的程度。此外，通过模具施加到第二区48处的阻挡物40的轮廓或形状可以有助于第二区48的向外延伸。

如图4-6和图9A-9C所描绘的，与下阻挡物部分42的第二区48相对地放置上阻挡物部分41的第一区46，且与下阻挡物部分42的第一区46相对地放置上阻挡物部分41的第二区48。即，与第二区48基本上相对地在室33上放置第一区46。

在某些构造中，第一区46可以是结合或以其它方式接合到抗拉构件50的阻挡物40的部分。因此，第一区46可以是上阻挡物部分41、下阻挡物部分42或两者的结合区。在这样的构造中，上阻挡物部分41的第一区46可以被固定到上抗拉层51，而下阻挡物部分42的第一区46可以被固定到下抗拉层52。

因此，在这样的构造中，第二区48可以是没有结合或没有以其它方式接合到抗拉构件50的阻挡物40的部分。因此，第二区48可以是上阻挡物部分41、下阻挡物部分42或两者的未结合区。在这样的构造中，上阻挡物部分41的第二区48可以被保留而没有固定到上抗拉层51，而下阻挡物部分42的第二区48可以被保留而没有固定到下抗拉层52。

在某些构造中，第一区46的部分可以在多个区域中被固定到上抗拉层51或被固定到下抗拉层52。在这样的构造中，多个区域的总面积(aggregate area)可以超过上抗拉层51、下抗拉层52或两者的整个面积的一半。在某些构造中，第一区46和第二区48的模式可以仅与上抗拉层51或下抗拉层52中任一个的部分对齐。在这样的构造中，第一区46的部分可以在多个区域中被固定到上抗拉层51或下抗拉层52，且多个区域的总面积可以超过与第一区46和第二区48的模式相关的抗拉层51或52的面积的一半。

在某些构造中，第一区46可以是阻挡物40的部分，在该部分中阻挡物40接触抗拉构件50。因此，第一区46可以是上阻挡物部分41、下阻挡物部分42或两者的接触区。在这样的构造中，上阻挡物部分41的第一区46可以紧密毗邻于上抗拉层51或直接接触上抗拉层51，而下阻挡物部分42的第一区46可以紧密毗邻于下抗拉层52或直接接触下抗拉层52。

此外，在这样的构造中，第二区48可以是阻挡物40的与抗拉构件50隔开的部分。因此，第二区48可以是上阻挡物部分41、下阻挡物部分42或两者的间隔区。在这样的构造中，上阻挡物部分41的第二区48可以不紧密毗邻于上抗拉层51或不直接接触上抗拉层51，或可以是以其它的方式与上抗拉层51隔开，而下阻挡物部分42的第二区48可以不紧密毗邻于下抗拉层52或不直接接触下抗拉层52，或可以以其它方式与下抗拉层52隔开。

如图9A-9C所描绘的，上阻挡物部分41的一个或多个区域可以具有第一区46和第二区48，第一区46和第二区48在延伸到室33中和从室33向外延伸之间正弦地交替。这种正弦变化可以在经过上阻挡物部分41的多个方向上延伸。换而言之，上阻挡物部分41的延伸到室33中的第一区46和上阻挡物部分41的从室33向外延伸的第二区48可以以类似于装蛋架材料的表面的方式延伸经过上阻挡物部分41的表面。同时，下阻挡物部分42的对齐区域的一个或多个区域可以具有与上阻挡物部分41的第一区46相对放置的第二区48，且还可以具有与上阻挡物部分41的第二区48相对放置的第一区46。反过来，下阻挡物部分42的第一区46和第二区48本身可以在延伸到室33中和从室33向外延伸之间正弦交替，且可以在经过下阻挡物部分42的多于一个的方向上正弦变化。因此，室33的各个区域可以具有波状的横截面构造。

如图3-6所描绘的，上阻挡物部分41的第一区46和第二区48具有棋盘形(tessellation)或规则重复模式的构造。更具体地，上阻挡物部分41的第一区46具有基本上八边形的构造，每一个在四个侧面上与其它的第一区46相邻且在其它四个侧面上与第二区48相邻。此外，第一区46形成其中上阻挡物部分41被结合到抗拉构件50的连续区域。同时，上阻挡物部分41的第二区48具有基本上方形的构造，每一个在四个侧面上与第一区46相邻。第一区46和第二区48中的每一个还可以具有组合以覆盖室30的表面的各种其它形状。例如，第一区46和第二区48可以具有圆形形状、椭圆形形状、伸长形状、三角形形状、五边形形状、梯形形状或任何其它的规则或不规则的形状。此外，第一区46和第二区48的形状可以经过下阻挡物部分41和上阻挡物部分42而变化。

基本上八边形的第一区46和基本上方形的第二区48以第一规则重复模式在上阻挡物部分41上规则交替。类似地，下阻挡物部分42的第一区46具有基本上八边形的构造且下阻挡物部分42的第二区48具有基本上方形的构造，且下阻挡物部分42的第一区46和第二区48以第二规则重复模式在下阻挡物部分42上规则交替。如图5-6所描绘的，第一规则重复模式是基于第一方格网的且与第一方格网对齐，且第二规则重复模式是基于第二方格网的且与第二方格网对齐。而且，由于第一区46与第二区48基本上相对地放置在室33上，所以第二规则重复模式具有基本上关于第一规则重复模式的180度偏移或相位差。

