CN102941795A - 一种防雾自洁汽车玻璃 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种汽车玻璃,具体讲是涉及一种具有防雾自洁功能的汽车玻璃,玻璃表面设有防雾涂层,其具有良好的防雾功能,并且防雾涂层含有采用润湿能力好,去污力强油酸和硅油为主要成分,并配以卡波姆和二聚甘油进行配合作为防雾成分,卡波姆可以很容易的流平,通过与聚乙二醇酯作用,可以控制防雾剂粘度,使产品使用后附着在玻璃表面,能够保持长效的防雾功能,防雾层表面设有保护膜,其对防雾涂层起到保护作用,增长防雾玻璃的使用寿命;玻璃的最外层覆涂有光催化剂涂层,其在紫外线照射下分解,具有很强的亲水性,起到自洁的作用。
Description
技术领域
本发明涉及一种汽车玻璃,具体讲是涉及一种具有防雾自洁功能的汽车玻璃。
背景技术
随着汽车行业的不断发展,路面上车流量也在不断的增大。其不但给交通带来极大的压力,也给人们的生命安全带来一定的伤害。特别是冬天,交通事故的发生率会明显增高。其原因一方面是冬天下雪路滑,另一方面就是车内玻璃被无水覆盖,影响驾驶员的视线而妨碍行车安全。目前,普遍采用在玻璃上覆涂由表面活性剂构成的防雾剂来解决这个问题,但是其操作麻烦。
发明内容
鉴于现有技术存在的问题,本发明的目的是一种具有防雾和自洁功能的汽车玻璃。
为了实现上述目的,本发明所采用的技术方案是一种防雾自洁汽车玻璃,其包括:玻璃本体、防雾层、保护膜和光催化剂涂层;玻璃本体上覆涂防雾层,防雾层上覆涂保护膜,保护膜上覆涂光催化剂涂层;
所述防雾层是由防雾剂喷涂而成,所述防雾剂原料为:柠檬酸、吐温-80、硅油、油酸、聚乙二醇酯、二聚甘油、卡波姆和去离子水;各个物质的重量百分比为:
柠檬酸 1~2%
吐温-80 2~5%
硅油 2~3%
油酸 2~5%
聚乙二醇酯 1~2%
二聚甘油 2~3%
卡波姆 1~3%
余量去离子水。
所述保护膜为纳米级二氧化硅非结晶体。
所述光催化剂涂层为纳米级二氧化硅和纳米级二氧化钛的混合物,其二氧化硅的直径为5~7纳米,二氧化钛的直径为6~8纳米。
本发明的优点在于:玻璃表面设有防雾涂层,其具有良好的防雾功能,并且防雾涂层含有采用润湿能力好,去污力强油酸和硅油为主要成分,并配以卡波姆和二聚甘油进行配合作为防雾成分,卡波姆可以很容易的流平,通过与聚乙二醇酯作用,可以控制防雾剂粘度,使产品使用后附着在玻璃表面,能够保持长效的防雾功能,防雾层表面设有保护膜,其对防雾涂层起到保护作用,增长防雾玻璃的使用寿命;玻璃的最外层覆涂有光催化剂涂层,其在紫外线照射下分解,具有很强的亲水性,起到自洁的作用。
附图说明
图1是本发明的剖面图;
图中:1、玻璃本体,2、防雾涂层,3、保护膜,4、光催化剂涂层。
具体实施方式
一种防雾自洁汽车玻璃,其包括:玻璃本体、防雾层、保护膜和光催化剂涂层;玻璃本体上覆涂防雾层,防雾层上覆涂保护膜,保护膜上覆涂光催化剂涂层;
所述防雾层是由防雾剂喷涂而成,所述防雾剂原料为一种防雾汽车玻璃。
所述防雾层是由防雾剂喷涂而成,所述防雾剂原料为:柠檬酸、吐温-80、硅油、油酸、聚乙二醇酯、二聚甘油、卡波姆和去离子水;各个物质的重量百分比为:
柠檬酸 1~2%
吐温-80 2~5%
硅油 2~3%
油酸 2~5%
聚乙二醇酯 1~2%
二聚甘油 2~3%
卡波姆 1~3%
余量去离子水。
所述保护膜为纳米级二氧化硅非结晶体。
所述光催化剂涂层为纳米级二氧化硅和纳米级二氧化钛的混合物,其二氧化硅的直径为5~7纳米,二氧化钛的直径为6~8纳米。
Claims (3)
1.一种防雾自洁汽车玻璃,其包括:玻璃本体、防雾层、保护膜和光催化剂涂层;玻璃本体上覆涂防雾层,防雾层上覆涂保护膜,保护膜上覆涂光催化剂涂层;所述防雾层是由防雾剂喷涂而成,所述防雾剂原料为:柠檬酸、吐温-80、硅油、油酸、聚乙二醇酯、二聚甘油、卡波姆和去离子水;各个物质的重量百分比为:
柠檬酸 1~2%
吐温-80 2~5%
硅油 2~3%
油酸 2~5%
聚乙二醇酯 1~2%
二聚甘油 2~3%
卡波姆 1~3%
余量去离子水。
2.根据权利要求1所述的一种防雾自洁汽车玻璃,其特征在于:所述保护膜为纳米级二氧化硅非结晶体。
3.根据权利要求1所述的一种防雾自洁汽车玻璃,其特征在于:所述光催化剂涂层为纳米级二氧化硅和纳米级二氧化钛的混合物,其二氧化硅的直径为5~7纳米,二氧化钛的直径为6~8纳米。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN106476379B (zh) * | 2016-09-21 | 2018-08-17 | 东莞市联洲知识产权运营管理有限公司 | 一种汽车玻璃用隔热防雾膜 |
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PB01 | Publication | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
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