CN102871580A - 一种自动干足器 - Google Patents

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Abstract

本发明是一种自动干足器,其特征是包括插足孔、金属隔栅、保温箱体、电加热器材、温控器、风机,其中保温箱体的上表面上开有插足孔,插足孔用来插入人的双足,保温箱体内的中间位置设有金属隔栅,金属隔栅上用来放置人的双足,金属隔栅与保温箱体的上下表面平行,金属隔栅的下方设有电加热器材,电加热器材的下方设有风机,金属隔栅上装有温控器,电加热器材和温控器通过电线相连。优点:1)电加热器材间串联连接,使温度可以控制的较低;2)使用方便,安全;3)可以保持足部干燥,预防脚气等疾病;4)亦可以对足部进行干燥的同时对人体全身腿足反射区炙疗保健。

Description

一种自动干足器
技术领域
本发明是一种自动干足器,属于卫生设备技术领域。
背景技术
人在洗澡、洗足之后,一般只用毛巾简单擦拭足部,足部由于需要接触地面或者穿在鞋子中,洗后足部往往无法完全保持干燥,容易滋生细菌、真菌,患脚气等疾病,影响足部健康。目前也尚未发现有可以自动干燥足部的器械。
发明内容
本发明提出的是一种自动干足器,其目的旨在解决上述因洗澡、洗足后无法使足部保持干燥的问题。
本发明的技术解决方案:其特征是包括插足孔、金属隔栅、保温箱体、电加热器材、温控器、风机,其中保温箱体的上表面上开有插足孔,插足孔用来插入人的双足,保温箱体内的中间位置设有金属隔栅,金属隔栅上用来放置人的双足,金属隔栅与保温箱体的上下表面平行,金属隔栅的下方设有电加热器材,电加热器材的下方设有风机,金属隔栅上装有温控器,电加热器材和温控器通过电线相连。
本发明的优点:1)电加热器材间串联连接,使温度可以控制的较低;2)使用方便,安全;3)可以保持足部干燥,预防脚气等疾病;4)亦可以对足部进行干燥的同时对人体全身腿足反射区炙疗保健。
附图说明
图1是自动干足器的结构示意图。
图2是自动干足器的原理图。
图中的1是插足孔,2是金属隔栅,3是保温箱体,4是电加热器材,5是电源线,6是带接地的插头,7是温控器,8是风机。
具体实施方式
对照图1,其结构包括插足孔1、金属隔栅2、保温箱体3、电加热器材4、温控器7、风机8,其中保温箱体3的上表面上开有插足孔1,插足孔1用来插入人的双足,保温箱体3内的中间位置设有金属隔栅2,金属隔栅2与保温箱体3的上下表面平行,金属隔栅2上用来放置人的双足,金属隔栅2的下方设有电加热器材4,电加热器材4的下方设有风机8,金属隔栅2上装有温控器7,电加热器材4和温控器7通过电线相连;
电源线5的一头通过开关分两路分别与电加热器材4和风机8相连,电源线5的另一头与带接地的插头6相连,接地线的一头与金属隔栅2相连,接地线的另一头与带接地的插头6相连;
风机8和电加热器材4并联连接,电加热器材4间串联连接,温控器7与电加热器材4串联连接。
工作原理:
对照图2,电源选用220V电源,风机和电加热器材并联,电加热器材间串联,温控器与电加热器材串联;
打开开关后,风机和电加热器材启动;当温控器感知温度达到48℃时,温控器形成断路,电加热器材停止工作,风机继续工作;关闭开关后,风机停止工作。
使用流程:
1)将人的双足通过插足孔1插入到保温箱体3中,平放在金属隔栅2上;
2)将插头6插入电源插座,打开开关,电流给电加热器材4和风机8供电,电加热器材4开始放热,形成箱体内热气,风机8将热气吹到金属隔栅2上的双足上,对双足进行干燥和炙疗保健;
3)当金属隔栅2的温度上升,达到48℃时,温控器7自动断开电加热器材4的供电,电加热器材4停止发热,风机8继续将冷风吹到金属隔栅2上的双足上,从而自动保护设备安全;
4)等双足完全干燥,或依照个人喜好关闭开关,风机8停止工作,以上完成整个干足流程。

Claims (3)

1.一种自动干足器,其结构包括插足孔、金属隔栅、保温箱体、电加热器材、温控器、风机,其中保温箱体的上表面上开有插足孔,插足孔用来插入人的双足,保温箱体内的中间位置设有金属隔栅,金属隔栅上用来放置人的双足,金属隔栅与保温箱体的上下表面平行,金属隔栅的下方设有电加热器材,电加热器材的下方设有风机,金属隔栅上装有温控器,电加热器材和温控器通过电线相连。
2.根据权利要求1所述的一种自动干足器,其特征是电源线的一头通过开关分两路分别与电加热器材和风机相连,电源线的另一头与带接地的插头相连,接地线的一头与金属隔栅相连,接地线的另一头与带接地的插头相连。
3.根据权利要求1所述的一种自动干足器,其特征是风机和电加热器材并联连接,电加热器材间串联连接,温控器与电加热器材串联连接。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20130116