如图4和图9A-9C所描绘的，抗拉构件50是织物抗拉构件。在某些构造中，抗拉构件50具有包括上抗拉层51、相对的下抗拉层52及在抗拉层51和52之间延伸的多个连接构件53的间隔织物的构造。在这样的构造中，上抗拉层51、下抗拉层52和连接构件53可以被形成为包括织物元件。

第一制造工艺

可以利用多种制造工艺以形成室33。适合用于形成室33的一些制造工艺可以使用如图10所描绘的第一模具60。例如，热形成工艺可以利用第一模具60以形成室33。第一模具60具有上模具部分61和下模具部分62。上模具部分61和下模具部分62两者具有第一模具区66和第二模具区68。

现在将讨论适合用于使用第一模具60来形成室33的制造工艺，如图11A-12C所描绘的。通常，工艺包括(a)通过焊接或以其它方式接合上聚合物层和下聚合物层来形成室33的前体(precursor)，以限定内部空腔，以将抗拉构件50放置在内部空腔内，且以形成将抗拉构件50密封在内部空腔内的周边结合部44，(b)使室33的前体膨胀，及(c)通过利用第一模具区66对室33的前体施加至少第一程度的压缩和利用第二模具区68对室33的前体施加至少第二程度的压缩，从而分别在上阻挡物部分41、下阻挡物部分42或两者中形成第一区46和第二区48，来利用第一模具60形成室33。

首先，如上文一般讨论的，在形成第一区46和第二区48之前，且独立于利用第一模具60，形成室33的前体。用于形成室33的前体的合适工艺被公开在例如Rapaport的美国专利申请第12/123,646中。

一旦室33的前体已经被形成且膨胀，就用第一模具60来压缩室33的前体且在室33的前体上形成第一区46和第二区48。参照图10，第一模具60被描绘成包括上模具部分61和相对的下模具部分62。上模具部分61和下模具部分62两者具有定义多个第一模具区66和多个第二模具区68的表面。第一模具区66可以是从上模具部分61和下模具部分62向外延伸的突出部分，且第二模具区68可以是延伸到上模具部分61和下模具部分62的凹进部分。

上模具部分61的第一模具区66与下模具部分62的第二模具区68相对地放置，且上模具部分61的第二模具区68与下模具部分62的第一模具区66相对地放置。即，第一模具区66与第二模具区68基本上相对地放置在模具部分61和62上。

如图10-12C所描绘的，上模具部分61的一个或多个区域可以具有在从上模具部分61向外延伸和延伸到上模具部分61中之间正弦交替的第一模具区66和第二模具区68。这种正弦变化可以在经过上阻挡物部分41的多于一个的方向上延伸。换而言之，从上模具部分61向外延伸的第一模具区66和延伸到上模具部分61中的第二模具区68可以以类似于装蛋架材料的表面的方式延伸经过上模具部分41。同时，下模具部分62的一个或多个对齐区域可以具有相对上模具部分61的第一模具区66放置的第二模具区68，且还可以具有相对上模具部分61的第二模具区68放置的第一模具区66。

模具区61和62的表面可以被定义，使其在第一模具60被关闭时经过整个表面相互齐平地(flushly)邻接。即，在第一模具60被关闭时，第一模具区66和第二模具区68的表面在经过模具部分61和62的所有位置中可以接触且相互依靠。可选择地，第一模具区66和第二模具区68可以被定义，使得当第一模具60被关闭时，其在少于经过模具部分61和62的所有位置中齐平地相互邻接，或在经过模具部分61和62的一些或所有位置中仅部分齐平地相互邻接，或在经过模具部分61和62的一些或所有位置处不相互邻接。例如，第一模具区66和第二模具区68可以被配置，使得当模具部分61和62被放到一起时，第一模具区66和第二模具区68的中心区域之间的间隔大于第一模具区66和第二模具区域68的其它区域之间的间隔。作为可选择的实例，第一模具区66和第二模具区68可以被配置，使得当模具部分61和62被放到一起时，第一模具区66和第二模具区68的中心区域之间的间隔较小。

在利用第一模具60时，如图11A和图12A所描绘的，室33的前体首先被放置在上模具部分61和下模具部分62之间。更具体地，上阻挡物部分41被朝着上模具部分61定向，且下阻挡物部分42被朝着下模具部分62定向。

如图11B和图12B所描绘的，在室33的前体被放置之后，第一模具60关闭，使得室33的前体在上模具部分61和下模具部分62之间被压缩。模具区66和68的部分可以将不同程度的压缩施加到上阻挡物部分41和下阻挡物部分42。即，阻挡物部分41和42的区可以受到第一模具区66的部分的较多压缩，且阻挡物部分41和42的区可以受到第二模具区68的部分的较少压缩。

尽管由第一模具区66施加到阻挡物部分41和42的压缩程度可以不同于由第二模具区68施加到阻挡物部分41和42的压缩程度，但是由模具区66和68两者施加的压缩程度可以包括共同的压缩程度。模具区66和68可以被定义，以具有不同的形状或构造，以允许模具区66和68将不同程度的压缩施加到阻挡物部分41和42，这是因为模具区66和68被定义在模具部分61和62的表面中。换而言之，与由模具部分61和62施加的压缩相关的压缩的共同或整体的压缩程度可以被包括在由第一模具区66和第二模具区68两者施加的压缩程度中。因此，不同的压力程度可以由第一模具区66和第二模具区68两者施加到室33的前体上，包括共同或整体的压力程度。

