CN102897856A - 印染污废水专用处理剂 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种印染污废水专用处理剂，包括下列重量份的原料：氯化铁5~8份、氯化镁3~5份、氯化铝8~10份、硫酸铁5~10份、氯化钙5~10份、膨润土25~35份、次氯酸钠7~12份和次氯酸钙8~15份，各种原材料经过常规生产工艺制得所述印染污废水专用处理剂。通过上述方式，本发明对印染污废水的处理效果显著，生产成本低。
Description
技术领域
本发明涉及水处理剂领域，特别是涉及一种印染污废水专用处理剂。
背景技术
随着国民经济的飞速发展，纺织印染企业也越来越多，纺织印染企业会产生许多污废水，如果不经过处理直接排放，会对生活用水造成严重的污染。纺织印染企业排放的污废水一直是比较难处理的工业废水之一。现有的印染废水处理剂存在着效果不显著的缺点。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种印染污废水专用处理剂，能够解决现有技术中存在的问题，对印染污废水的处理效果好。
为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种印染污废水专用处理剂，包括下列重量份的原料：氯化铁5~8份、氯化镁3~5份、氯化铝8~10份、硫酸铁5~10份、氯化钙5~10份、膨润土25~35份、次氯酸钠7~12份和次氯酸钙8~15份，各种原材料经过常规生产工艺制得所述印染污废水专用处理剂。
在本发明一个较佳实施例中，所述印染污废水专用处理剂包括下列重量份的原材料：氯化铁5份、氯化镁3份、氯化铝8份、硫酸铁5份、氯化钙5份、膨润土25份、次氯酸钠7份和次氯酸钙8份。
在本发明一个较佳实施例中，所述印染污废水专用处理剂包括下列重量份的原材料：氯化铁6份、氯化镁4份、氯化铝9份、硫酸铁7份、氯化钙7份、膨润土32份、次氯酸钠10份和次氯酸钙12份。
在本发明一个较佳实施例中，所述印染污废水专用处理剂包括下列重量份的原材料：氯化铁8份、氯化镁5份、氯化铝10份、硫酸铁10份、氯化钙10份、膨润土35份、次氯酸钠12份和次氯酸钙15份。
本发明的有益效果是：本发明印染污废水专用处理剂，对印染污废水的处理效果显著，生产成本低。
具体实施方式
下面对本发明的较佳实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
本发明实施例包括：
实施例1：
一种印染污废水专用处理剂，包括下列重量份的原材料：氯化铁5份、氯化镁3份、氯化铝8份、硫酸铁5份、氯化钙5份、膨润土25份、次氯酸钠7份和次氯酸钙8份。各种原材料经过常规生产工艺制得所述印染污废水专用处理剂。
实施例2：
一种印染污废水专用处理剂，包括下列重量份的原材料：氯化铁6份、氯化镁4份、氯化铝9份、硫酸铁7份、氯化钙7份、膨润土32份、次氯酸钠10份和次氯酸钙12份。各种原材料经过常规生产工艺制得所述印染污废水专用处理剂。
实施例3：
一种印染污废水专用处理剂，包括下列重量份的原材料：氯化铁8份、氯化镁5份、氯化铝10份、硫酸铁10份、氯化钙10份、膨润土35份、次氯酸钠12份和次氯酸钙15份。各种原材料经过常规生产工艺制得所述印染污废水专用处理剂。
本发明印染污废水专用处理剂，对印染污废水的处理效果显著，生产成本低。
以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (4)
1.一种印染污废水专用处理剂，其特征在于，包括下列重量份的原料：氯化铁5~8份、氯化镁3~5份、氯化铝8~10份、硫酸铁5~10份、氯化钙5~10份、膨润土25~35份、次氯酸钠7~12份和次氯酸钙8~15份，各种原材料经过常规生产工艺制得所述印染污废水专用处理剂。
2.根据权利要求1所述的印染污废水专用处理剂，其特征在于，所述印染污废水专用处理剂包括下列重量份的原材料：氯化铁5份、氯化镁3份、氯化铝8份、硫酸铁5份、氯化钙5份、膨润土25份、次氯酸钠7份和次氯酸钙8份。
3.根据权利要求1所述的印染污废水专用处理剂，其特征在于，所述印染污废水专用处理剂包括下列重量份的原材料：氯化铁6份、氯化镁4份、氯化铝9份、硫酸铁7份、氯化钙7份、膨润土32份、次氯酸钠10份和次氯酸钙12份。
4.根据权利要求1所述的印染污废水专用处理剂，其特征在于，所述印染污废水专用处理剂包括下列重量份的原材料：氯化铁8份、氯化镁5份、氯化铝10份、硫酸铁10份、氯化钙10份、膨润土35份、次氯酸钠12份和次氯酸钙15份。
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2012
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|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20130130 |