CN102986465A - 一种花盆 - Google Patents
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Abstract
本发明一种花盆，其设有一花盆主体，所述花盆主体下部设有一水土隔离板，所述水土隔离板的一侧通过一管板连接扣连接一管子，所述管子内设有塑料空心管，所述塑料空心管的下部设有底浮，上部设有浮漂。本发明一种花盆通过设置水土隔离板和塑料空心管，使花草可以自行吸收水量，无需天天浇水，实用方便简单。
Description
技术领域
本发明涉及一种花盆。
背景技术
目前，现有的花盆内部全部放入土壤，然后将花草种植在其中，每天都需要浇水，但是经常会因为忘记浇水导致花草生长不良，甚至还会死亡，并且如果浇水量控制不好，浇水后需要进行清洁，浇水量过多还会对花草有害，所以现在急需解决上述问题。
发明内容
针对上述问题，本发明的目的是提出一种可以自动控制吸水量的花盆。
一种花盆，其设有一花盆主体，所述花盆主体下部设有一水土隔离板，所述水土隔离板的一侧通过一管板连接扣连接一管子，所述管子内设有塑料空心管，所述塑料空心管的下部设有底浮，上部设有浮漂。
所述水土隔离板表面设有多个均匀分布的增加花盆底部与土壤之间透气性的锥形小孔，其上部设置有洗水棉条。
所述花盆主体周边还设有用于排水的缺口；所述花盆主体下部还设有放水塞口。
本发明由于采取以上技术方案，具有以下优点：
本发明一种花盆通过设置水土隔离板和塑料空心管，使花草可以自行吸收水量，无需天天浇水，实用方便简单。
附图说明
图1是本发明一种花盆的结构示意图。
图2是本发明一种花盆的主视结构示意图。
图3是本发明一种花盆的水土隔离板的结构示意图。
图4是本发明一种花盆的水土隔离板的局部放大结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明进行详细的描述。
如图1和图2所示，为本发明一种花盆的结构示意图，其设有一花盆主体1，花盆主体1下部设有一水土隔离板2，水土隔离板2的一侧通过一管板连接扣3连接一管子4，管子4内设有塑料空心管5，塑料空心管5的下部设有底浮6，上部设有浮漂7。
如图3和图4所示，所述水土隔离板2上面是土，下面是水，其表面设有多个均匀分布的锥形小孔11，其上部设置有洗水棉条8，这样会增加花盆底部与土壤之间的透气性，当水加入进去后，底浮6就会慢慢的升高上去，从浮漂7就可以看见水位的高低，便于用户了解花盆水位情况，植物通过吸水棉条8来吸收水分，
如图1所示，所述花盆主体1周边还设有缺口9，多余的水通过缺口9流出来，不会使植物由于水太多造成烂根。所述花盆主体1下部还设有放水塞口10，当水时间长了，通过放水塞口10放水，换花盆里面的水。
本发明仅以上述实施例进行示意说明，各部件的结构、设置位置、及其连接都是可以有所变化的，在本发明技术方案的基础上，凡根据本发明原理对个别部件进行的改进和等同变换，均不应排除在本发明的保护范围之外。
Claims (3)
1.一种花盆，其特征在于：其设有一花盆主体，所述花盆主体下部设有一水土隔离板，所述水土隔离板的一侧通过一管板连接扣连接一管子，所述管子内设有塑料空心管，所述塑料空心管的下部设有底浮，上部设有浮漂。
2.如权利要求1所述的一种花盆，其特征在于：所述水土隔离板表面设有多个均匀分布的增加花盆底部与土壤之间透气性的锥形小孔，其上部设置有洗水棉条。
3.如权利要求1所述的一种花盆，其特征在于：所述花盆主体周边还设有用于排水的缺口；所述花盆主体下部还设有放水塞口。
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| CN2011102776757A CN102986465A (zh) | 2011-09-19 | 2011-09-19 | 一种花盆 |
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| CN102986465A true CN102986465A (zh) | 2013-03-27 |
Family
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Family Applications (1)
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| CN2011102776757A Pending CN102986465A (zh) | 2011-09-19 | 2011-09-19 | 一种花盆 |
Country Status (1)
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Citations (4)
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| CN2385520Y (zh) * | 1999-04-12 | 2000-07-05 | 唐骁 | 智能花盆 |
| CN2757541Y (zh) * | 2004-12-17 | 2006-02-15 | 韩允生 | 储水花盆 |
| CN201319772Y (zh) * | 2008-12-30 | 2009-10-07 | 刘兴舟 | 蓄水花盆 |
| CN202285663U (zh) * | 2011-09-19 | 2012-07-04 | 许永丰 | 一种花盆 |
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2011
- 2011-09-19 CN CN2011102776757A patent/CN102986465A/zh active Pending
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| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
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