在压缩室33的前体时，缝隙69可以在上阻挡物部分41和上模具部分61之间或在下阻挡物部分42和下模具部分42之间存在。例如，如图12B所描绘的，缝隙69存在于上阻挡物部分41和上模具部分61中的第二模具区68的部分之间。类似地，缝隙69存在于下阻挡物部分42和下模具部分62中的第二模具区68的部分之间。缝隙69的存在、尺寸或范围可以通过由第二模具区68施加到室33的前体的压缩程度来配置。例如，被包括在由第二模具区68施加的压缩程度中的由模具部分61和62施加的共同或整体的压缩程度可以配置缝隙69的存在、尺寸或范围。反过来，缝隙69的存在、尺寸或范围可以影响由第二模具区68形成的第二区48的存在、尺寸或范围。

第一模具60可以是层压装置。即，上模具部分61可以将上阻挡物部分41的部件固定到上抗拉层51。类似地，下模具部分62可以将下阻挡物部分42的部件固定到下抗拉层52。在被压缩时，可以通过第一模具60发出射频能量(RF能量，比如热)，以加热阻挡物部分41和42及抗拉构件50。更具体地，射频能量可以在上模具部分61和下模具部分62之间经过。在上模具部分61和下模具部分62之间经过的射频能量的量至少部分地取决于上模具部分61和下模具部分62之间的间距。考虑到在阻挡物部分41和42与第二模具区68之间的缝隙69，第一区46和第二区48可以被暴露到不同量的射频能量下。此外，如上文所讨论的，第一区46和第二区48可以被暴露到不同量的压力下。因此，阻挡物40和抗拉构件50之间的结合的存在、范围或特征可以不同于第一区46和第二区48之间的。

更具体地，压缩和加热可以诱导上阻挡物部分41的部分与上抗拉层51结合且还可以诱导下阻挡物部分42的部分与下抗拉层52结合。此外，由于模具区66和68的构造，压缩和射频能量的差可以有效地缩短某些连接构件53的长度。更具体地，压缩和加热可以(a)使连接构件53的部分变形或(b)诱导来自阻挡物部分41或42的部分的聚合物材料渗透抗拉构件50，从而有效地缩短在压缩和加热最大的区域中的连接构件53的长度。根据压缩和辐射的程度，聚合物材料的变形和渗透两者可以引起连接构件53的缩短。因此，在第一模具区66和第二模具区68处施加的压缩和辐射可以将第一区46和第二区48的构造有效地赋予抗拉构件50和室33。

在某些构造中，第一模具区66和第二模具区68可以将阻挡物40的不同部分压缩到不同的程度。上阻挡物部分41的受较多压缩的区的部分可以通过上模具部分61的第一模具区66被压缩到第一压力程度。同时，上阻挡物部分41的受较少压缩的区的部分可以通过上模具部分61的第二模具区68被压缩到第二压力程度，第一压力程度大于第二压力程度。类似地，下阻挡物部分42的受较多压缩的区的部分可以通过下模具部分62的第一模具区66被压缩到第三压力程度。同时，下阻挡物部分42的受较少压缩的区的部分可以通过下模具部分62的第二模具区68被压缩到第四压力程度，第三压力程度大于第四压力程度。反过来，由第一模具区66和第二模具区68施加在上阻挡物部分41上的压力程度的差异本身可以不同于由第一模具区66和第二模具区68施加在下阻挡物部分42上的压力程度的差异。

在某些构造中，第一模具区66和第二模具区68可以具有相对于模具部分61和62的不同范围，深入到模具部分61和62中或从模具部分61和62向外的任一种。第一模具区66的部分可以具有从模具部分61和62向外延伸的凸面构造。因此，第一模具区66可以是上模具部分61、下模具部分62或两者的凸面区。同时，在这样的构造中，第二模具区68的部分可以具有延伸到模具部分61和62中的凹面构造。因此，第二模具区68可以是上模具部分61、下模具部分62或两者的凹面区。

上模具部分61的第一模具区66和第二模具区68具有棋盘形或规则重复模式的构造。类似地，下模具部分62的第一模具区66和第二模具区68具有棋盘形或规则重复模式的构造。如图10所描绘的，第一模具区66和第二模具区68以第一规则重复模式在上模具部分61上规则交替。类似地，第一模具区66和第二模具区68以第二规则重复模式在下模具部分62上规则交替。在第一实例制造工艺中，第一规则重复模式是基于第一方格网的且与第一方格网对齐，且第二规则重复模式是基于第二方格网的且与第二方格网对齐。而且，由于第一模具区66与第二模具区68基本上相对地被放置在模具60上，所以第二规则重复模式具有基本上关于第一规则重复模式的180度偏移或相位差。

与第一模具区66对齐的上聚合物阻挡物41的至少一部分可以被固定到上抗拉层51，而与第二模具区68对齐的上聚合物阻挡物41的至少一部分可以未固定到上抗拉层51。类似地，与第一模具区66对齐的下聚合物阻挡物42的至少一部分可以被固定到下抗拉层52，而与第二模具区68对齐的下聚合物阻挡物42的至少一部分可以未固定到下抗拉层52。因此，在某些构型中，上阻挡物部分41的每一个受较多压缩的区的至少一部分可以被固定到上抗拉层51。类似地，下阻挡物部分42的每一个受较多压缩的区的至少一部分可以被固定到下抗拉层52。

