CN102646527A - 具有磁吹灭弧装置的辅助开关 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种具有磁吹灭弧装置的辅助开关，包括动触片、静触片、绝缘支架、转轴、轴承和端部压板，相邻的所述的静触片之间设置有绝缘支架，通过操作转轴实现所述的动触片、静触片的接触或分离，特点是至少一个所述的绝缘支架设置有空腔，空腔内安装有用于吸引所述的动触片与静触片刚分离或将接触的瞬间产生的电弧的磁铁。本发明不仅能用于接通分断交流电路，而且能可靠分断直流高感性负载电路。
Description
技术领域
本发明涉及一种具有磁吹灭弧装置的辅助开关。
背景技术
目前，公知的辅助开关构造是由动触片、静触片、绝缘支架、转轴、轴承和端部压板组成，通过操作转轴实现开关的通断，广泛用于高压开关设备的操作机构合闸、分闸、连锁和信号控制之用。但是，随着操作机构储能的增加，辅助开关分断直流电感负载的电流越来越大。一般的辅助开关不能可靠分断额定3A直流感性负载电流，给高压开关设备的可靠性带来风险。
发明内容
为了克服现有辅助开关分断直流电感负载能力的不足，本发明提供一种不仅能用于接通分断交流电路，而且能可靠分断直流高感性负载电路的具有磁吹灭弧装置的辅助开关。
本发明采用的技术方案是：
具有磁吹灭弧装置的辅助开关，包括动触片、静触片、绝缘支架、转轴、轴承和端部压板，相邻的所述的静触片之间设置有绝缘支架，通过操作转轴实现所述的动触片、静触片的接触或分离，其特征在于：至少一个所述的绝缘支架设置有空腔，空腔内安装有用于吸引所述的动触片与静触片刚分离或将接触的瞬间产生的电弧的磁铁。
本发明所述的静触片伸出绝缘支架的部分为接线端子，可直接与 插套式端子相连接。当开关动作时，动触片与静触片刚分离或将接触的瞬间产生电弧，此电弧所产生的磁场受磁铁的作用产生弯曲并被拉长而迅速熄灭，从而减少燃弧时间，保护了触头并控制燃弧方向，提高了开关分断直流电路的能力。
本发明的有益效果体现在：结构简单，分断直流感性负载电流达到3A以上。
附图说明
图1是本发明辅助开关的结构示意图。
图2是本发明辅助开关的剖面图。
具体实施方式
参照图1和图2，具有磁吹灭弧装置的辅助开关，包括动触片7、静触片6、绝缘支架3、转轴1、轴承和端部压板2，相邻的所述的静触片6之间设置有绝缘支架3，通过操作转轴1实现所述的动触片7、静触片6的接触或分离，特点是至少一个所述的绝缘支架3设置有空腔5，空腔5内安装有用于吸引所述的动触片7与静触片6刚分离或将接触的瞬间产生的电弧的磁铁4。
本发明所述的静触片6伸出绝缘支架3的部分为接线端子，可直接与插套式端子相连接。当开关动作时，动触片7与静触片6刚分离或将接触的瞬间产生电弧，此电弧所产生的磁场受磁铁的作用产生弯曲并被拉长而迅速熄灭，从而减少燃弧时间，保护了触头并控制燃弧方向，提高了开关分断直流电路的能力。
本说明书实施例所述的内容仅仅是对发明构思的实现形式的列 举，本发明的保护范围的不应当被视为仅限于实施例所陈述的具体形式，本发明的保护范围也及于本领域技术人员根据本发明构思所能够想到的等同技术手段。
Claims (1)
1.具有磁吹灭弧装置的辅助开关，包括动触片、静触片、绝缘支架、转轴、轴承和端部压板，相邻的所述的静触片之间设置有绝缘支架，通过操作转轴实现所述的动触片、静触片的接触或分离，其特征在于：至少一个所述的绝缘支架设置有空腔，空腔内安装有用于吸引所述的动触片与静触片刚分离或将接触的瞬间产生的电弧的磁铁。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN2012100976999A CN102646527A (zh) | 2012-04-05 | 2012-04-05 | 具有磁吹灭弧装置的辅助开关 |
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Publications (1)
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| CN102646527A true CN102646527A (zh) | 2012-08-22 |
Family
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Family Applications (1)
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Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN102646527A (zh) |
Citations (5)
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2012
- 2012-04-05 CN CN2012100976999A patent/CN102646527A/zh active Pending
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Legal Events
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| PB01 | Publication | ||
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| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20120822 |