CN102830288A - 用于校准瞬变电磁场场均匀性的支架 - Google Patents
用于校准瞬变电磁场场均匀性的支架 Download PDFInfo
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Abstract
本发明提供一种用于校准瞬变电磁场场均匀性的支架,该支架包括底座(1)、角度调节装置(2)和测试杆(3);底座(1)包括两个支撑臂(11)和固定盘(14),两个支撑臂(11)互成90度角且与固定盘(14)固接,每个支撑臂(11)靠近固定盘(14)的一端设有凸起(12),固定盘(14)的中心设有转轴(15);角度调节装置(2)安装在转轴(15)上且能够绕转轴(15)转动,角度调节装置(2)的一端与测试杆(3)的一端连接。当校准瞬变电磁场的场均匀性的系统中采用所述支架时,所述支架不仅能够用于支撑和固定探头,而且能够用于调节探头的位置和角度;所述支架能够满足对电磁脉冲均匀区多角度、多位置和多平面的测试需求;所述支架对探头的位置和角度的调节精度高;所述支架制作成本低,使用方便。
Description
技术领域
本发明涉及一种支撑装置,特别涉及一种用于校准瞬变电磁场场均匀性的支架。
背景技术
用于校准瞬变电磁场的场均匀性的系统通常需要测试多个位置。校准瞬变电磁场的场均匀性时,不但需要支架支撑和固定测试探头,而且需要通过支架调节测试探头的位置和角度。具体地,校准瞬变电磁场的场均匀性时,通常需要通过调节支架来改变固定有探头的测试杆的角度和长度,甚至需要通过调节支架实现测试杆绕固定轴的转动。现有技术中的支架都不能直接实现上述功能,因此在用于校准瞬变电磁场的场均匀性时非常不便。
目前,非常需要一种能够用于校准瞬变电磁场的场均匀性的支架。
发明内容
本发明的目的是提供一种用于校准瞬变电磁场场均匀性的支架。
本发明提供的用于校准瞬变电磁场场均匀性的支架包括底座、角度调节装置和测试杆;
所述底座包括两个支撑臂和固定盘,所述两个支撑臂互成90度角且与所述固定盘固接,每个所述支撑臂靠近所述固定盘的一端设有凸起,所述固定盘的中心设有转轴;
所述角度调节装置安装在所述转轴上且能够绕所述转轴转动,所述角度调节装置的一端与所述测试杆连接。
优选地,所述角度调节装置包括圆拱形内衬和圆拱形外衬;所述内衬的中心设有与所述转轴配合的轴承,所述内衬通过所述轴承安装在所述转轴上,且所述内衬所在的平面与所述固定盘所在的平面互相垂直,所述内衬能够绕所述转轴转动,所述内衬设有圆拱形的凹槽,所述凹槽内设有圆拱形的滑动条且所述滑动条能够沿所述凹槽滑动,所述滑动条上设有多个定位孔;所述外衬上设有多个与所述定位孔配套的连接孔,所述外衬通过所述定位孔和所述连接孔与所述内衬固接,所述外衬的一端与所述测试杆的一端固接。
优选地,所述底座进一步包括设置于所述两个支撑臂的夹角内的连接架。
优选地,所述底座进一步包括设置于所述连接架上且位于所述角度调节装置与所述测试杆连接处的下方的定位装置。
优选地,所述定位装置能够通过调节所述角度调节装置与所述测试杆连接处的高度来调节所述测试杆与所述固定盘所在平面之间的夹角。
优选地,所述角度调节装置能够调节所述测试杆与所述固定盘所在平面之间的夹角在35.26°-45°范围内变化。
优选地,所述测试杆的中间和自由端分别设有探头固定装置。
优选地,所述测试杆上设有长度调节装置。
优选地,所述支撑臂的长度可调。
本发明具有如下有益效果:
(1)当校准瞬变电磁场的场均匀性的系统中采用所述支架时,所述支架不仅能够用于支撑和固定探头,而且能够用于调节探头的位置和角度;
(2)所述支架能够满足对电磁脉冲均匀区多角度、多位置和多平面的测试需求;
(3)所述支架对探头的位置和角度的调节精度高;
(4)所述支架制作成本低,使用方便。
附图说明
图1为本发明实施例提供的用于校准瞬变电磁场场均匀性的支架的结构示意图;
图2为本发明实施例提供的用于校准瞬变电磁场场均匀性的支架的底座的俯视图;
图3为本发明实施例提供的用于校准瞬变电磁场场均匀性的支架的底座的侧视图;
图4为本发明实施例提供的用于校准瞬变电磁场场均匀性的支架的角度调节装置的内衬的示意图;
图5为本发明实施例提供的用于校准瞬变电磁场场均匀性的支架的角度调节装置的外衬的示意图;
图6为本发明实施例提供的用于校准瞬变电磁场场均匀性的支架的角度调节装置的外衬与测试杆的连接示意图。
具体实施方式
下面结合附图及实施例对本发明的发明内容作进一步的描述。
本实施例提供的用于校准瞬变电磁场场均匀性的支架包括底座1、角度调节装置2和测试杆3,如图1所示。