在某些构造中，多个结合区可以通过第一模具60的压缩被形成在阻挡物部分41和42中。在这样的构造中，上阻挡物部分41的结合区中的每一个的至少一部分可以是延伸到上阻挡物部分41中的凹进部分。类似地，下阻挡物部分42的结合区中的每一个的至少一部分可以是延伸到下抗拉层52中的凹进部分。

在某些构造中，多个未结合区可以通过第一模具60的压缩被形成在阻挡物部分41和42中。在这样的构造中，上阻挡物部分41的未结合区中的每一个的至少一部分可以是从上阻挡物部分41向外延伸的突出部分。类似地，下阻挡物部分42的未结合区中的每一个的至少一部分可以是从下阻挡物部分42向外延伸的突出部分。

在某些构造中，第一模具区66可以是从模具部分61和62向外延伸的突出部分，且可以接触阻挡物部分41和42，以将延伸到室33中的凹进部分的构造赋予第一区46。同样，第二模具区68可以是延伸到模具部分61和62中的凹进部分，且可以毗邻于阻挡物部分41和42放置，以将从室33向外延伸的突出部分的构造赋予第二区48。

如图11C和图12C所描绘的，在压缩室33的前体后，第一模具60开打，已经在室33的阻挡物部分41和42中形成第一区46和第二区48。第一区46可以通过第一模具区66的压缩形成在阻挡物部分41和42的部分中。类似地，第二区48可以通过第二模具区68的压缩形成在阻挡物部分41和42的部分中。因此，室33可以通过在室33的前体中形成第一区46和第二区48而形成。

在如上所述的制造工艺中，在室33的前体中形成周边结合部，然后使室33的前体膨胀，然后通过压缩步骤在室33的前体中建立第一区46和第二区48以形成室33。作为选择，可以通过压缩步骤在上聚合物层和下聚合物层中建立第一区46和第二区48，然后可以形成周边结合部以定义室33，且然后可以使室33膨胀。作为另外的选择，可以在室33的前体中形成周边结合部，然后可以通过压缩步骤在室33的前体中建立第一区46和第二区48以形成室33，且然后可以使室33膨胀。换而言之，在各种实施方式中，如上所述的制造工艺中的步骤可以以任意的顺序进行。

第二制造工艺

适合用于形成室33的其它制造工艺可以使用如图13所描绘的第二模具160。例如，热形成工艺可以利用第二模具160以形成室33。第二模具160具有上模具部分161和下模具部分162。上模具部分161具有上脊部163。下模具部分162具有下脊部164和可移动插入物165。上模具部分161和可移动插入物165两者具有第一模具区166和第二模具区168。

现在将讨论适合用于使用第二模具160来形成室33的制造工艺，如图14A-15D所描绘的。通常，工艺包含利用第二模具160以(a)将抗拉构件50结合到聚合物层171和172中的每一个，(b)使聚合物层171和172成形，及(c)在聚合物层171和172之间形成周边结合部。

起初，室33的部件即抗拉构件50以及聚合物层171和172中的一个或多个被加热到促进部件之间结合的温度。形成阻挡物40的、用于抗拉构件50和聚合物层171和172的特定材料及其被加热到的特定温度可以是本领域中适合促进结合的任何材料和温度。各种辐射加热器、射频加热器或其它装置可以被用于加热室33的部件。在某些制造工艺中，第二模具160可以被加热，使得第二模具160和室33的部件之间的接触使部件的温度升高到促进结合的水平。

加热后，室33的部件被定位在模具部分161和162之间，如图14A和图15A所描绘的。为了正确地放置部件，可以利用梭状框架或其它装置。一旦被放置，模具部分161和162就朝向彼此平移并且开始闭合在部件上，使得(a)上模具部分161的上脊部163接触上聚合物层171，(b)下模具部分162的下脊部164接触下聚合物层172，且(c)聚合物层171和172开始围绕抗拉构件50弯曲以延伸到第二模具160内的空腔中。因此，部件相对于第二模具160被定位且初始地成型和定位已经发生。

通过模具部分161和162中的各种真空口，空气可以从围绕聚合物层171和172的区域被部分地排空。排空空气的目的是将聚合物层171和172拉动为与第二模具160的各种轮廓接触。这确保聚合物层171和172根据第二模具160的轮廓被合适地成形。注意到，聚合物层71和72可以伸展以围绕抗拉构件50延伸并且延伸到第二模具160中。与室33中的阻挡物40的厚度相比，聚合物层171和172可以呈现更大的厚度。在聚合物层171和172的最初厚度和阻挡物40的最终厚度之间的这种差异可能因为在热形成工艺的该阶段期间发生的伸展而发生。

为了提供用于将聚合物层171和172拉动为与第二模具160的各种轮廓接触的第二手段，在聚合物层171和172与邻近的抗拉构件50之间的区可以被加压。在本方法的准备阶段期间，注射针可以被定位在聚合物层171和172之间，并且注射针可以被定位为使得脊部163和164在第二模具160关闭时包围注射针。然后气体可以从注射针被喷出，使得聚合物层171和172接合脊部163和164，由此在聚合物层171和172之间形成充气导管。然后气体可以经过充气导管，从而进入且加压毗邻于抗拉构件50的区。与真空组合，内部压力确保聚合物层171和172接触第二模具160的各个部分。

