CN102994921A - 铜及铜合金的深冷降阻处理方法 - Google Patents

铜及铜合金的深冷降阻处理方法 Download PDF

Info

Publication number
CN102994921A
CN102994921A CN201210487473XA CN201210487473A CN102994921A CN 102994921 A CN102994921 A CN 102994921A CN 201210487473X A CN201210487473X A CN 201210487473XA CN 201210487473 A CN201210487473 A CN 201210487473A CN 102994921 A CN102994921 A CN 102994921A
Authority
CN
China
Prior art keywords
copper
deep cooling
copper alloy
temperature
treatment process
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201210487473XA
Other languages
English (en)
Inventor
罗震
蒋俊亮
李洋
任吉刚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tianjin University
Original Assignee
Tianjin University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tianjin University filed Critical Tianjin University
Priority to CN201210487473XA priority Critical patent/CN102994921A/zh
Publication of CN102994921A publication Critical patent/CN102994921A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

本发明公开了铜及铜合金的低温降阻处理方法,采用深冷工艺对铜及铜合金进行低温处理,在保持材料的原始成分和尺寸基础上,通过调整微观组织结构,使铜及其合金的导电性能得到提高。该方法简单,工艺易于操控,适合于工业化的推广和使用。

Description

铜及铜合金的深冷降阻处理方法
技术领域
本发明涉及降阻处理方法,更加具体地说,涉及一种铜及铜合金的低温降阻处理方法。
背景技术
通常,深冷处理是以液氮作为冷却介质,将被处理工件装在一定的容器内,不同材料按其特定的降温曲线,控制降温速率,缓慢地将工件降到液氮温度(-196℃),保温一定时间,再按升温曲线,缓慢升到室温的处理过程,一般认为它是常规冷处理的一种延伸。国内目前大多将深冷处理工艺用于钢铁材料,这对改善高速钢、轴承钢、模具钢等材料的耐磨性、硬度、尺寸稳定性等性能具有显著的作用。现有的研究和生产实践结果表明,深冷处理在基于不改变现有材料成分的基础上,通过合理的处理工艺不仅可显著提高材料的力学性能和使用寿命,还能稳定材料尺寸,改善均匀性,减小变形,且操作简单、不破坏工件、无污染、成本低等特点,被广泛应用于机械制造行业。
铜由于其具有较高的电阻率、化学稳定性强、抗张强度大、易熔接、优良的抗蚀性、可塑性和延展性等诸多优点,被广泛地应用于电气、轻工、机械制造、建筑工业、国防工业等领域。但是在冶金轧制过程中存在一些缺陷如气孔,裂纹位错,晶格畸变等,增加了电阻,从而严重影响铜及其合金的导电性能。
组织细化、减少缺陷是提高铜及铜合金导电性能最有效的途径之一,目前主要的方法有添加合金元素法、快速凝固法、形变处理、热处理等。采用添加合金元素的方法简便易行,易于在工业上推广应用,但会造成材料成本提高,以及材料化学组分和组织不均匀的偏析倾向增大。形变处理和快速凝固等技术还仍处于实验室研究阶段或小批量应用阶段。采用热处理来细化铜合金组织,降低电阻程度有限。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的不足,通过深冷处理的方法降低铜及铜合金的电阻率,提高其导电性,提出一种铜及铜合金的深冷降阻处理方法与工艺。针对铜及铜合金的物理特性,通过增大温度控制范围,精细化调控组织,使铜合金中的α、β相等分布更均匀,达到减少输送电子散射,实现降低电阻的目的。
铜及铜合金的深冷降阻处理方法,按照下述步骤进行:将铜及铜合金从室温(20~25摄氏度)开始降温至深冷程度进行深冷处理,深冷温度为-190℃~-130℃,温控误差为±2℃~±10℃,深冷时间为4~8小时,深冷后在空气中自然升温至室温(20~25摄氏度)。
所述降温速率选择为1~20℃/min。所述深冷工艺优选为深冷温度为-130~-185℃,温控误差为±10℃,深冷时间为0.5-6小时。
本发明采用深冷处理的方法,其工艺简单,易于操控,适合于工业化的推广和使用。采用该工艺方法,在不改变材料的原始成分基础上,可使铜及铜合金获得的显微组织均匀、稳定,硬化相弥散分布,具有高的强度和硬度,有利于降低铜及铜合金的电阻。
本发明的方法在保持材料的原始成分和尺寸基础上,通过调整微观组织结构,使铜合金的导电性能得到提高。该方法简单,工艺易于操控,适合于工业化的推广和使用。
具体实施方式
下面结合具体实施例进一步说明本发明的技术方案。
铜及铜合金的深冷处理工艺是利用中国科学院理化技术研究所研制的SLX型深冷处理系统进行的,深冷系统由深冷箱、控制箱、液氮罐、液氮泵及真空输液管、计算机及控制软件组成。工作时,将工件置入深冷箱内,在计算机或控制箱上编制工艺程序后,系统自动运行,程序运行结束后系统自动停止。整个运行无需人工干预,操作方便,使用可靠。该系统温度控制范围:-196℃~室温;控温精度:±2℃,温度平衡后0.5h;降温速率:0.1~10℃/min(非标可达40℃/min)。电阻仪器为北京海淀三鑫测控新技术公司生产的TG感性负载直阻速测欧姆计。
实施例1铬锆铜合金深冷处理
铬锆铜合金为带孔洞的圆柱形试样,尺寸为23mm×Φ12.65mm,所用合金元素成分如下表所示:
在深冷处理箱中进行深冷处理,降温速率为10℃/min,深冷温度为-185±10℃(即温控在±10℃之内),深冷时间为6小时,其他工艺参数详见下表,深冷后放置在空气中升温至室温(20~25℃)。将所测电阻值通过计算加入系统测量误差后列入下表:
  编号   处理工艺 电阻值(mΩ) 与母材变化率(%)
  1   母材   118.90   0
  2   深冷-185±10℃6小时   115.86   -2.56
  3   深冷-150±5℃8小时   116.64   -1.90
  4   深冷-165±2℃4小时   116.34   -2.15
  5   深冷-170±5℃6小时   116.18   -2.29
  6   深冷-190±10℃4小时   115.92   -2.51
从表中可以看出,通过深冷处理工艺,可以使铬锆铜合金的电阻下降多达2.56%。
实施例2铍铜合金的深冷处理
铍铜合金为圆柱形试样,尺寸为13.50mm×Φ20.00mm,所用合金为Cu-2Be-0.3Ni。
在深冷处理箱中进行深冷处理,深冷温度为-185±10℃,深冷时间为6小时,其他工艺参数详见下表,深冷后放置在空气中升温至室温(20~25℃);将进行误差计算后所得电阻率列入下表:
Figure GDA00002462324100041
从表中可以看出,通过深冷处理后,可以使铍铜合金电阻率下降达6.99%。
实施例3纯铜软态导线深冷处理
纯铜软态导线的尺寸为200mm×Φ3mm,纯度为99.96%。纯铜软态导线型号为TR-3.0GB 3954-83。
在深冷处理箱中进行深冷处理,深冷温度为-185±10℃,深冷时间为6小时,其他工艺参数详见下表,深冷后放置在空气中升温至室温(20~25℃)。将进行误差计算后所得电阻率列入下表:
Figure GDA00002462324100051
从表中可以看出,通过深冷处理工艺,可以使纯铜软态导线的电阻率下降多达3.38%。实施例4纯铜硬态导线深冷处理
纯铜硬态导线的尺寸为200mm×Φ3mm,纯度为99.96%。纯铜硬态导线型号为TY-3.0GB 3954-83。
在深冷处理箱中进行深冷处理,深冷温度为-185±10℃,深冷时间为6小时,其他工艺参数详见下表,深冷后放置在空气中升温至室温(20~25℃)。将进行误差计算后所得电阻率列入下表:
Figure GDA00002462324100052
Figure GDA00002462324100061
从表中可以看出,通过深冷处理工艺,可以使纯铜硬态导线的电阻率下降多达5.21%。
以上对本发明做了示例性的描述,应该说明的是,在不脱离本发明的核心的情况下,任何简单的变形、修改或者其他本领域技术人员能够不花费创造性劳动的等同替换均落入本发明的保护范围。

