CN102671495A - 一种用于大型公共场所的空气清洁装置 - Google Patents

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吴敬忠
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Abstract

本发明公开了一种用于大型公共场所的空气清洁装置，所述空气处理清洁装置为长方体，所述空气处理清洁装置的右部上层为布水层，右部中层为过滤层，右部下层为加湿层，左部设置水泵连接加湿层与布水层的布水管，布水管上开有向下的布水孔，所述过滤层的右部侧边为进气面，过滤层中填充有螺旋叠错式过滤材料，出气口设置于空气处理系统的左侧面。本发明的用于大型公共场所的空气清洁装置，合理的处理空间的运用，新型的过滤材料，对大容积场所的空气清洁杀菌效果很好。

Description

一种用于大型公共场所的空气清洁装置
技术领域
本发明属于空气清洁领域，具体涉及一种用于大型公共场所的空气清洁装置。
背景技术
大型公共场所人流量大，空气清洁指数普遍偏低，随着人们对生活质量要求的日益增高，发明一种结构合理、空气清洁有效的清洁技术，是现有技术中丞待解决的问题。
发明内容
为克服现有技术中的不足，本发明的目的在于提出一种用于大型公共场所的空气清洁装置，解决了现有技术中大型公共场所的空气清洁装置不完善的问题。
本发明的一种用于大型公共场所的空气清洁装置，所述空气处理清洁装置为长方体，所述空气处理清洁装置的右部上层为布水层，右部中层为过滤层，右部下层为加湿层，左部设置水泵连接加湿层与布水层的布水管，布水管上开有向下的布水孔，所述过滤层的右部侧边为进气面，过滤层中填充有过滤材料，出气口设置于空气处理系统的左侧面。
优选的，所述过滤材料为螺旋叠错式过滤材料，是有长条型的薄皮材料沿着线绕组方向缠绕成的螺旋叠错式，材质是PVC，比重为0.074～0.189。
优选的，所述加湿层中放置有含杀菌剂的加湿液。
有益效果：本发明的一种用于大型公共场所的空气清洁装置，合理的处理，空间的运用，新型的过滤材料，对大容积场所的空气清洁杀菌效果很好。
附图说明
图1为本发明的一种用于大型公共场所的空气清洁装置的结构示意图。
图中标号说明：1.布水层、2.过滤层、3.加湿层、4.螺旋叠错式过滤材料，5.布水管，6.水泵，7.出水口。
具体实施方式
实施例1
结合图1所示，本发明的一种用于大型公共场所的空气清洁装置，所述空气处理清洁装置为长方体，所述空气处理清洁装置的右部上层为布水层，右部中层为过滤层，右部下层为加湿层，左部设置水泵连接加湿层与布水层的布水管，布水管上开有向下的布水孔，所述过滤层的右部侧边为进气面，过滤层中填充有过滤材料，出气口设置于空气处理系统的左侧面。
优选的，所述过滤材料为螺旋叠错式过滤材料，是有长条型的薄皮材料沿着线绕组方向缠绕成的螺旋叠错式，材质是PVC，比重为0.074～0.189。
优选的，所述加湿层中的加湿液添加有杀菌剂。
工作原理：空气从中部过滤层2的右侧面进入，经过滤材料4的处理，进入下部加湿层3，清洁后的空气通过出气口7出去。加湿层中的加湿液中添加有食品添加剂类的杀菌剂，可使滤材保持40％以上的湿度，加湿液经水泵6加压，传送到上部布水层1的布水管5，对过滤材料4进行定时加湿。
上述实施例只是为了说明本发明的技术构思及特点，其目的是在于让本领域内的普通技术人员能够了解本发明的内容并据以实施，并不能以此限制本发明的保护范围。凡是根据本发明内容的实质所作出的等效的变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围内。

Claims (6)

1.一种用于大型公共场所的空气清洁装置，其特征在于，所述空气处理清洁装置为长方体，所述空气处理清洁装置的右部上层为布水层(1)，右部中层为过滤层(2)，右部下层为加湿层(3)，左部设置水泵(6)连接加湿层(3)与布水层(1)的布水管(5)，布水管(5)上开有向下的布水孔，所述过滤层的右部侧边为进气面，过滤层中填充有过滤材料(4)，出气口(7)设置于空气处理系统的左侧面。
2.根据权利要求1所述的用于大型公共场所的空气清洁装置，其特征在于，所述过滤材料(4)为螺旋叠错式过滤材料。
3.根据权利要求1所述的用于大型公共场所的空气清洁装置，其特征在于，所述螺旋叠错式过滤材料为长条型的薄皮材料沿着线绕组方向缠绕成的螺旋叠错式。
4.根据权利要求3所述的用于大型公共场所的空气清洁装置，其特征在于，所述螺旋叠错式过滤材料的材质是PVC。
5.根据权利要求4所述的用于大型公共场所的空气清洁装置，其特征在于，所述螺旋叠错式过滤材料的比重为0.074～0.189。
6.根据权利要求1所述的用于大型公共场所的空气清洁装置，其特征在于，所述加湿层(2)中放置有含杀菌剂的加湿液。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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