随着第二模具160进一步关闭，脊部163和164使聚合物层171和172结合到一起，如图14B和15B所描绘的，从而形成周边结合部44。此外，被多个弹簧175支撑的可移动插入物165可以压下以将压力置于部件上，从而将聚合物层171和172结合到抗拉构件50。如上文讨论的，补充层或热塑性线可以被结合到抗拉构件50中，以促进抗拉构件50和聚合物层171和172之间的结合。由可移动插入物165施加在部件上的压力确保补充层或热塑性线与聚合物层171和172形成结合。

如图13-15D所描绘的，上模具部分161和可移动插入物165两者具有定义多个第一模具区146和多个第二模具区148的表面。第一模具区166可以是从上模具部分161和下模具部分162向外延伸的突出部分，且第二模具区168可以是延伸到上模具部分161和下模具部分162中的凹进部分。如上文关于第一模具60所讨论的，第一模具区166和第二模具区168可以给予不同量的射频能量、不同量的压力或两者。此外，弹簧175的使用可以给予第一模具区166和第二模具区168两者共同或整体的压力程度。反过来，在第一模具区166和第二模具区168处施加的压缩和辐射可以有效地将第一区46和第二区48的构造赋予抗拉构件50和室33。

当结合完成时，第二模具160被打开，并且聚合物层171和172的过量部分以及室33被移除并被允许冷却，如图14C和15C中描绘的。流体可以通过充气导管173被注射到室33中。此外，加压后，可以利用密封工艺，以密封毗邻于室33的充气导管173。然后移除聚合物层171和172的过量部分，从而完成室33的制造，如图14D和图15D所描绘的。作为选择，膨胀和移除过量材料的顺序是可以颠倒的。作为工艺中的最后步骤，可以测试室33且然后结合到鞋类10的鞋底夹层31中。

另外的室构造

图3-9C中分别描绘了在适合于鞋类应用的构造中的室33。室33可以具有各种也适合于鞋类应用的其它构造。如上所讨论的，且如图3-6所描绘的，第一区46可以具有基本上八边形的构造，且第二区48可以具有基本上方形的构造。此外，如上文关于第一模具60所讨论的，不同的压力程度可以由第一模具区66和第二模具区68两者施加到室33上，包括共同或整体的压力程度。

例如，如上文所讨论且如图5和图9B所描绘的，第一共同或整体的压力程度或第一共同或整体的压缩程度是由模具部分61和62施加的，以形成基本上八边形的第一区46和基本上方形的第二区48，且基本上八边形的第一区46形成上阻挡物部分41被结合到抗拉构件50的连续区域。在另外的构造中，其它的共同或整体的压力程度可以由模具部分61和62施加。换而言之，在第一区46和第二区48的形成中，第一模具60可以被压缩到不同的程度。反过来，模制期间，共同或整体的压力程度或共同或整体的压缩程度可以影响第一区46和第二区48的构造。例如，共同或整体的压力程度或者共同或整体的压缩程度的变化可以导致连续或连接的第一区46和不连续或不连接的第二区48的形成。

例如，在如图16A和图17A所描绘的另外的构造中，相应于第二、低的压缩程度，第一区46具有基本上方形的构造。同时，第二区48具有基本上方形的构造，且形成其中上阻挡物部分41未结合到抗拉构件50的连续区域。

在如图16B和17B所描绘的另外的又一构造中，且相应于在图16A和图17A所描绘的低压缩程度及图5和图9B所描绘的第一压缩程度之间的第三、中等的压缩程度，第一区46和第二区48具有基本上方形的构造。因为由此第三压缩程度形成，所以第一区46不形成如由第一压缩程度所形成的、其中上阻挡物部分51结合到抗拉构件50的连续区域。类似地，第二区48不形成如由第二压缩程度所形成的、其中上阻挡物部分51未结合到抗拉构件50的连续区域。相反，在交替经过上阻挡物部分41中，第一区46和第二区48被形成为具有基本上类似的空腔尺寸范围。

在如图16C和图17C所描绘的又一构造中，且相应于大于图5和图9B中所描绘的第三压缩程度的第四、中等的压缩程度，第一区46具有基本上八边形的构造，且形成其中上阻挡物部分41未结合到抗拉构件50的连续区域。同时，第二区48具有基本上方形的构造。与由第一压缩程度形成的第一区46和第二区48相比，由第四压缩程度形成的第一区46更小。因此，如由第四压缩程度所形成的、其中上阻挡物部分41未结合到抗拉构件50的连续区域具有经过上阻挡物部分41的更大范围。

在如图16D和17D所描绘的且相应于第五、高的压缩程度的又一构造中，第一区46具有基本上方形的构造，而没有形成第二区48。换而言之，在第五、高的压缩程度下，上阻挡物部分41基本上没有突出区、未结合区及与抗拉构件50隔开的区。

如图3-9C所描绘的，抗拉构件50包括上抗拉层51、下抗拉层52及连接构件53。在另外的构造中，抗拉构件50可以以其它的方式被配置。例如，抗拉构件50可以具有毗邻上阻挡物部分41的第一表面和毗邻下阻挡物部分42的相对的第二表面，且抗拉构件50可以在上阻挡物部分41和下阻挡物部分42之间延伸。可选择地，抗拉构件50可以具有在Peyton的美国专利申请第12/630,642号中公开的任意范围的构造，且可以延伸经过室33的内部空腔。此外，抗拉构件50或抗拉构件50的第一表面可以以第一方式被结合到、连接到或以其它方式固定到上阻挡物部分41，而抗拉构件50或相对第一表面的抗拉构件50的第二表面可以以第二方式被结合到、连接到或以其它方式固定到下阻挡物部分42。