Claims (5)

1.铜及铜合金的深冷降阻处理方法,其特征在于,按照下述步骤进行:将铜及铜合金从室温开始降温至深冷程度进行深冷处理,深冷温度为-190℃~-150℃,温控误差为±2℃~±10℃,深冷时间为4~8小时,深冷后在空气中自然升温至室温。
2.根据权利要求1所述的铜及铜合金的深冷降阻处理方法,其特征在于,所述室温为20—25摄氏度。
3.根据权利要求1所述的铜及铜合金的深冷降阻处理方法,其特征在于,所述降温速率选择为5—10℃/min。
4.根据权利要求1所述的铜及铜合金的深冷降阻处理方法,其特征在于,所述深冷温度为-185℃,温控误差为±10℃,深冷时间为6小时。
5.根据权利要求1所述的铜及铜合金的深冷降阻处理方法,其特征在于,所述铜合金为铬锆铜合金、铍铜合金。
CN201210487473XA 2012-11-26 2012-11-26 铜及铜合金的深冷降阻处理方法 Pending CN102994921A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201210487473XA CN102994921A (zh) 2012-11-26 2012-11-26 铜及铜合金的深冷降阻处理方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201210487473XA CN102994921A (zh) 2012-11-26 2012-11-26 铜及铜合金的深冷降阻处理方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN102994921A true CN102994921A (zh) 2013-03-27