如图2和图3所示,底座1包括两个支撑臂11、定位装置13、固定盘14、转轴15和连接架16。两个支撑臂11互成90度角且与固定盘14固接。在本实施例中,两个支撑臂11的长度可调。两个支撑臂11的夹角内设有连接架16。连接架16上设有定位装置13。每个支撑臂11靠近固定盘14的一端设有凸起12。固定盘14的中心设有转轴15。角度调节装置2安装在转轴15上且能够绕转轴15转动。角度调节装置2的一端与测试杆3的一端连接,如图6所示。当角度调节装置2带动测试杆3绕转轴15转动时,凸起12对测试杆3起定位作用。定位装置13设置于角度调节装置2与测试杆3连接处的下方。定位装置13能够通过调节角度调节装置2与测试杆3连接处的高度来调节测试杆3与固定盘14所在平面之间的夹角。测试杆3的例如中间和自由端分别设有探头固定装置32,用于安装探头。
在本实施例中,角度调节装置2包括例如圆拱形内衬21和圆拱形外衬22,且圆拱形外衬22与圆拱形内衬21配合。如图4所示,内衬21的中心设有与转轴15配合的轴承214,内衬21通过轴承214安装在转轴15上,内衬21所在的平面与固定盘14所在的平面互相垂直,且内衬21能够绕转轴15转动。内衬21设有圆拱形的凹槽211。凹槽211内设有圆拱形的滑动条212,且滑动条212能够沿凹槽211滑动。滑动条212上设有多个定位孔213。如图5所示,外衬22上设有多个与定位孔213配合的连接孔221。外衬22通过定位孔213和连接孔221与内衬21固接。在本实施例中,外衬22的一端与测试杆3的一端例如固接。
角度调节装置2能够调节测试杆3与固定盘14所在平面之间的夹角在例如35.26°-45°范围内变化。在本实施中,测试杆3上设有长度调节装置31。通过长度调节装置31能够调节测试杆3的长度。
当校准瞬变电磁场的场均匀性的系统中采用所述支架时,所述支架不仅能够用于支撑和固定探头,而且能够用于调节探头的位置和角度。所述支架能够满足对电磁脉冲均匀区多角度、多位置和多平面的测试需求。所述支架对探头的位置和角度的调节精度高。所述支架制作成本低,使用方便。
应当理解,以上借助优选实施例对本发明的技术方案进行的详细说明是示意性的而非限制性的。本领域的普通技术人员在阅读本发明说明书的基础上可以对各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。
Claims (9)
1.用于校准瞬变电磁场场均匀性的支架,其特征在于,该支架包括底座(1)、角度调节装置(2)和测试杆(3);
所述底座(1)包括两个支撑臂(11)和固定盘(14),所述两个支撑臂(11)互成90度角且与所述固定盘(14)固接,每个所述支撑臂(11)靠近所述固定盘(14)的一端设有凸起(12),所述固定盘(14)的中心设有转轴(15);
所述角度调节装置(2)安装在所述转轴(15)上且能够绕所述转轴(15)转动,所述角度调节装置(2)的一端与所述测试杆(3)的一端连接。
2.根据权利要求1所述的用于校准瞬变电磁场场均匀性的支架,其特征在于,所述角度调节装置(2)包括圆拱形内衬(21)和圆拱形外衬(22);所述内衬(21)的中心设有与所述转轴(15)配合的轴承(214),所述内衬(21)通过所述轴承(214)安装在所述转轴(15)上,且所述内衬(21)所在的平面与所述固定盘(14)所在的平面互相垂直,所述内衬(21)能够绕所述转轴(15)转动,所述内衬(21)设有圆拱形的凹槽(211),所述凹槽(211)内设有圆拱形的滑动条(212)且所述滑动条(212)能够沿所述凹槽(211)滑动,所述滑动条(212)上设有多个定位孔(213);所述外衬(22)上设有多个与所述定位孔(213)配套的连接孔(221),所述外衬(22)通过所述定位孔(213)和所述连接孔(221)与所述内衬(21)固接,所述外衬(22)的一端与所述测试杆(3)的一端固接。
3.根据权利要求1所述的用于校准瞬变电磁场场均匀性的支架,其特征在于,所述底座(1)进一步包括设置于所述两个支撑臂(11)的夹角内的连接架(16)。
4.根据权利要求3所述的用于校准瞬变电磁场场均匀性的支架,其特征在于,所述底座(1)进一步包括设置于所述连接架(16)上且位于所述角度调节装置(2)与所述测试杆(3)连接处的下方的定位装置(13)。
5.根据权利要求4所述的用于校准瞬变电磁场场均匀性的支架,其特征在于,所述定位装置(13)能够通过调节所述角度调节装置(2)与所述测试杆(3)连接处的高度来调节所述测试杆(3)与所述固定盘(14)所在平面之间的夹角。
6.根据权利要求1所述的用于校准瞬变电磁场场均匀性的支架,其特征在于,所述角度调节装置(2)能够调节所述测试杆(3)与所述固定盘(14)所在平面之间的夹角在35.26°-45°范围内变化。
7.根据权利要求1所述的用于校准瞬变电磁场场均匀性的支架,其特征在于,所述测试杆(3)的中间和自由端分别设有探头固定装置(32)。
8.根据权利要求1所述的用于校准瞬变电磁场场均匀性的支架,其特征在于,所述测试杆(3)上设有长度调节装置(31)。
9.根据权利要求1所述的用于校准瞬变电磁场场均匀性的支架,其特征在于,所述支撑臂(11)的长度可调。
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