如图3-9C所描绘的，室33具有基本上平的构造。在另外的构造中，上阻挡物部分41、下阻挡物部分42的任一个或两者可以被形成为具有除第一区46和第二区48的轮廓以外的轮廓。例如，在如图18A所描绘的另外的构造中，室33具有其中室33的周边区域被向内弯曲或朝彼此弯曲的轮廓，给予室33杯形或袋形的构造，比如鞋跟杯。

如图3-9C所描绘的，阻挡物部分41和42两者可以被形成为包括第一区46、第二区48或两者。在其它的构造中，第一区46、第二区48或两者可以选择性地被形成在上阻挡物部分41或下阻挡物部分42中的任一个上，且另一个阻挡物部分可以被形成以不包括第一区46、第二区48或两者。

可以以多种方式给予室33整体或其他的轮廓。例如，在如图18B所描绘的又一构造中，模制期间施加到室33的周边区域的压缩程度大于模制期间施加到室33的中心区域的压缩程度。换而言之，模制期间施加到室33的压缩程度在周边区域和中心区域之间增加。反过来，室33的周边区域中的第二区48具有比室33的中心大的向外范围，室33的中心基本上没有第二区48。换而言之，室33具有杯形或袋形的构造，比如鞋跟杯。因此，通过控制模制期间施加的经过室33的压缩程度，室33可以被给予任意范围的轮廓，包括杯形轮廓、锥形轮廓和弓形轮廓。给予室33整体或其他的轮廓或锥体的其它方式包括在Dua的美国专利申请第12/123,612号和Rapaport等的美国专利申请第12/123,646号中公开的给予轮廓或锥形的方式的范围。

如图3-6所描绘的，第一区46和第二区48以排列成第一方格网的第一规则重复模式在上阻挡物部分41上规则交替，且第一区46和第二区48以排列成第二方格网的第二规则重复模式在下阻挡物部分42上规则交替。在另外的构造中，第一区46和第二区48可以以其它方式交替。例如，如图19A所描绘的，第一区46和第二区48可以以排列成六角网格的规则重复模式在上阻挡物部分41上规则交替。在另外的实例中，如图19B所描绘的，第一区46和第二区48可以以排列成三角网格的规则重复模式在上阻挡物部分41上规则交替。在另外的实例中，如图19C所描绘的，第一区46和第二区48可以不具有规则的形状，或可以以无规则或不成形的构造交替经过上阻挡物部分41。

如图3-6所描绘的，室33具有相应于鞋底夹层31的鞋跟区13的构造，其中阻挡物部分41和42的方形区域被形成为包括第一区46和第二区48。在另外的构造中，室33可以相应于鞋底夹层31的其它区域，且阻挡物部分41和42的其它区域可以被形成为包括第一区46和第二区48。例如，如图20A所描绘的，相应于鞋底夹层31的鞋跟区13的基本上所有的室33的阻挡物部分41可以被形成为包括第一区46和第二区48。在另外的实例中，如图20B所描绘的，相应于鞋底夹层31的鞋前部区11的基本上所有的室33的阻挡物部分41可以被形成为包括第一区46和第二区48。在另外的实例中，如图20C所描绘的，相应于鞋底夹层31的鞋前部区11、鞋中部区12和鞋跟区13的基本上所有的室33的阻挡物部分41可以被形成为包括第一区46和第二区48。换而言之，室33可以相应与鞋底夹层31的鞋跟区13、鞋底夹层31的鞋前部区11、基本上所有的鞋底夹层31或鞋底夹层31的任一区或任意多个区域。

如图3-6和图9A-9C所描绘的，与下阻挡物部分42的第二区48相对地放置上阻挡物部分41的第一区46，且与下阻挡物部分42的第一区46相对地放置上阻挡物部分41的第二区48。换而言之，上阻挡物部分41的第一区46和第二区48的模式具有基本上关于下阻挡物部分42的第一区46和第二区48的模式的180度偏移或相位差。在另外的构造中，上阻挡物部分41的第一区46和第二区48可以以其它方式分别关于下阻挡物部分42的第二区48和第一区46放置。例如，如图21所描绘的，可以与下阻挡物部分42的第一区46相对地放置上阻挡物部分41的第一区46，且与下阻挡物部分42的第二区48相对地放置上阻挡物部分41的第二区48。换而言之，上阻挡物部分41的第一区46和第二区48的模式可以关于下阻挡物部分42的第一区46和第二区48的模式基本上不具有偏移或相位差，且替代地，可以与下阻挡物部分42的第一区46和第二区48的模式基本上对齐或同相。在其它的构造中，上阻挡物部分41的第一区46和第二区48的模式可以具有关于下阻挡物部分42的第一区46和第二区48的模式的任意偏移或相位差。

如图3-6所描绘的，上阻挡物部分41的第一区46和第二区48的模式的轴线与下阻挡物部分42的第一区46和第二区48的模式的轴线对齐。在其它的构造中，上阻挡物部分41的第一区46和第二区48的模式的轴线可以关于下阻挡物部分42的第一区46和第二区48的模式的轴线以一定角度旋转。例如，上阻挡物部分41的第一区46和第二区48的模式可以被形成为具有关于下阻挡物部分42的第一区46和第二区48的模式的45度旋转。