Family

ID=47924022

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201210487473XA Pending CN102994921A (zh) 2012-11-26 2012-11-26 铜及铜合金的深冷降阻处理方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN102994921A (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103614677A (zh) * 2013-12-06 2014-03-05 上海田伏电子科技有限公司 一种铜材的深冷处理工艺
CN107502777A (zh) * 2017-09-13 2017-12-22 临沂市科创材料有限公司 一种原位增强铜铬锆合金高温抗氧化性的方法
CN112048689A (zh) * 2020-09-16 2020-12-08 扬州大学 一种焊接喷嘴的热处理方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1352320A (zh) * 2001-10-16 2002-06-05 甘肃工业大学 铜合金带材深冷处理工艺
CN1435505A (zh) * 2002-01-30 2003-08-13 天津大学 用于镀锌钢板电阻点焊电极的深冷处理方法
CN101717903A (zh) * 2009-12-18 2010-06-02 燕山大学 一种Cu-Al合金显微组织的细化工艺

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1352320A (zh) * 2001-10-16 2002-06-05 甘肃工业大学 铜合金带材深冷处理工艺
CN1435505A (zh) * 2002-01-30 2003-08-13 天津大学 用于镀锌钢板电阻点焊电极的深冷处理方法
CN101717903A (zh) * 2009-12-18 2010-06-02 燕山大学 一种Cu-Al合金显微组织的细化工艺

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
段文燕: "深冷处理对铜基多元合金电导率的影响", 《热加工工艺》 *
王晓峰等: "深冷处理对Cr-Zr-Cu电极合金组织影响机理研究", 《材料工程》 *

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103614677A (zh) * 2013-12-06 2014-03-05 上海田伏电子科技有限公司 一种铜材的深冷处理工艺
CN107502777A (zh) * 2017-09-13 2017-12-22 临沂市科创材料有限公司 一种原位增强铜铬锆合金高温抗氧化性的方法
CN112048689A (zh) * 2020-09-16 2020-12-08 扬州大学 一种焊接喷嘴的热处理方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102994920A (zh) 铜及铜合金高低温复合降阻处理方法
CN105551688B (zh) 一种高精度无氧光亮铜排的制备方法
CN107604202B (zh) 一种高性能磷青铜带及其制备方法
CN101709428A (zh) 复合微合金化高热强性热作模具钢及其制备方法
JP2006283060A (ja) 銅合金材料およびその製造法
CN113088756A (zh) 一种锡磷青铜带材及其制备方法
Kang et al. Effect of Ti content on grain size and mechanical properties of UNS S44100 ferritic stainless steel
CN102400069B (zh) 一种Al-Li-Cu-X系铝锂合金多级时效强韧化工艺
Song et al. Microstructure and mechanical properties of heat treatment laser solid forming superalloy Inconel 718
CN105525135A (zh) 一种低各向异性指数高强Cu-Ni-Si系合金及其制备工艺
CN102994921A (zh) 铜及铜合金的深冷降阻处理方法
CN106498322A (zh) 一种提高铜或铜合金强韧性的静磁场深冷处理方法
CN105063412A (zh) 一种高导无氧铜银合金杆及其生产工艺
CN105002337A (zh) H13模具钢热处理方法以及通过其获得的h13模具钢
CN103993144A (zh) 一种连铸大方坯生产h13模具用钢的方法
CN105420613A (zh) 具有高粗糙度表面的冷轧辊及其制造方法
CN102002656B (zh) 一种细化析出或弥散强化型块体铜合金晶粒的方法
CN103820666A (zh) 一种细晶铜铬合金的制备方法
CN105132751A (zh) 一种Ni-Cr-Al-Fe系高温合金材料、其制备方法及应用
CN109504865A (zh) 适用导电弹性元器件的高强钛铜合金异型丝及制备方法
CN101914704A (zh) 一种含Cr的抗蠕变挤压锌合金及其制备方法
CN109439955B (zh) 一种采用定向凝固制备高强度、高导电性超细丝合金材料的方法
CN115044788B (zh) 一种有色金属材料的制备方法
CN111958193B (zh) 一种难变形合金丝材的制备方法
CN113385549A (zh) 高强高导纯铜线的复合加工方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C53 Correction of patent of invention or patent application
CB03 Change of inventor or designer information

Inventor after: Jiang Junliang

Inventor after: Luo Zhen

Inventor after: Li Yang

Inventor after: Ren Jigang

Inventor before: Luo Zhen

Inventor before: Jiang Junliang

Inventor before: Li Yang

Inventor before: Ren Jigang

COR Change of bibliographic data

Free format text: CORRECT: INVENTOR; FROM: LUO ZHEN JIANG JUNLIANG LI YANG REN JIGANG TO: JIANG JUNLIANG LUO ZHEN LI YANG REN JIGANG

C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20130327