室33在上文中被讨论成具有适合于鞋类的构造。除了鞋类外，具有类似构造的室可以被结合到不是鞋类的产品中。例如，如图23A所描绘的，室33可以被适当地配置，用于结合到例如在瑜伽期间使用的或者作为露营衬垫使用的垫子210中，以为在地面上坐或躺提供舒适的表面。在另外的实例中，如图23B所描绘的，室33可以被适当地配置，用于结合到双肩背包220的支撑带222中。在另外的实例中，如图23C描绘的，室33可以被适当地配置，用于结合到与座椅230一起使用的坐垫232中。

另外的制造工艺

在第一制造工艺中，如图10-12C所描绘的，与下模具部分62的第二模具区68相对地放置上模具部分61和第一模具区66，且与下模具部分62的第一模具区66相对地放置上模具部分61的第二模具区68。换而言之，上阻模具部分61的第一模具区66和第二模具区68的模式具有基本上关于下模具部分62的第一模具区66和第二模具区68的模式的180度偏移或相位差。在另外的构造中，上模具部分61的第一模具区66和第二模具区68可以以其它方式分别关于下模具部分62的第二模具区68和第一模具区66放置。例如，如图21所描绘的，可以与下模具部分62的第一模具区66相对地放置上模具部分61的第一模具区66，且与下模具部分62的第二模具区68相对地放置上模具部分61的第二模具区68。换而言之，上模具部分61的第一模具区66和第二模具区68的模式可以基本上不具有关于下模具部分62的第一模具区66和第二模具区68的模式的偏移或相位差，且替代地，可以与下模具部分62的第一模具区66和第二模具区68的模式基本上对齐或同相。

在第一制造工艺中，如图10-12C所描绘的，模具部分61和62的第一模具区66和第二模具区68在从模具部分61和62向外延伸和延伸到模具部分61和62中之间正弦地交替。在另外的构造中，第一模具区66和第二模具区68可以以其它的方式在从模具部分61和62向外延伸和延伸到模具部分61和62中之间交替，且可以在横截面的构造、高度或宽度方面存在差异。例如，如图22A所描绘的，第一模具区66和第二模具区68在横截面上具有基本上矩形或方形的构造，该构造在从模具部分61和62向外延伸和延伸到模具部分61和62中之间交替。还在另外的实例中，如图22B所描绘的，第一模具区66和第二模具区68在横截面上具有基本上梯形的构造，该构造在从模具部分61和62向外延伸和延伸到模具部分61和62中之间交替。还在另外的实例中，如图22C所描绘的，第一模具区66和第二模具区68在横截面上具有基本上三角形或锯齿状的构造，该构造在从模具部分61和62向外延伸和延伸到模具部分61和62中之间交替。在另外的实例中，如图22D所描绘的，第一模具区66和第二模具区68在横截面上具有非正弦但部分曲线的构造，该构造在从模具部分61和62向外延伸和延伸到模具部分61和62中之间交替。在另外的实例中，如图22E所描绘的，朝着模具部分61和62的周边的第一模具区66和第二模具区68比朝着模具部分61和62的中心的第一模具区66和第二模具区68大。

本发明在上文和在附图中参照多种构造公开。然而，本公开内容所服务的目的是提供与本发明相关的各种特征和概念的实施例，而不是限制本发明的范围。相关领域的技术人员将意识到，可以对上文描述的构造做出多种变化和修改，而不偏离本发明的如由所附的权利要求限定的范围。

Claims (25)

1.一种制造流体填充室的方法，所述方法包括：

在第一聚合物片材和第二聚合物片材之间定位抗拉构件，所述抗拉构件具有第一层和相对的第二层，以及在所述第一层和所述第二层之间延伸的连接构件；

抵住所述第一层按压所述第一聚合物片材且抵住所述第二层按压所述第二聚合物片材，以(a)在所述第一聚合物片材中形成多个凹进部分和多个突出部分且(b)在所述第二聚合物片材中形成多个凹进部分和多个突出部分，所述第二聚合物片材中的所述突出部分相对所述第一聚合物片材中的所述凹进部分形成；

接合所述第一聚合物片材和所述第二聚合物片材，以形成周边结合部，所述第一聚合物片材、所述第二聚合物片材和所述周边结合部形成阻挡物；且

加压所述阻挡物，以将所述连接构件置于受拉状态。

2.如权利要求1所述的方法，还包括使所述第一聚合物片材中的所述凹进部分固定到所述第一层的步骤。

3.如权利要求2所述的方法，其中所述固定的步骤包括使所述第一聚合物片材中的所述凹进部分在多个区域中接合到所述第一层，所述多个区域的总面积超过了所述第一层的整个面积的一半。

4.如权利要求1所述的方法，还包括使所述第二聚合物片材中的所述凹进部分固定到所述第二层的步骤。

5.如权利要求1所述的方法，其中所述按压的步骤包括形成所述室以包括具有波状横截面构造的部分。

6.如权利要求1所述的方法，其中所述按压的步骤包括在所述第一聚合物片材中形成所述凹进部分以具有规则重复模式的构造。

7.如权利要求6所述的方法，其中所述规则重复模式是基于方格网的。

8.如权利要求1所述的方法，其中所述抗拉构件是间隔织物。

9.一种制造流体填充室的方法，所述方法包括：

在第一聚合物片材和第二聚合物片材之间定位抗拉构件，所述抗拉构件具有第一层、第二层和至少一个连接构件；

(a)抵住所述第一层压缩所述第一聚合物片材，所述第一聚合物片材的多个受较多压缩的区被压缩到第一压力程度，且所述第一聚合物片材的多个受较少压缩的区被压缩到第二压力程度，所述第一压力程度大于所述第二压力程度；并且(b)抵住所述第二层压缩所述第二聚合物片材，所述第二聚合物片材的多个受较多压缩的区被压缩到第三压力程度，且所述第二聚合物片材的多个受较少压缩的区被压缩到第四压力程度，所述第三压力程度大于所述第四压力程度，所述第二聚合物片材的所述受较少压缩的区相对所述第一聚合物片材的所述受较多压缩的区形成；

接合所述第一聚合物片材和所述第二聚合物片材，以形成周边结合部，所述第一聚合物片材、所述第二聚合物片材和所述周边结合部形成阻挡物；且

加压所述阻挡物，以将所述至少一个连接构件置于受拉状态。

10.如权利要求9所述的方法，还包括使所述第一聚合物片材的每一个受较多压缩的区的至少一部分固定到所述第一层的步骤。

11.如权利要求10所述的方法，其中所述固定的步骤包括使所述第一聚合物片材的每一个受较多压缩的区的至少一部分在多个区域中接合到所述第一层，所述多个区域的总面积超过了所述第一层的整个面积的一半。

12.如权利要求9所述的方法，还包括使所述第二聚合物片材的每一个受较多压缩的区的至少一部分固定到所述第二层的步骤。

13.如权利要求9所述的方法，其中所述压缩的步骤包括形成所述第一聚合物片材的所述受较多压缩的区，以具有规则重复模式的构造。

14.如权利要求13所述的方法，其中所述规则重复模式是基于方格网的。

15.如权利要求9所述的方法，其中所述抗拉构件是间隔织物。

16.一种制造流体填充室的方法，所述方法包括：

在第一模具部分和第二模具部分之间定位第一聚合物片材和第二聚合物片材，所述第一模具部分和所述第二模具部分中的至少一个具有多个凹面区和多个凸面区两者，所述凹面区和所述凸面区具有基于方格网的规则重复模式的构造；

在第一聚合物片材和第二聚合物片材之间放置抗拉构件，所述抗拉构件具有第一层、第二层和至少一个连接构件；

在所述第一模具部分和所述第二模具部分之间压缩所述第一聚合物片材、所述抗拉构件和所述第二聚合物片材，以在所述第一聚合物片材中形成多个结合区且在所述第一聚合物片材中形成多个未结合区；且

接合所述第一聚合物片材和所述第二聚合物片材，以形成周边结合部。

17.如权利要求16所述的方法，其中所述第一聚合物片材中的每一个结合区的至少一部分在所述第一聚合物片材中形成凹进部分。

18.如权利要求16所述的方法，其中所述第一聚合物片材中的每一个未结合区的至少一部分在所述第一聚合物片材中形成突出部分。

19.如权利要求16所述的方法，其中所述压缩的步骤还包括在所述第二聚合物片材中形成多个结合区且在所述第一聚合物片材中形成多个未结合区。

20.如权利要求16所述的方法，其中所述抗拉构件是间隔织物。

21.一种制造流体填充室的方法，所述方法包括：

提供具有第一模具部分和第二模具部分的模具，所述第一模具部分和所述第二模具部分中的每一个具有多个突出部分和多个凹进部分两者，所述第一模具部分的所述突出部分被相对所述第二模具部分的所述凹进部分定位，所述第一模具部分的所述凹进部分被相对所述第二模具部分的所述突出部分定位，并且所述第一模具部分的所述多个突出部分和所述第一模具部分的所述多个凹进部分具有基于方格网的规则重复模式的构造；

在所述第一模具部分和所述第二模具部分之间定位第一聚合物片材、第二聚合物片材和抗拉构件，所述第一聚合物片材毗邻于所述第一模具部分放置，所述第二聚合物片材毗邻于所述第二模具部分放置，且所述抗拉构件被放置在所述第一聚合物片材和所述第二聚合物片材之间；

在所述第一模具部分和所述第二模具部分之间压缩所述第一聚合物片材、所述第二聚合物片材和所述抗拉构件，以(a)使所述第一聚合物片材结合到所述抗拉构件且(b)使所述第二聚合物片材结合到所述抗拉构件；且

围绕所述抗拉构件的周边的至少一部分使所述第一聚合物片材结合到所述第二聚合物片材。

22.如权利要求21所述的方法，其中所述压缩的步骤包括在所述室中形成凹进区，其中，(a)所述第一模具部分的所述突出部分接触所述第一聚合物片材，并且其中(b)所述第二模具部分的所述突出部分接触所述第二聚合物片材。

23.如权利要求21所述的方法，其中所述压缩的步骤包括在所述室中形成突出区，其中，(a)所述第一模具部分的所述凹进部分毗邻于所述第一聚合物片材，并且其中(b)所述第二模具部分的所述凹进部分毗邻于所述第二聚合物片材。

24.如权利要求21所述的方法，其中所述压缩的步骤包括在所述抗拉构件与所述第一聚合物片材和所述第二聚合物片材中的每一个之间形成未结合区。

25.如权利要求21所述的方法，其中所述抗拉构件是间隔织物。